技术总结
本实用新型提供一种腔室冷却装置及半导体加工设备，包括：冷却槽，设置在腔室底部，用于盛放冷却液体；多根冷却管，设置在冷却槽中，且在多根冷却管的管壁上均设置有出流口，多根冷却管上的出流口喷出的水流能够带动冷却槽中的冷却液体形成旋转湍流；多根进水管，一一对应地与多根冷却管连接；并且，在每根进水管上设置有通断阀和流量调节阀。本实用新型提供的腔室冷却装置，其可以使结构更紧凑、减少流速损失，还可以对多根冷却管中的流量进行独立控制，从而可以提高可操作性和水流均匀性。
技术研发人员：刘皓
受保护的技术使用者：北京北方华创微电子装备有限公司
技术研发日：2018.09.11
技术公布日：2019.04.19