OLED显示面板、显示装置的制作方法

本实用新型涉及显示设备领域，特别涉及一种OLED显示面板、显示装置。

背景技术：

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)具有制备工艺简单、成本低、功耗低、发光亮度高等优点，有着广阔的应用前景，目前通常被用于制作OLED显示面板。

目前的OLED显示面板通常包括阵列基板和封装层，阵列基板的表面设置有像素界定层，像素界定层上具有多个开口，每个开口中布置有一个OLED，封装层覆盖在像素界定层的一侧，以将OLED与外界环境隔离，避免OLED受到外部环境中水的影响。

由于OLED的有机发光层材料和阴极金属材料很容易受到环境中的水分的影响，而制作OLED的有机发光层的材料本身含有一定的水分，使得在工艺制程中会有一定量的水分被封在阵列基板和封装层之间，这些水分会释放出水汽对OLED造成影响，使OLED因为吸潮而损坏，从而缩短OLED显示面板的寿命。

技术实现要素：

本实用新型实施例提供了一种OLED显示面板、显示装置，能够解决封装在OLED显示面板中的水分会缩短OLED显示面板的使用寿命短的问题。所述技术方案如下：

一方面，本实用新型实施例提供了一种OLED显示面板，所述OLED显示面板包括阵列基板、以及设置在所述阵列基板上的像素界定层和封装层，所述像素界定层封装于所述封装层和所述阵列基板之间，所述像素界定层和所述封装层中的至少一个中掺有干燥剂。

可选地，所述封装层中掺有所述干燥剂，所述有机发光二极管显示面板还包括表面封装层，所述表面封装层包覆在所述封装层的表面上。

可选地，所述干燥剂包括氧化物干燥剂和氯化物干燥剂中的至少一种与吸水性树脂的混合物。

可选地，所述干燥剂包括氧化物干燥剂、氯化物干燥剂和吸水性树脂的混合物。

可选地，所述吸水性树脂包括聚丙烯酸盐类、聚乙烯醇类、聚氧化烷烃类、聚氨酯、通用型丙烯酸酯和酪素中的至少一种。

可选地，所述氯化物干燥剂包括氯化锌、氯化钙、氯化锡和氯化锑中至少一种。

可选地，所述氧化物干燥剂包括氧化钙、氧化铝中的至少一种。

可选地，所述阵列基板包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的多个薄膜晶体管。

可选地，所述阵列基板上设置有阵列分布的阳极，所述像素界定层上对应所述阳极的位置设置有露出所述阳极的开口，每个所述开口中均布置有一个 OLED功能层。

另一方面，本实用新型实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括前述的任一种OLED显示面板。

本实用新型实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括：通过在像素界定层和封装层中的至少一个中掺入干燥剂后，掺入的干燥剂可以去除阵列基板和封装层之间的水分，从而可以避免OLED吸潮，有利于延长OLED显示面板的使用寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例提供的一种OLED显示面板的局部结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的一种OLED显示面板的制作方法的流程图；

图3是本实用新型实施例提供的另一种OLED显示面板的制作方法的流程图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。

图1是本实用新型实施例提供的一种OLED显示面板的局部结构示意图。如图1所示，该OLED显示面板包括阵列基板10、以及设置在阵列基板10上的像素界定层20和封装层30，像素界定层20封装于封装层30和阵列基板10之间。像素界定层20和封装层30中的至少一个中掺有干燥剂。

通过在像素界定层和封装层中的至少一个中掺入干燥剂后，掺入的干燥剂可以去除阵列基板和封装层之间的水分，从而可以避免OLED吸潮，有利于延长OLED显示面板的使用寿命。

在一种可能的实现方式中，仅像素界定层20中掺有所述干燥剂，像素界定层20中的干燥剂可以较好的吸收阵列基板和封装层之间的水分，避免OLED吸潮。

在另一种可能的实现方式中，仅封装层30中掺有干燥剂，由于外界空气中存在少量的水分，常规的封装层可以起到一定的隔绝作用，避免外界空气中的水分接触到OLED显示面板内部，但是空气中的水分仍然会缓慢的渗透到OLED 显示面板内部，通过在封装层中掺入干燥剂后，水分会被限制在封装层中而无法进一步渗透，从而提高了封装层隔绝外界水分的能力，进一步避免外界的水分进入到OLED显示面板内部。

在又一种可能的实现方式中，像素界定层20和封装层30中都掺有干燥剂，通过封装层30避免外界的水分进入到OLED显示面板内部，通过像素界定层20 吸收阵列基板和封装层之间的水分，可以尽可能的避免OLED吸潮。

在又一种可能的实现方式中，封装层30中掺有干燥剂，该OLED显示面板还包括表面封装层，表面封装层包覆在封装层30上，表面封装层中未掺有干燥剂，设置表面封装层后，在湿度很大的环境下，表面封装层对外界环境进行第一次隔离，可以避免封装层30从外界环境中吸收过多的水分。

