一种主动开关阵列基板及其制造方法、显示面板与流程

本发明属于显示屏技术领域，尤其涉及一种主动开关阵列基板及其制造方法、显示面板。

背景技术：

越来越多的显示面板生产厂家使用在薄膜晶体管(thin-filmtransistor，简称tft)的阵列上制作彩色滤光膜(colorfilteronarray，简称coa)的工艺及白、红、绿以及蓝四色(white,red,green,blue,简称wrgb)技术。其中，coa工艺可提升显示面板曲面画质或藉此简化上板的结构(例如:简化平面转换(in-planeswitching，简称ips)液晶模式上板的平坦化层(overcoat，简称oc)结构)；而wrgb技术可以提升面板穿透率、降低面板的能耗并节省背光成本。

传统coa结构搭配wrgb技术的显示面板的阵列制程(array)工艺流程如下：传统coa结构搭配wrgb技术在栅极与源极制程完成之后，先进行第一个绝缘层的成型工序；而后再完成彩色光阻层(包括红色光阻、绿色光阻以及蓝色光阻)的涂布、曝光与显影步骤，透明光阻层的涂布、曝光与显影步骤。彩色光阻层及透明光阻层的结构完成之后再进行第二个绝缘层的成型工序，然后涂布光刻胶层(也叫光阻)，并利用带有通孔的掩膜板进行曝光操作，之后再显影与蚀刻以除去对应于通孔处的位于阵列上方的绝缘层以及绝缘层，后续再除去光刻胶层以接续后面的像素电极制程(pixelelectrode，简称pe)。

薄膜晶体管显示面板产业由于工艺复杂且设备投资巨大，所以生产的成本很高，随着市场的激烈竞争，降低屏的生产成本已是平板显示行业必然的发展方向，且大部分旧式的薄膜晶体管显示面板产线仅适合红、绿及蓝三原色技术的生产工艺，并无透明光阻相关的生产设备及厂房空间。因此，需要研发一种新的显示器生产技术，以进一步降低生产成本，提高生产效率。

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题在于提供一种主动开关阵列基板及其制造方法、显示面板，旨在进一步降低显示面板的生产成本，提高生产效率。

