本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种有机发光二极管显示器的制作方法。
【背景技术】
有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，oled)具有自主发光、工作温度范围宽、响应速度快、视角广、发光效率高、可制作在柔性衬底上、驱动电压以及能耗低等优点，被誉为下一代的显示技术。
随着显示技术的快速发展，人们对oled显示提出了更高的要求，比如更广的色域、更高的亮度、更低的能耗以及更高的分辨率等。特别对屏幕分辨率的要求最为明显，为了获得更高的屏幕分辨率，需要使用高精度金属掩模板(fine-metal-mask，fmm)分别蒸镀rgb对应的发光层的材料。而fmm的制作、维护、运输、清洗的成本较高，同时高解析度的fmm的产能有限。
为了减小mask的阴影效应(shadoweffect)，现有的高分辨率fmm需要严格控制掩膜板的厚度，其厚度仅为几十微米的mask。而在如此薄的金属片上开孔，并且在掩膜板张网后，开孔和基板像素区域很难准确对位，导致显示器容易出现混色，从而降低了显示器的分辨率。
因此，有必要提供一种有机发光二极管显示器的制作方法，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种有机发光二极管显示器的制作方法，能够提高显示器的分辨率。
为解决上述技术问题，本发明提供一种有机发光二极管显示器的制作方法，其包括：
在衬底基板上形成像素定义层，所述像素定义层包括多个间隔设置的像素定义单元；所述像素定义单元之间包括第一预设区域、第二预设区域以及第三预设区域；
在所述第一预设区域、所述第二预设区域以及所述第三预设区域形成发光单元，其包括：
在所述第一预设区域、所述第二预设区域以及所述第三预设区域中的两个区域对应的衬底基板上形成待剥离层；
使用预设掩膜板在未覆盖所述待剥离层的衬底基板以及所述待剥离层上形成有机发光层；以及
对所述衬底基板进行加热，使所述待剥离层以及覆盖在所述待剥离层上的有机发光层剥离，以保留未被所述待剥离层覆盖的有机发光层，得到发光单元，所述预设掩膜板的开口大于预设值。
在本发明的有机发光二极管显示器的制作方法中，所述对所述衬底基板进行加热，使所述待剥离层以及覆盖在所述待剥离层上的有机发光层剥离，以保留未被所述待剥离层覆盖的有机发光层的步骤包括：
对所述衬底基板进行加热，触发所述待剥离层的材料升华，使所述待剥离层脱落，并使附着在所述待剥离层上的有机发光层剥离，以保留未被所述待剥离层覆盖的有机发光层。
在本发明的有机发光二极管显示器的制作方法中，所述在所述第一预设区域、第二预设区域以及所述第三预设区域中的两个区域对应的衬底基板上形成待剥离层的步骤包括：
在所述第一预设区域、所述第二预设区域以及所述第三预设区域中的两个区域对应的衬底基板上蒸镀待剥离材料，以形成待剥离层。
在本发明的有机发光二极管显示器的制作方法中，所述待剥离层的材料包括硫。
在本发明的有机发光二极管显示器的制作方法中，所述发光单元包括第一发光单元，在所述第一预设区域、第二预设区域以及第三预设区域形成发光单元的步骤包括：
在所述第二预设区域和所述第三预设区域对应的衬底基板上形成待剥离层；
使用第一预设掩膜板在所述第一预设区域对应的衬底基板以及所述待剥离层上形成第一有机发光层；其中所述第一预设掩膜板的开口大于预设值；
对所述衬底基板进行加热，使所述第二预设区域和所述第三预设区域对应的待剥离层和第一有机发光层剥离，以保留所述第一预设区域的第一有机发光层，以得到第一发光单元。
在本发明的有机发光二极管显示器的制作方法中，所述发光单元还包括第二发光单元，在所述第一预设区域、第二预设区域以及第三预设区域形成发光单元的步骤包括：
在所述第一发光单元和所述第三预设区域对应的衬底基板上形成待剥离层；
使用第二预设掩膜板在所述第二预设区域对应的衬底基板以及所述待剥离层上蒸镀第二有机发光材料，以形成第二有机发光层；其中所述第二预设掩膜板的开口大于所述预设值；
对所述衬底基板进行加热，以使所述第一预设区域和所述第三预设区域对应的待剥离层以及第二有机发光层在加热过程中剥离，以保留所述第二预设区域的第二有机发光层，得到所述第二发光单元。
在本发明的有机发光二极管显示器的制作方法中，所述发光单元还包括第三发光单元，在所述第一预设区域、第二预设区域以及第三预设区域形成发光单元的步骤包括：
在所述第一发光单元和所述第二发光单元形成待剥离层；
