加热器块以及热处理设备和方法与流程

本公开涉及一种加热器块以及热处理设备和方法，且更具体地说，涉及一种能够使由异物所引起的反射镜的污染降到最低的加热器块以及热处理设备和方法。

背景技术：

利用通过在衬底上重复所有种类的单元工艺(诸如薄膜沉积工艺、离子植入工艺以及热处理工艺)来在衬底上形成具有电路的所需操作特征的元件的方法制造半导体和显示装置。在上述工艺中，热处理工艺通常在快速热处理设备中执行。通常，快速热处理设备包含：腔室；衬底支撑件，安置于所述腔室中；多个反射镜，安置于腔室上方同时面朝衬底支撑件且以线性方式布置于与衬底支撑件平行的预定平面上；以及多个灯，分别容纳于多个反射镜中且以线性方式布置。此处，灯发射呈红外线和紫外线形式的光，且反射镜将从灯发射出的光聚集于衬底上。

反射镜因其结构而易受异物影响。因此，在执行热处理工艺时，异物在灯与反射镜之间被引入且容易粘附于反射镜上。当反射镜受到异物污染时，由于未精确控制衬底的温度且反射镜的效率降低，因此热处理工艺的热效率可能降低，且可能需要提供额外功率以补偿降低的热效率。此外，异物在热处理工艺期间落下使得衬底或腔室受到污染。

在以下专利文献中揭示本公开的背景技术。

(现有技术文献)

(专利文献)

(专利文献1)kr10-2015-0138496a

技术实现要素：

本公开提供一种能够通过使用气体使由异物所引起的反射镜的污染降到最低的加热器块以及热处理设备和方法。

本公开提供一种能够通过使用气体防止异物在反射镜与灯之间被引入的加热器块以及热处理设备和方法。

本公开提供一种能够防止气体直接注入到灯和衬底的加热器块以及热处理设备和方法。

本公开提供一种能够在反射镜与衬底之间均匀地形成传热流和气流的加热器块以及热处理设备和方法。

根据一示例性实施例，一种加热器块包含：灯，在一个方向上延伸；外壳，被配置成容纳灯；容纳部件，安装到外壳的一个表面且包含用于容纳灯的凹部；以及防污染部件，安设到容纳部件以在灯与容纳部件之间的空间中产生气流。

防污染部件可包含：导引构件，具有安置于灯与容纳部件之间以在一个方向上移动气体的至少一部分；注入单元，连接到导引构件以朝向面向灯的凹部注入气体；以及气体供应源，连接到导引构件。

导引构件可具有在一个方向上延伸且允许气体从中通过的内部流动路径。

导引构件可设置流动路径，所述包围灯的外表面，在一个方向上沿所述灯的外周表面延伸，且与所述外周表面间隔开以允许气体从中通过。

导引构件可包含光学透明材料。

注入单元可包含注入孔，所述注入孔穿过导引构件，与流动路径连通，且布置在一个方向上。

注入孔可面向凹部的中心部分。

注入孔可在与一个方向相交的另一方向上彼此间隔开以提供多个阵列，以及所述多个阵列可在灯的一个方向上朝向中心轴的两侧以相同距离间隔开。

被配置成连接导引构件的中心点与导引构件的横截面上的各注入孔的连接管线之间的内角可小于180°

注入孔可在一个方向上以相同距离间隔开且根据与流动路径的上游的距离而具有不同直径。

注入孔可具有相同直径，且注入孔之间的相互距离可根据与流动路径的上游的距离而不同。

灯可被设置成多个且布置在另一方向上以提供板形热源，容纳部件可被设置成多个以容纳各个灯，导引构件可被设置成多个以面向各个容纳部件，以及注入单元可被设置于各个导引构件。

