本发明涉及显示技术领域，尤其涉及显示面板以及显示面板的制作方法。
背景技术：
显示器中面板通常采用薄膜晶体管(thinfilmtransistor，tft)等半导体器件来作为像素单元是否接收图像数据的开关元件。众所周知，薄膜晶体管需要通过半导体材料作为导电沟道，而显示面板中均有光线的传送。然而，半导体材料在接收到光照时较为容易产生光电效应，当导电沟道内的半导体材料产生光电效应时将会对薄膜晶体管的开关特性产生影响。因此，显示面板中对应薄膜晶体管导电沟道的位置会设置有遮光材料，但是，遮光材料的设置将会使得显示面板中传导的光线进行多次反射从而导致光线的利用率降低。
技术实现要素：
为解决前述问题，本发明提供一种光线利用率较高的显示面板。
进一步，提供一种前述显示面板的制作方法。
一种显示面板，包括基底与多个阵列排布设置于所述基底的薄膜晶体管。每一个薄膜晶体管与基底之间设置光阻层与遮光层，所述光阻层与所述遮光层对应所述薄膜晶体管的导电沟道，且所述光阻层较所述遮光层邻近所述基底，所述遮光层用于反射自基底传输的光线以防止所述光线传输至所述导电沟道，所述光阻层用于将来自所述基底的光线产生折射并沿所述显示面板的出光方向单向传输。
一种显示面板的制作方法
提供一基底；
于所述基底表面形成图案化的光阻层；
于所述光阻层上形成图案化的遮光层，所述光阻层与所述遮光层的图案相同；以及
于所述图案化的遮光层上形成多个矩阵排布设置的薄膜晶体管，所述光阻层与所述遮光层对应所述薄膜晶体管的导电沟道；
所述遮光层用于反射自基底传输的光线以防止所述光线传输至所述导电沟道，所述光阻层用于将来自所述基底的光线产生折射并沿所述显示面板的出光方向单向传输。
相较于现有技术，由于薄膜晶体管在入光方向一侧设置有光阻层，光阻层使得薄膜晶体管邻近基底一侧的光线均沿着出光方向单向传输，从而有效防止被遮光层反射的光线再次进入基板多次传输而产生损失，提高了光线的利用率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一实施例中显示面膜的侧面结构示意图。
图2为光线在如图1所示两个相邻薄膜晶体管光阻层中传输的光路图。
图3为制作如图1所示显示面板的流程图。
图4为制作如图1所示光阻层的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
显示面板包括依次层叠设置的基底、光阻层、遮光层以及薄膜晶体管。其中，所述遮光层用于遮蔽自基底传输的光线传输至所述导电沟道，所述光阻层用于将来自所述基底的光线沿显示面板出光方向单向传输，防止传送至遮光层的光线反射至基底。进一步，所述光阻层光折射率沿着显示面板的出光方向逐渐减小。所述光阻层包括至少一种单个感光基团的树脂材料、至少一种多个感光基团的树脂材料，且所述多个感光基团的树脂材料的浓度沿所述显示面板出光方向逐渐减小。所述多个感光基团的树脂材料的折射率大于所述单个感光基团的树脂材料的折射率。
具体地，下面结合附图具体说明显示面板的层结构。
请参阅图1，其为本发明一实施例中显示面膜的侧面结构示意图。如图1所示，显示面板100中基底10包括正对的第一表面101与第二表面102。其中，第一表面101用于接收光线，也即是作为显示面板100的入光面，可以理解，对应第一表面101一侧，可以设置光源(图未示)以出射光线为显示面板100的图像显示提供光线。第二表面102用于设置显示元件(图未示)，以配合第一表面101接收的光线进行图像显示。为便于说明，定义第一方向f为显示面板100的出光方向。
本实施例中，所述基底10为玻璃基板，当然，可变更地，所述基底10也以为其他材质的基板，例如树脂材质的基板。
对应第一表面101上依次设置有图案化的光阻层11、图案化的遮光层12、薄膜晶体管13、绝缘保护层14以及导电电极15。
其中，光阻层11用于使得自第二表面102出射的光线沿着第一方向f单向传输。
遮光层12设置于光阻层11表面，用于遮挡来自光阻层11的光线。
薄膜晶体管13通过间隔的绝缘层(未标示)设置于遮光层12上。薄膜晶体管13包源极131、漏极132、半导体层133以及栅极134，其中，源极131、漏极132、半导体层133设置于同一层，其中，源极131与漏极132设置于半导体层133的相对两侧，其中，半导体层133构成薄膜晶体管13的导电沟道136。栅极134通过栅极绝缘层135正对导电沟道136上方，换句话说栅极134较源极131、漏极132、半导体层133远离基底10的第二表面102，从而构成顶栅型结构。
本实施例中，导电沟道136正对于所述光阻层11以及遮光层12，也即是导电沟道136、光阻层11以及遮光层12沿第一方向f在基底10的第二表面102的投影重合。由此，遮光层12能够有效防止自基板10第一表面101接收的光线直接照射导电沟道136，以防止导电沟道136受到光线照射时产生光电效应而影响薄膜晶体管13的工作性能。
本实施例中，绝缘层与栅极绝缘层135采用氮化硅(sinx)或者氧化硅(siox)构成，源极131、漏极132以及栅极134采用金属导电材料构成，例如钼(mo)、铜(cu)等。