使用第三预设掩膜板在所述第三预设区域对应的衬底基板以及所述待剥离层上蒸镀第三有机发光材料，以形成第三有机发光层；其中所述第三预设掩膜板的开口大于所述预设值；
对所述衬底基板进行加热，以使所述第一预设区域和所述第二预设区域对应的待剥离层和第三有机发光层剥离，以保留所述第三预设区域的第三有机发光层，得到所述第三发光单元。
在本发明的有机发光二极管显示器的制作方法中，所述第一有机发光材料用于形成所述第一发光单元；所述第二有机发光材料用于形成所述第二发光单元；所述第三有机发光材料用于形成所述第三发光单元。
在本发明的有机发光二极管显示器的制作方法中，使用第一预设掩膜板在所述第一预设区域对应的衬底基板以及所述待剥离层上形成第一有机发光层的步骤包括：
使用第一预设掩膜板在所述第一预设区域对应的衬底基板以及所述待剥离层上蒸镀第一有机发光材料，以形成第一有机发光层。
在本发明的有机发光二极管显示器的制作方法中，所述衬底基基板包括基底和阳极，所述方法还包括：在所述发光单元上形成阴极。
本发明的有机发光二极管显示器的制作方法，采用开口较大的掩膜板蒸镀有机发光层，从而防止掩膜板的开口无法与像素区域准确对位，提高了显示器的分辨率。
【附图说明】
图1为本发明oled显示器制作方法的第一步的结构示意图。
图2为本发明oled显示器制作方法的第二步中第一分步的结构示意图。
图3为本发明oled显示器制作方法的第二步中第二分步的结构示意图。
图4为本发明oled显示器制作方法的第二步中第三分步的结构示意图。
图5为本发明oled显示器制作方法的第二步中第三分步完成后的结构示意图。
图6为本发明oled显示器制作方法的第二步中第四分步的结构示意图。
图7为本发明oled显示器制作方法的第二步中第五分步的结构示意图。
图8为本发明oled显示器制作方法的第二步中第六分步的结构示意图。
图9为本发明oled显示器制作方法的第二步中第六分步完成后的结构示意图。
图10为本发明oled显示器制作方法的第二步中第七分步的结构示意图。
图11为本发明oled显示器制作方法的第二步中第八分步的结构示意图。
图12为本发明oled显示器制作方法的第二步中第九分步的结构示意图。
图13为本发明oled显示器制作方法的第二步中第九分步完成的结构示意图。
图14为本发明oled显示器制作方法的第三步的结构示意图。
【具体实施方式】
以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。
请参照图1至14，图1为本发明oled显示器制作方法的第一步的结构示意图。
本发明的oled显示器的制作方法主要包括如下步骤：
s101、在衬底基板上形成像素定义层，所述像素定义层包括多个间隔设置的像素定义单元；相邻两个所述像素定义单元之间包括第一预设区域、第二预设区域以及第三预设区域；
如图1所示，在衬底基板11上形成像素定义层12，其中所述衬底基板11包括基底和阳极，所述基底的材料比如为玻璃。
该像素定义层12包括4个像素定义单元121，可以理解的该像素定义层12包括4个以上的像素定义单元。相邻两个所述像素定义单元121之间包括第一预设区域101、第二预设区域102以及第三预设区域103；第一预设区域101、第二预设区域102以及第三预设区域103分别位于相邻两个所述像素定义单元121之间。且第一预设区域101、第二预设区域102以及第三预设区域103交错设置。在一实施方式中，所述第一预设区域101与绿色发光单元的位置对应，第二预设区域102与蓝色发光单元的位置对应，以及第三预设区域103与红色发光单元的位置对应。
可以理解的，尽管图1中仅示出一个第一预设区域101、第二预设区域102以及第三预设区域103，但是并不能对本发明构成限定，该第一预设区域101、第二预设区域102以及第三预设区域103的数量可以为一个以上。
s102、在所述第一预设区域、第二预设区域以及第三预设区域形成发光单元，所述发光单元包括第一发光单元、第二发光单元以及第三发光单元，上述步骤包括：
s201、在所述第二预设区域和所述第三预设区域对应的衬底基板上形成待剥离层；
如图2所示，使用掩膜板在第二预设区域102和所述第三预设区域103对应的衬底基板上蒸镀待剥离材料，以形成待剥离层13，该待剥离材料为易升华材料。在一实施方式中，该待剥离材料包括硫。
s202、使用第一预设掩膜板在所述第一预设区域对应的衬底基板以及所述待剥离层上形成第一有机发光层；