本发明是这样实现的，一种主动开关阵列基板的制造方法，所述制造方法包括以下步骤：

在一基板上形成主动开关的栅极、绝缘层、主动层以及欧姆接触层；

于所述欧姆接触层以及所述绝缘层上形成所述主动开关的源极与漏极；

于所述源极、漏极以及所述绝缘层上沉积一保护层；

于所述保护层上沉积一彩色滤光层并进行曝光及显影；

于所述彩色滤光层及保护层上沉积一层可被可见光穿透过的光刻胶层；

于所述光刻胶层上直接沉积一透明导电层，并蚀刻所述透明导电层，以形成像素电极层。

进一步地，所述在一形成主动开关的栅极的具体步骤包括：

基板清洗，去除异物；

成膜工艺，在干净的基板表面，通过溅射沉积形成金属薄膜；

上光阻，在已形成的金属薄膜上面均匀涂覆一层光刻胶；

曝光，紫外线透过掩模板照射光刻胶，进行曝光；

显影，光刻胶曝光部分被显影液溶解，留下部分图案呈现所需形状；

蚀刻，把基板放入对应腐蚀液或腐蚀气体中，腐蚀掉无光刻胶覆盖的薄膜；

去光阻，去除残余的光刻胶，留下所需形状的金属薄膜，以形成扫描线、主动开关的栅极以及共通电极。

进一步地，所述于所述欧姆接触层以及所述绝缘层上形成所述主动开关的源极与漏极的步骤具体包括：

成膜工艺，在所述欧姆接触层以及所述绝缘层上，通过溅射沉积形成金属薄膜；

上光阻，在已形成的金属薄膜上面均匀涂覆一层光刻胶；

曝光，紫外线透过掩模板照射光刻胶，进行曝光；

显影，光刻胶曝光部分被显影液溶解，留下部分图案呈现所需形状；

蚀刻，把基板放入对应腐蚀液或腐蚀气体中，腐蚀掉无光刻胶覆盖的薄膜；

去光阻，去除残余的光刻胶，留下所需形状的金属薄膜，以形成数据线、并于欧姆接触层上定义出主动开关的源极及漏极。

进一步地，所述于所述保护层上沉积一彩色滤光层并进行曝光及显影的步骤具体包括：

在所述绝缘层上涂覆一层感光的第一有机感光层，掩模曝光、显影，形成与像素对应的第一滤光层；

在所述绝缘层上涂覆一层感光的第二有机感光层，掩模曝光、显影，形成与像素对应的第二滤光层；

在所述绝缘层上涂覆一层感光的第三有机感光层，掩模曝光、显影，形成与像素对应的第三滤光层。

进一步地，沉积的所述光刻胶具有流平性。

本发明为解决上述技术问题，还提供了一种主动开关阵列基板，包含：

基板；

包含主动开关的栅极，位于所述基板上；

绝缘层，位于所述基板及所述栅极上；

主动层，位于所述绝缘层上，用来作为所述主动开关的通道；

欧姆接触层，位于所述主动层上；

主动开关的源极与漏极，位于所述欧姆接触层及所述绝缘层上；

保护层，位于所述源极、漏极及绝缘层上；

彩色滤光层，位于所述保护层上，包含多个滤光单元；

光刻胶层，位于所述彩色滤光层及保护层上；其中，所述光刻胶层使用可被可见光穿透过的光刻胶沉积而成；

像素电极层，直接沉积于所述光刻胶层上。

本发明为解决上述技术问题，还提供了一种显示面板，包括：

背光模组，用以提供照明光源；

第一基板，所述第一基板包括：第一玻璃基板；包含主动开关的栅极，位于所述第一玻璃基板一侧上；绝缘层，位于所述第一玻璃基板及所述栅极上；主动层，位于所述绝缘层上；欧姆接触层，位于所述主动层上；主动开关的源极与漏极，位于所述欧姆接触层及所述绝缘层上；保护层，位于所述源极、漏极及所述绝缘层上；彩色滤光层，位于所述保护层上；光刻胶层，位于所述彩色滤光层及保护层上，所述光刻胶层使用可被可见光穿透过的光刻胶沉积而成；像素电极层，直接位于所述光刻胶层上；及位于所述光刻胶层上的第一配向膜；所述第一玻璃基板的另一侧还设有第一偏光板；

第二基板，与所述第一基板相扣合；

液晶层，填充于第一基板与第二基板之间。

进一步地，所述第二基板内侧设有黑色矩阵层及设在所述黑色矩阵层上的第二配向膜，所述第二基板的外侧还设有第二偏光板。

本发明的主动开关阵列基板，其制造过程中，无需进行透明光阻的涂布、曝光以及显影制程，也无需进行第二个绝缘层的成膜操作；后续也不需要除去光刻胶层，而是将光刻胶层留在面板上，并接续后面的像素电极制程。可见，生产本发明的阵列基板以及具有该阵列基板的显示面板，可节省生产透明光阻的设备投资费用与后续的掩膜板费用，并可在较小幅度改变红、绿及蓝三原色生产线的情况下生产白、红、绿及蓝四色技术面板，同时也可缩短了生产时间，降低生产成本，提高了生产线的效率与产能。

附图说明

一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明，这些示例性说明并不构成对实施例的限定，附图中具有相同参考数字标号的元件表示为类似的元件，除非有特别申明，附图中的图不构成比例限制。