具体地，请参阅图2，其为光线在如图1所示两个相邻薄膜晶体管13中光阻层11传输的光路图。如图2所示，光阻层11光折射率沿着显示面板的出光方向逐渐减小，由此，光阻层11在接收到第一表面102传输的光线时使其产生折射，以减小传输至遮光层12的光线，另外，当传输至遮光层12产生反射时，光阻层则进一步对遮光层12反射的光线进行折射，并使得折射的光线均自第一方向f单向传输，从而防止遮光层12反射的光线再次传输至基底10中。由此，光阻层11能够使得光线在第一方向f上对应显示面板100的透光区域单向传输，而不会在基板10以及其他层结构中多次往返传输，从而有效提高光线的利用率。
所述光阻层11中包括至少一种单个感光基团的树脂材料以及至少一种多个感光基团的树脂材料，且所述多个感光基团的树脂材料的浓度沿所述显示面板100出光方向逐渐减小，也即是多个感光基团的树脂材料的浓度沿着第一方向f逐渐减小，从而使得所述光祖层11沿着显示面板100出光方向的折射率逐渐减小。较佳地，所述多个感光基团的树脂材料的折射率大于所述单个感光基团的树脂材料的折射率。
较佳地，所述多个感光基团的树脂材料能够吸收紫外光以及波长小于预设值的可见光，从而进一步提高显示面板100图像显示用光线的纯净度。
可变更地，对应薄膜晶体管13还可以为底栅极结构，也即是栅极134通过一栅极绝缘层135正对导电沟道136下方，换句话说源极131、漏极132、半导体层133较栅极134远离基底10的第二表面102，从而构成底栅型结构。
较佳地，半导体层133采用低温多晶硅(lowtemperaturepoly-silicon，lowtemperatureltps)的工艺制程。
相较于现有技术，由于薄膜晶体管13在入光方向一侧设置有光阻层11，光阻层11使得薄膜晶体管13邻近基底10一侧的光线均沿着出光方向单向传输，从而有效防止被遮光层12反射的光线再次进入基板100多次传输而产生损失，提高了光线的利用率。
可以理解，显示面板100可以用于需要采用背光源的液晶显示装置，也可以为应用于有机发光二极管显示器(organiclight-emittingdiode，oled)中。
请再次参阅图1，绝缘保护层14与导电电极15依次设置于薄膜晶体管13表面。其中，绝缘保护层14上对应薄膜晶体管13的源极131还设置有开口(未标示)，从而使得导电电极15开口与源极131电性连接。
本实施例中，绝缘保护层14均采用氮化硅(sinx)或者氧化硅(siox)构成，导电电极15采用氧化铟锡(ito)材质。
请参阅图3，其为制作如图1所示显示面板100的流程图。如图3所示，显示面板100的制作方法包括步骤如下：
步骤110：提供基底10，其中，基底包括正对的第一表面101与第二表面102，其中，第一表面101用于接收光线，也即是作为显示面板100的入光面，对应第一表面101一侧，可以设置光源(图未示)以出射光线为显示面板100的图像显示提供光线。自第一表面101入射的光线在第二表面102向外出射。
步骤120：于所述基底101形成图案化的光阻层11。
具体地，如图4所示，其为对应光阻层11的制作步骤流程图，如图4所示，对应图案化的光阻层11的制作步骤还包括：
步骤121：对应基底101的第二表面102，涂布至少一种单个感光基团的树脂材料、至少一种多个感光基团的树脂材料的混合溶液。
步骤122：固化所述混合溶液，形成混合溶液薄膜。；
步骤123：通过曝光图案化所述混合溶液薄膜形成所述图案化的光阻层11，其中，沿着所述邻近所述基底方向对应所述混合容易薄膜的曝光强度逐渐减小，从而的所述多个感光基团的树脂材料在所述光阻层11中的浓度逐渐减小。
较佳地，所述多个感光基团的树脂材料能够吸收紫外光以及波长小于预设值的可见光。
请继续参阅图3，步骤130：与所述光阻层11上形成图案化的遮光层12，所述光阻层11与所述遮光层12的图案相同。
步骤140：于所述图案化的遮光层12上形成多个矩阵排布设置的薄膜晶体管13，且所述薄膜晶体管13的导电沟道对应所述光阻层11以及遮光层12。具体地，薄膜晶体管13包源极131、漏极132、半导体层133以及栅极134，其中，源极131、漏极132、半导体层133设置于同一层，其中，源极131与漏极132设置于半导体层133的相对两侧，其中，半导体层133构成薄膜晶体管13的导电沟道136。其中，导电沟道136正对于所述光阻层11以及遮光层12，也即是导电沟道136、光阻层11以及遮光层12沿第一方向f在基底10的第二表面102的投影重合。
遮光层12能够有效防止自基板10第一表面101接收的光线直接照射导电沟道136，以防止导电沟道136受到光线照射时产生光电效应而影响薄膜晶体管13的工作性能。光阻层11光折射率沿着显示面板的出光方向逐渐减小，由此，光阻层11在接收到第一表面102传输的光线时使其产生折射，以减小传输至遮光层12的光线，同时，对遮光层12反射的光线进行折射，从而防止遮光层12反射的光线再次传输至基底10中，由此，光阻层11能够使得光线在第一方向f上显示面板100的出光方向单向传输，而不会在基板10以及其他层结构中多次往返传输，从而有效提高光线的利用率。
可以理解，以上所揭露的仅为本发明的较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。