如图3所示，使用第一预设掩膜板在所述第一预设区域101对应的衬底基板以及所述待剥离层上蒸镀第一有机发光材料，以形成第一有机发光层14。其中所述第一预设掩膜板(图中未示出)的开口大于预设值，比如第一预设掩膜板为大开口的commonmask，也即其区别与现有技术中的fmm。结合图5，所述第一有机发光材料用于形成所述第一发光单元141。
s203、对所述衬底基板进行加热，使所述第二预设区域和所述第三预设区域对应的待剥离层和第一有机发光层剥离，以保留所述第一预设区域的第一有机发光层，得到第一发光单元；
如图4所示，对上述衬底基板进行加热，触发所述待剥离层13的材料升华，使所述待剥离层13脱落，并使附着在该待剥离层上的第一有机发光层剥离；以保留未被所述待剥离层覆盖的第一有机发光层，得到第一发光单元141；也即使第二预设区域和第三预设区域的第一有机发光层剥离，仅保留第一预设区域的第一有机发光层，剥离后的结构图如图5所示。
s204、在所述第一发光单元和所述第三预设区域对应的衬底基板上蒸镀所对应的述待剥离材料，以形成待剥离层；
如图6所示，使用掩膜板在所述第一发光单元141和所述第三预设区域103对应的衬底基板上蒸镀所对应的述待剥离材料，以形成待剥离层13；该待剥离材料为易升华材料。在一实施方式中，该待剥离材料包括硫。进一步地，该待剥离材料为硫。
s205、使用第二预设掩膜板在所述第二预设区域对应的衬底基板以及所述待剥离层上形成第二有机发光层；
如图7所示，使用第二预设掩膜板在所述第二预设区域102对应的衬底基板以及所述待剥离层上蒸镀第二有机发光材料，以形成第二有机发光层15。其中所述第二预设掩膜板的开口大于预设值，比如第二预设掩膜板为大开口的commonmask，也即其区别与现有技术中的fmm。所述第二有机发光材料用于形成所述第二发光单元。
s206、对所述衬底基板进行加热，以使所述第一预设区域和所述第三预设区域对应的待剥离层以及第二有机发光层在加热过程中剥离，以保留所述第二预设区域的第二有机发光层，得到第二发光单元；
如图8所示，对所述衬底基板进行加热，触发所述待剥离层的材料升华，使所述待剥离层脱落，并使附着在该待剥离层13上的第二有机发光层15剥离；以保留未被所述待剥离层13覆盖的第二有机发光层15，得到第二发光单元151，剥离后的结构图如图9所示。
s207、在所述第一发光单元和所述第二发光单元蒸镀所述待剥离材料，以形成待剥离层；
如图10所示，使用掩膜板在第一发光单元141和第二发光单元151上蒸镀所述待剥离材料，以形成待剥离层13。
s208、使用第三预设掩膜板在所述第三预设区域对应的衬底基板以及所述待剥离层上形成第三有机发光层；
如图11所示，使用第三预设掩膜板在所述第三预设区域103对应的衬底基板以及所述待剥离层13上蒸镀第三有机发光材料，以形成第三有机发光层16。其中所述第三预设掩膜板的开口大于预设值，比如第三预设掩膜板为大开口的commonmask，也即其区别与现有技术中的fmm。所述第三有机发光材料用于形成所述第三发光单元。
可以理解的，第一预设掩膜板、第二预设掩膜板、第三预设掩膜板可以相同或者不同。
s209、对所述衬底基板进行加热，以使所述第一预设区域和所述第二预设区域对应的待剥离层以及第三有机发光层剥离，以保留所述第三预设区域的第三有机发光层，得到第三发光单元，其中所述第一预设掩膜板、所述第二预设掩膜板以及所述第三预设掩膜板的开口大于预设值。
如图12所示，对所述衬底基板进行加热，触发所述待剥离层的材料升华，使所述待剥离层脱落，并使附着在该待剥离层13上的第三有机发光层剥离；以保留未被所述待剥离层覆盖的第三有机发光层，得到第三发光单元161，剥离后的结构图如图13所示。最终完成了发光单元的制作。
本发明的方法还包括：
s103、在所述发光单元上形成阴极。
所述衬底基基板包括基底和阳极，具体是在所述第一发光单元、第二发光单元以及第三发光单元上形成阴极。
如图14所示，在所述第一发光单元141、第二发光单元151以及第三发光单元161上形成阴极17。
由于在制作第一发光单元至第三发光单元时，采用开口较大的掩膜板蒸镀有机发光材料，因此容易使掩膜板的开口与像素区域准确对位，防止显示器出现混色，提高了显示器的分辨率。另外由于采用了开口较大的掩膜板制作有机发光层，还可以减少fmm的使用，降低了生产成本，提高了生产效率。
本发明的有机发光二极管显示器的制作方法，由于采用开口较大的掩膜板蒸镀有机发光层，从而防止掩膜板的开口不能与像素区域准确对位，提高了显示器的分辨率。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。