技术总结
实用新型提供一种等离子处理器，包括：反应腔，反应腔内下部包括位于底部的基座，基座上方用于设置基片，反应腔内还设置有进气装置；位于反应腔外的一个气体分配器，包括多个输入端通过多个输气管道连接到多个单一气源，所述气体分配器还包括至少一个输出端通过第一进气管道连接到所述进气装置；一个射频电源连接到所述基座；所述第一进气管道或者多个输气管道包括管体和连接头，所述管体内壁包括一层有机聚合物涂层。
技术研发人员：关瑜;陈星建;倪图强
受保护的技术使用者：中微半导体设备（上海）有限公司
技术研发日：2018.02.11
技术公布日：2018.08.31