半导体器件及其制造方法与流程

文档序号:15939977发布日期:2018-11-14 03:00阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供半导体器件及其制造方法,能提高半导体器件的性能。一实施方式的半导体器件具有导线(12),其在形成于半导体芯片的绝缘膜上的开口部(13H1)处,在一个接合面(SEt1)的多个部位接合。另外,半导体器件具有以与接合面(SEt1)接触的方式封固上述半导体芯片及导线(12)的封固体。接合面(SEt1)具有供导线(12)的接合部(12B1)接合的区域(SER1)、供导线(12)的接合部(12B2)接合的区域(SER2)、以及位于区域(SER1)与区域(SER2)之间的区域(SER3)。区域(SER3)的宽度(WH3)比区域(SER1)的宽度(WH1)及区域(SER2)的宽度(WH2)小。

技术研发人员:佐藤幸弘;清原俊范
受保护的技术使用者:瑞萨电子株式会社
技术研发日:2018.03.19
技术公布日:2018.11.13
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