根据另一示例性实施例，一种热处理设备包含：腔室，具有用于处理衬底的内部空间；衬底支撑部件，安置于腔室中；以及加热器块，安装在腔室的一侧同时面向衬底支撑部件。此处，加热器块在面向衬底支撑部件的一个表面上包含：灯，在一个方向上延伸；容纳部件，被配置成容纳灯；以及防污染部件，被配置成防止面向灯的容纳部件的表面受到污染。

容纳部件可包含用于容纳灯的凹部，所述凹部可暴露于腔室的内部，以及防污染部件可在灯与面向灯的凹部的凹面之间的空间中产生气流。

防污染部件可包含：导引构件，在一个方向上延伸，将灯容纳于其中且具有与灯的外周表面间隔开的内周表面，并且具有中空管结构；注入孔，穿过导引构件以将气体注入到凹面且在导引构件上布置在一个方向上；以及气体供应源，连接到导引构件，且导引构件可包含光学透明材料。

注入孔可在与一个方向相交的另一方向上彼此间隔开以面向凹面的中心部分或在导引构件上形成多个阵列，且注入孔安置于导引构件的后表面侧同时在一个方向上相对于导引构件的中心轴对称布置。

注入孔在一个方向上以相同距离彼此间隔开时可具有不同直径或在一个方向上以不同距离彼此间隔开时具有相同直径。

根据又一示例性实施例，一种使用安置成面向衬底的灯的热处理方法包含：通过使用灯来产生光；通过使用安置于灯的后表面上的凹面将光聚集于衬底上；以及通过在灯与凹面之间的空间中产生气流来防止凹面的污染。

所述防止污染可包含：经由安置于灯的外侧的导引构件沿灯的外周表面在灯的延伸方向上移动气体；在灯的延伸方向上通过使用布置于导引构件上的注入孔朝向凹面注入气体；以及通过气体保护凹面。

所述防止污染可包含：在通过使用凹面使气流朝向衬底折射时将气体供应到衬底。

可将光传输通过导引构件并发射到衬底和凹面，注入孔可将气体均匀地注入到凹面，且气体可包含惰性气体且在于灯的延伸方向上移动时通过与灯接触并进行热交换而温度升高。

附图说明

通过结合附图进行的以下描述可更详细地理解示例性实施例，其中：

图1是示出根据示例性实施例的热处理设备的示意图。

图2是示出根据示例性实施例的加热器块的模拟图。

图3是示出根据示例性实施例的加热器块的正向横截面视图。

图4是示出根据示例性实施例的加热器块的侧向横截面视图。

图5是示出根据示例性实施例的防污染部件的部分放大视图。

图6是示出根据经修改的示例性实施例的防污染部件的部分放大视图。

图7是示出根据示例性实施例的热处理设备的流程视图。

图8是用于说明根据示例性实施例的在衬底的热处理工艺期间在灯与反射镜之间的气流的曲线图。

图9(a)及图9(b)是示出根据经修改的示例性实施例的针对防污染部件的各气体供应流动速率的气体注入流速的曲线图。

图10(a)及图10(b)是示出根据示例性实施例的针对防污染部件的各气体供应流动速率的气体注入流速的曲线图。

具体实施方式

在下文中，将参考附图详细描述本发明的实施例。然而，本发明可以不同的形式来体现，且不应解释为限于本文中阐述的实施例。确切地说，提供这些实施例是为了使得本公开将是透彻并且完整的，并且这些实施例将向本领域的技术人员完整地传达本发明的范围。在附图中，为了说明的清楚起见放大了层和区域的尺寸。贯穿全文，相同的附图标记指代相同的元件。

图1是示出根据示例性实施例的热处理设备的示意图，且图2是示出根据示例性实施例的加热器块的模拟图。将参看图1和图2详细地描述根据示例性实施例的热处理设备。

根据一示例性实施例的热处理设备包含：腔室200，具有用于处理衬底s的内部空间；衬底支撑单元300，安置于腔室200中；以及加热器块100，安装到腔室200的一侧同时面向衬底支撑单元300。