图1是是本发明实施例提供的一种主动开关阵列基板的工艺流程步骤示意图。

图2是本发明实施例提供的一种主动开关阵列基板的制作流程图。

图3本发明实施例提供的一种主动开关阵列基板的纵向截面图。

具体实施方式

为了使本发明所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

如图1及图2所示，为本发明的一实施例，提供了一种主动开关阵列基板的制造方法，包括以下步骤：

步骤s100，在一基板100上形成一第一金属层，蚀刻所述第一金属层，以形成主动开关的栅极1；

步骤s200，沉积一绝缘层2于所述基板100及所述栅极1上；

步骤s300，于所述绝缘层2上，沉积一主动层3以及欧姆接触层4；

步骤s400，于所述欧姆接触层4以及所述绝缘层2上沉积一第二金属层，并蚀刻所述第二金属层以形成所述主动开关的源极与漏极5；

步骤s500，于所述源极、漏极5以及绝缘层2上沉积一保护层6；

步骤s600，于所述保护层6上沉积一彩色滤光层c并进行曝光及显影；

步骤s700，于所述彩色滤光层c及保护层上沉积一层可被可见光穿透过的(即是，透明或较为透明的)光刻胶层w’；

步骤s800，于所述光刻胶层w’上直接沉积一透明导电层，并蚀刻所述透明导电层，以形成像素电极层。

可选地，在所述步骤s100中，在一基板100上形成一金属层，蚀刻所述第一金属层，以形成主动开关的栅极1的具体步骤包括：

基板100清洗，去除异物；

成膜工艺，在干净的基板100表面，通过溅射沉积形成金属薄膜；

上光阻，在已形成的金属薄膜上面均匀涂覆一层光刻胶；

曝光，紫外线透过掩模板照射基板100上的光刻胶，进行曝光；

显影，光刻胶曝光部分被显影液溶解，留下部分图案呈现所需形状；

蚀刻，把基板放入对应腐蚀液或腐蚀气体中，腐蚀掉无光刻胶覆盖的薄膜；

去光阻，去除残余的光刻胶，留下所需形状的金属薄膜，以形成扫描线sl、包含主动开关的栅极1以及共通电极cl。

进一步地，在步骤s400中，于所述欧姆接触层4以及所述绝缘层上沉积一第二金属层，并蚀刻所述第二金属层以形成所述主动开关的源极与漏极5的步骤具体包括：

成膜工艺，在所述欧姆接触层4以及所述绝缘层2上，通过溅射沉积形成金属薄膜；

上光阻，在已形成的金属薄膜上面均匀涂覆一层光刻胶；

曝光，紫外线透过掩模板照射光刻胶，进行曝光；

显影，光刻胶曝光部分被显影液溶解，留下部分图案呈现所需形状；

蚀刻，把基板放入对应腐蚀液或腐蚀气体中，腐蚀掉无光刻胶覆盖的薄膜；

去光阻，去除残余的光刻胶，留下所需形状的金属薄膜，以形成数据线dl、并于欧姆接触层上定义出主动开关的源极及漏极5。

更进一步地，在所述步骤s600中，所述于所述保护层6上沉积一彩色滤光层并进行曝光及显影的步骤具体包括：

在所述保护层6上涂覆一层感光的红色有机感光层，掩模曝光、显影，形成与像素对应的红色滤光层；

在所述保护层6上涂覆一层感光的绿色有机感光层，掩模曝光、显影，形成与像素对应的绿色滤光层；

在所述保护层6上涂覆一层感光的蓝色有机感光层，掩模曝光、显影，形成与像素对应的蓝色滤光层。

经过上述三个步骤(顺序不限)，可以形成本发明实施例中所述的彩色滤光层c。

在所述步骤s700中，为了保证光刻胶层w＇厚度均匀，表面平滑，可以采用具有良好流平性的光刻胶。

本实施中上述彩色滤光层c包括处于同一水平高度的红色滤光层、绿色滤光层以及蓝色滤光层。而光刻胶层w＇由穿透度较高、较为透明的光刻胶制成，所以其具有透明光阻所具备的特征。