如图1所示，阵列基板10可以包括衬底基板11和设置在衬底基板11上的多个薄膜晶体管12，多个薄膜晶体管12可以在衬底基板11上阵列分布。阵列基板10上设置有阵列分布的OLED的阳极41，阳极41与薄膜晶体管12的源极或漏极连接。

示例性地，衬底基板11可以为透明基板，例如玻璃基板、硅基板和塑料基板等。薄膜晶体管12可以是非晶硅薄膜晶体管、低温多晶硅薄膜晶体管、金属氧化物薄膜晶体管。可选地，阳极41可以选择具有良好的导电性和化学稳定性的高功函数材料制成，例如氧化铟锡、银、氧化镍、石墨烯等，阳极的厚度可以为1～2微米。阳极41可以与薄膜晶体管12对应，阵列分布在阵列基板10上。

像素界定层20可以采用像素界定层基材和干燥剂制成，像素界定层基材可以是透明绝缘材料，示例性地，透明绝缘材料可以是聚酰亚胺、氮化硅、氧化硅。若只在封装层30中掺有干燥剂，而像素界定层20中未掺有干燥剂，则像素界定层20可以只采用像素界定层基材制成。表面封装层也可以采用封装层基材制成。

像素界定层20上对应阳极41的位置设置有露出阳极41的开口，每个开口 41中均布置有一个OLED功能层42，OLED功能层42包括但不限于依次层叠在阳极41上的空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层和电子注入层。像素界定层20上的每一个开口对应一个子像素，由于相邻的子像素的颜色可能不同，所对应的有机发光层的材料也可能不同，设置开口后可以避免相邻的子像素之间产生串色的现象，提升显示画面的质量。

空穴注入层可以采用酞菁铜、四氰代对二亚甲基苯醌、钛氧基酞菁中的一种制成。空穴传输层可以采用以联苯为核心的三芳香胺，二胺联苯衍生物等材料制成，厚度可以为10～50纳米；有机发光层可以为单一的有机物，如8羟基喹啉铝、红荧烯等，也可以是掺杂物，如4，4′-N，N′-二咔唑-联苯掺入红荧烯等，还可以是磷光材料，更可以为荧光材料，厚度可以为1～50纳米；电子传输层可以掺入金属铯Cs等材料，厚度可以为10～100纳米。电子注入层可以采用氟化锂制成。

如图1所示，OLED功能层42上设置有阴极43，作为举例，在本实施例中多个OLED功能层42上的阴极43相互连接，实现对多个OLED的共阴极连接，在其他可能的实现方式中，多个OLED功能层42上的阴极43也可以不相连。

在本实施例中，阴极43可以采用高导电性能的金属材料制成，例如金属银，在制作过程中可以通过调节阴极的厚度使阴极43具有足够的透光性。

可选地，封装层30可以采用封装层基材和干燥剂制成，其中封装层基材可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二乙基砜、聚对苯二甲酸丁二醇酯中的任一种，这些封装层基材可以较好的隔绝外界中的水分，避免水分渗透到OLED显示面板内部。封装层30可以是封装薄膜。若只在像素界定层20中掺有干燥剂，而封装层30中未掺有干燥剂，则封装层30可以只采用封装层基材制成。

该干燥剂可以包括氧化物干燥剂和氯化物干燥剂中的至少一种与吸水性树脂的混合物。吸水性树脂、氧化物干燥剂和氯化物干燥剂都对水有较强的吸收能力，可以去除封在阵列基板和封装层之间的水分。氧化物干燥剂和氯化物干燥剂在吸收大量水分后会逐渐成为液体，容易流动到有机发光层或阴极上，而吸水性树脂具有较好的保水作用，可以将形成的液体保持在吸水性树脂中，从而避免液体流动到有机发光层或阴极上造成损害。

进一步地，该干燥剂也可以同时包括氧化物干燥剂、氯化物干燥剂和吸水性树脂的混合物，吸水性树脂、氧化物干燥剂和氯化物干燥剂质量比可以为10∶ (2～3)∶(1～1.5)，同时采用氯化物干燥剂和氧化物干燥剂以及吸水性树脂可以进一步提高干燥能力，在该比例范围内，干燥剂的吸湿能力和保水能力较好。

可选地，吸水性树脂可以包括聚丙烯酸盐类、聚乙烯醇类、聚氧化烷烃类、聚氨酯、通用型丙烯酸酯和酪素中的至少一种。聚丙烯酸盐类、聚乙烯醇类、聚氧化烷烃类、聚氨酯、通用型丙烯酸酯和酪素为较常见的吸水性树脂，便于获取。吸水性树脂的分子结构为具有一定的交联密度的三维网状结构，且分子结构中含有大量的亲水性基团(例如羧基、羟基、磺酸基、酰胺基)，亲水性基团可以吸收水分，将水分子连接在网状结构中，从而可以将水保持在吸水性树脂中，避免干燥剂吸收的水分聚集流动到有机发光层或是阴极上对有机发光层或是阴极造成损害。

