1.一种用于测试硅片臭氧氧化层亲水性的组合装置，其特征在于，所述的组合装置包括：
载片装置，所述的载片装置包括支撑硅片的支撑面及稳固硅片的抵挡条，所述的支撑面的底边与所述的抵挡条相平行，使硅片以30度的角度斜靠于所述的支撑面的顶边与所述的抵挡条之间，
取水装置，所述的取水装置为20μL的移液枪。
2.根据权利要求1所述的用于测试硅片臭氧氧化层亲水性的组合装置，其特征在于，所述的组合装置还包括用以记录测试过程的摄像设备。
3.根据权利要求1所述的用于测试硅片臭氧氧化层亲水性的组合装置，其特征在于，所述的载片装置还包括连接支撑面的底边与抵挡条的连接面，所述的抵挡条设置于所述的连接面上。
4.根据权利要求1所述的用于测试硅片臭氧氧化层亲水性的组合装置，其特征在于，所述的载片装置具有可放置若干个硅片同时进行测试的长度。
5.根据权利要求1所述的用于测试硅片臭氧氧化层亲水性的组合装置，其特征在于，斜靠于所述的载片装置上的硅片的上边沿滴有用所述的20μL的移液枪形成的水滴。