在所述步骤s700之后，利用具有通孔的掩膜板对光刻胶层w＇曝光，再进行显影与蚀刻操作，进而除去掩膜板的通孔位置所对应的绝缘层2及保护层6形成开口，进而，开口处对应的金属层可以显露在外面，形成阵列。

通过本发明的上述实施例，可以得知在本发明提供的主动开关阵列基板的制造过程中，不需要除去光刻胶层而将光刻胶留在基板上并接续后面的像素电极制程。同时与现有的coa结构搭配wrgb技术之array工艺流程相比：本实施例可省去原本工艺中一系列之透明光阻(white)之涂布、曝光与显影制程，有效节省了设备投资费用与后续的掩膜板费用，并在不大幅改动rgb三原色生产线的条件下可以生产出wrgb面板，同时也可缩短了生产节拍时间，降低生产成本，提高生产线的效率与产能。

如图2所示，本发明的实施例还提供一种主动开关阵列基板，包含：

基板100；

包含主动开关的栅极1，位于所述基板100上；

绝缘层2，位于所述基板100及所述栅极1上；

主动层3，位于所述绝缘层2上，用来作为所述主动开关的通道；

欧姆接触层4，位于所述主动层3上；

主动开关的源极与漏极5，位于所述欧姆接触层4及所述绝缘层2上；

保护层6，位于所述源极、漏极5及绝缘层2上；

彩色滤光层c，位于所述保护层6上，包含多个滤光单元；

光刻胶层w’，位于所述彩色滤光层c及保护层6上；其中，所述光刻胶层w’使用可见光波段穿透度高的光刻胶沉积而成；

像素电极层，直接沉积于所述光刻胶层上w’。

本发明实施例中，所述光刻胶层w’中的光刻胶的流平性较好。

进一步地，本发明的主动开关阵列基板中，所述光刻胶层w’上还沉积有一透明导电层，从而形成像素电极。

本发明的实施例还提供了一种显示面板包括：

背光模组，用以提供照明光源；

第一基板，所述第一基板包括：第一玻璃基板；包含主动开关的栅极1，位于所述第一玻璃基板一侧上；绝缘层，位于所述第一玻璃基板及所述栅极上；主动层，位于所述绝缘层上；欧姆接触层，位于所述主动层上；主动开关的源极与漏极，位于所述欧姆接触层及所述绝缘层上；保护层，位于所述源极、漏极及绝缘层上；彩色滤光层，位于所述保护层上；光刻胶层，位于所述彩色滤光层及保护层上，所述光刻胶层使用可见光波段穿透度高的光刻胶沉积而成；像素电极层，位于所述光刻胶层上；及位于所述光刻胶层上的第一配向膜；所述第一玻璃基板的另一侧还设有第一偏光板；

第二基板，与所述第一基板相扣合；

液晶层，填充于第一基板与第二基板之间。

进一步地，所述第二基板内侧设有黑色矩阵层及设在所述黑色矩阵层上的第二配向膜，所述第二基板的外侧还设有第二偏光板。

通过与现有的显示面板的制造方法相比较，本实施例的显示面板，其制造过程中，无需进行透明光阻的涂布、曝光以及显影制程，也无需进行第二层绝缘层的成膜操作；后续也不需要除去光刻胶层w＇，而是将光刻胶层w＇留在面板上，并接续后面的像素电极制程。虽然，本实施例的显示面板没有除去光刻胶层w＇会增加彩色光阻层c上方的厚度，但是通过光刻胶层w＇可以进一步降低信号线的负载。

可见本实施例的显示面板，可节省了生产透明光阻的设备投资费用与后续的掩膜板费用，并可在较小幅度改变红、绿及蓝三原色生产线的情况下生产白、红、绿及蓝四色技术面板，同时也可缩短了生产时间，降低生产成本，提高了生产线的效率与产能。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。