1.一种蚀刻设备,其特征在于,包括蚀刻腔体、电极板、第一支撑装置和设置在所述第一支撑装置之间的第二支撑装置,所述电极板、所述第一支撑装置和所述第二支撑装置位于所述蚀刻腔体内,所述第一支撑装置被配置成通过将工件部分地放置在所述第一支撑装置上以使所述工件与所述电极板间隔设置,所述第二支撑装置被配置成支撑所述工件相对于所述电极板上升或下降。
2.如权利要求1所述的蚀刻设备,其特征在于,所述第一支撑装置包括间隔设置的至少两个支撑臂,所述支撑臂形成有台阶结构,所述台阶结构形成有支撑槽,两个所述支撑臂的所述支撑槽相对设置,所述台阶结构被配置为通过将所述工件部分的放置在所述支撑槽中以使所述工件与所述电极板间隔设置。
3.如权利要求2所述的蚀刻设备,其特征在于,所述第二支撑装置包括间隔设置的多个支撑柱,所述支撑柱贯穿所述电极板并被配置成支撑所述工件上升或下降。
4.如权利要求2所述的蚀刻设备,其特征在于,所述支撑臂包括设置在所述台阶结构上的减震件。
5.如权利要求4所述的蚀刻设备,其特征在于,所述第一支撑装置形成有贯穿所述支撑臂并连通所述支撑槽的通气孔。
6.如权利要求5所述的蚀刻设备,其特征在于,所述减震件和所述通气孔间隔设置。
7.如权利要求1所述的蚀刻设备,其特征在于,所述蚀刻设备包括等离子体发生器,所述等离子体发生器被配置成形成等离子体以使所述等离子体蚀刻所述工件的表面。
8.如权利要求1所述的蚀刻设备,其特征在于,所述蚀刻设备包括吹气装置,所述吹气装置被配置成将冷却气体吹向所述工件。
9.如权利要求1所述的蚀刻设备,其特征在于,所述蚀刻设备包括连接所述第一支撑装置的驱动装置,所述驱动装置被配置成驱动所述第一支撑装置相对于所述电极板上升或下降。
10.如权利要求2所述的蚀刻设备,其特征在于,所述第一支撑装置包括4个所述支撑臂,4个所述支撑臂的平面分布呈菱形。