氯化物干燥剂可以包括氯化锌、氯化钙、氯化锡和氯化锑中至少一种。氯化锌、氯化钙、氯化锡和氯化锑是氯化物干燥剂中具有较强吸湿能力的几种，能够较好的去除OLED显示面板中的水分，延长OLED显示面板的使用寿命。

氧化物干燥剂可以包括氧化钙、氧化铝中的至少一种，氧化钙、氧化铝为常见的氧化物干燥剂，获取方便，成本低。

当像素界定层20和封装层30中均掺有干燥剂时，像素界定层20和封装层 30中掺的干燥剂可以相同也可以不同。

图2是本实用新型实施例提供的一种OLED显示面板的制作方法的流程图，该方法可以用于制作如图1所示的OLED显示面板。如图2所示，该制作方法包括：

S11：提供一阵列基板。

S12：在阵列基板的一侧面上形成阳极。

S13：在制作有阳极的阵列基板上形成像素界定层，像素界定层上对应阳极的位置设置有露出阳极的开口。

S14：在开口中形成OLED功能层。

S15：在OLED功能层上形成阴极。

S16：形成封装层，使得像素界定层、OLED功能层和阴极被封装在阵列基板和封装层之间。像素界定层和封装层中的至少一个中掺有干燥剂。

通过在像素界定层和封装层中的至少一个中掺入干燥剂后，掺入的干燥剂可以去除阵列基板和封装层之间的水分，从而可以避免OLED吸潮，有利于延长OLED显示面板的使用寿命。

在一种可能的实现方式中，仅像素界定层中掺有所述干燥剂，像素界定层中的干燥剂可以较好的吸收阵列基板和封装层之间的水分，避免OLED吸潮。

在另一种可能的实现方式中，仅封装层中掺有干燥剂，由于外界空气中存在少量的水分，常规的封装层可以起到一定的隔绝作用，避免外界空气中的水分接触到OLED显示面板内部，但是空气中的水分仍然会缓慢的渗透到OLED 显示面板内部，通过在封装层中掺入干燥剂后，水分会被限制在封装层中而无法进一步渗透，从而提高了封装层隔绝外界水分的能力，进一步避免外界的水分进入到OLED显示面板内部。

在又一种可能的实现方式中，像素界定层和封装层中都掺有干燥剂，通过封装层避免外界的水分进入到OLED显示面板内部，通过像素界定层吸收阵列基板和封装层之间的水分，可以尽可能的避免OLED吸潮。

图3是本实用新型实施例提供的另一种OLED显示面板的制作方法的流程图，该方法可以用于制作如图1所示的OLED显示面板。如图3所示，该制作方法包括：

S21：提供一阵列基板。

阵列基板可以包括衬底基板和设置在衬底基板上的薄膜晶体管，薄膜晶体管可以在衬底基板上阵列分布。衬底基板可以为透明基板，例如玻璃基板、硅基板和塑料基板等。

S22：在阵列基板的一侧面上形成阳极。

示例性地，阳极可以采用磁控溅射、蒸镀、气相沉积等方法进行制作。通过在阵列基板上形成阳极层，再对阳极层进行刻蚀，从而形成多个阳极，每个阳极分别与一个薄膜晶体管的源极或漏极连接。

阳极通常可以选择具有良好的导电性和化学稳定性的高功函数材料制成，例如氧化铟锡、银、氧化镍、石墨烯等，阳极的厚度可以为1～2微米。

S23：制作像素界定层。

在制作有阳极的阵列基板上形成像素界定层，像素界定层上对应阳极的位置设置有露出阳极的开口。

示例性地，步骤S23可以包括：

在像素界定层基材中掺入干燥剂；采用掺有干燥剂的像素界定层基材，在阵列基板上形成像素界定膜层；采用构图工艺在像素界定膜层上形成开口，得到像素界定层。

通过在像素界定层基材中掺入干燥剂后进行像素界定层的制作，可以不需要改变现有工艺。像素界定层基材可以为透明绝缘材料，示例性地，透明绝缘材料可以是聚酰亚胺、氮化硅、氧化硅。形成的像素界定层上对应每个阳极的位置均设置有一个开口，阳极露出于对应的开口。

像素界定膜层可以采用气相沉积、旋涂或刮涂等方式形成，可以根据像素界定层基材选择不同的制作方法。例如当采用聚酰亚胺作为像素界定层基材时，可以采用旋涂或刮涂的方式制作像素界定膜层。当采用旋涂或刮涂的方式制作像素界定膜层时，构图工艺过程可以包括预烘烤、曝光、显影、后烘烤，通过预烘烤去除像素界定膜层中的部分水分，曝光和显影过程可以在像素界定膜层上形成开口，其中曝光过程可以使像素界定膜层上除开口之外的区域固化，后烘烤过程可以再次去除像素界定层基材中的水分，使保留的像素界定层基材完全固化，得到像素界定层。

该干燥剂的成分可以参见图1所示实施例中对于干燥剂的具体说明，此处不详述。

S24：在开口中形成OLED功能层。

OLED功能层可以包括依次层叠在阳极上的空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层和电子注入层。空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层和电子注入层可以采用常规的工艺制程进行制作。

示例性地，空穴注入层可以采用酞菁铜、四氰代对二亚甲基苯醌、钛氧基酞菁中的一种制成。可以采用化学气相沉积、物理气相沉积或旋涂的方法形成，在形成有空穴注入层的衬底基板上形成空穴传输层，空穴传输层可以采用以联苯为核心的三芳香胺，二胺联苯衍生物等材料，厚度可以为10～50纳米；采用蒸镀、旋涂或喷墨打印的方法，在形成空穴传输层的基板上形成有机发光层，有机发光层可以为单一的有机物，如8羟基喹啉铝、红荧烯等，也可以是掺杂物，如4，4′-N，N′-二咔唑-联苯掺入红荧烯等，还可以是磷光材料，更可以为荧光材料，厚度可以为1～50纳米；采用化学气相沉积、物理气相沉积或旋涂的方法，在制备有有机发光层的衬底基板上形成电子传输层，电子传输层可以掺入金属铯Cs等材料，厚度可以为10～100纳米。电子注入层可以采用氟化锂制成。

像素界定层上的每一个开口对应一个子像素，由于相邻的子像素的颜色可能不同，所对应的有机发光层的材料也可能不同，设置开口后可以避免相邻的子像素之间产生串色的现象。

在制作完成OLED功能层后还可以对阵列基板进行烘干，尤其是当采用喷墨打印的方式制作时，可以加快颜料干燥的速度，减少OLED功能层中的水分。

S25：在OLED功能层上形成阴极。

阴极可以采用磁控溅射、蒸镀、气相沉积等方法进行制作。作为举例，在本实施例中多个OLED功能层的阴极相互连接，实现对多个OLED的共阴极连接，在其他可能的实现方式中，多个OLED功能层的阴极也可以不相连。

阴极可以采用高导电性能的金属材料制成，例如金属银，在制作过程中可以通过调节阴极的厚度使阴极具有足够的透光性。

S26：烘干形成有阴极的阵列基板。

由于制作OLED的有机发光层的材料本身含有一定的水分，且在工艺制程中，例如构图工艺，也有可能会在阵列基板上留下一定量的水，因此像素界定层中的干燥剂可能已经吸收了一定量的水分，吸湿能力下降，在形成阴极后，对阵列基板进行烘干，可以去除干燥剂吸收的水分，提高干燥剂的吸湿能力。

S27：形成封装层。

通过形成封装层，使得OLED功能层和阴极被封装在阵列基板和封装层之间。

在形成封装层时，可以采用以下步骤：

在封装层基材中掺入干燥剂。

采用掺有干燥剂的封装层基材在阵列基板上形成封装层。

封装层可以采用等离子体增强化学气相沉积的方式形成。封装层基材可以是聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二乙基砜、聚对苯二甲酸丁二醇酯中的任一种材料制成，以上材料可以较好的隔绝外界中的水分，避免水分渗透到OLED显示面板内部。

封装层基材中掺入的干燥剂可以与像素界定层基材中掺入的干燥剂相同，具体成分可以参见前文对于干燥剂的说明。

在实现时，可以只在像素界定层和封装层中的一个中掺入干燥剂，也可以在像素界定层和封装层中都掺入干燥剂。若只在像素界定层中掺入干燥剂，则在步骤S27中采用未掺有干燥剂的封装层基材制作封装层，若只在封装层中掺入干燥剂，则在步骤S23中采用未掺有干燥剂的像素界定层基材制作像素界定层。

可选地，当封装层中掺有干燥剂时，该方法还可以包括在封装层上形成表面封装层。表面封装层可以采用封装层基材形成，制作工艺可以与封装层的制作工艺相同。表面封装层包覆在封装层上，表面封装层中未掺有干燥剂，设置表面封装层后，在湿度很大的环境下，表面封装层对外界环境进行第一次隔离，可以避免封装层从外界环境中吸收过多的水分。

本实用新型实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括前述的任一种OLED显示面板。该显示装置可以是手机、平板电脑、显示器、导航仪，或是其他具有显示功能的装置。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。