衬底s可包含可在例如制造显示装置时使用的大面积玻璃衬底。衬底s可具有矩形板形状。除大面积玻璃衬底之外，衬底s还可包含应用有用于制造所有种类的电子装置(诸如半导体芯片和太阳能电池)的工艺的各种衬底，且除矩形板形状之外，所述衬底还可具有各种形状。

腔室200可具有其中限定有用于处理衬底s的内部空间的矩形容器形状。腔室200可根据衬底s的形状而具有各种形状。举例来说，腔室200可具有圆柱形形状。腔室200可具有限定于其上部部分中的开口。开口可具有例如与衬底s的形状对应的矩形形状。腔室200可还包含闸门(未示出)和真空泵(未示出)。

衬底支撑单元300可支撑衬底且安置于腔室200的内部底表面上。举例来说，衬底支撑单元300可安置于腔室200的下部部分上。衬底支撑单元300可包含安置于其顶部表面上的抬升销(liftpin)。可将衬底s安放在抬升销上。或者，衬底支撑单元300可包含衬底s安放于其上的边缘环(未示出)。

可安设加热器块100以密封腔室200的开口。因此，衬底支撑单元300和加热器块100可安置成在竖直方向z上面向彼此。此处，安置成面向彼此的状态表示安置为彼此相对的状态。

加热器块100可产生光以将所产生的光提供到衬底s，并且通过使用光对衬底s进行热处理。举例来说，可将加热器块100用作用于对衬底s执行热处理工艺的快速热处理设备的热供应源。

加热器块100可具有面向衬底支撑单元300的一个表面。此处，加热器块100的所述一个表面可以是例如其底部表面。加热器块100可在一个表面上包含：灯l，在一个方向x上延伸；容纳部件120，用于容纳灯l；以及防污染部件，用于防止面向灯l的容纳部件120的表面受到污染。

一个方向x可指代前后方向，竖直方向z可指代高度方向，而另一方向y可指代与一个方向x和竖直方向z中的全部相交的左右方向。

容纳部件120可包含用于容纳灯l的凹部。凹部可相对于加热器块100的一个表面凹入以容纳灯l。凹部可包含凹槽121和凹面122。凹槽121可设置于容纳部件120的下部部分中且向上凹入。灯l可安置于凹槽121中。作为凹部的内表面的凹面122可面向灯l。

可设置至少一个灯l。当设置多个灯l时，灯l可布置在另一方向y上以提供板形热源。此外，当设置多个灯l时，可设置多个容纳部件120，且多个灯l可分别容纳于多个容纳部件120中。

然而，示例性实施例并未特定限制于灯l和容纳部件120中的每一个的数量。可以各种方式设置灯l和容纳部件120。举例来说，加热器块100可包含一个灯l和一个容纳部件120。

可使加热器块100的一个表面暴露于腔室200的内部，还可使凹槽121和凹面122暴露于腔室200的内部，且还可使灯l暴露于腔室200的内部。

因此，加热器块100可包含防污染部件，所述防污染部件安设在容纳部件120中以在灯l与容纳部件120之间的空间中产生气流，从而防止作为凹槽121的内周表面的凹面122受到异物污染。

也就是说，防污染部件可在灯l与凹面122之间的空间中产生气流并且通过使用气流防止凹面122受到污染。

防污染部件可包含：导引构件130，具有在一个方向x上延伸的中空管结构，将灯l容纳于其中，具有与灯l的外周表面间隔开的内周表面，且由光学透明材料制成；注入孔，在一个方向x上布置于导引构件130上且穿过导引构件130以将气体注入到凹面122；以及气体供应源160，连接到导引构件130。

图3是示出根据示例性实施例的加热器块的正向横截面视图，且图4是示出根据示例性实施例的加热器块的侧向横截面视图。图5是示出根据示例性实施例的防污染部件的部分放大视图，且图6是示出根据经修改的示例性实施例的防污染部件的部分放大视图。图7是示出根据示例性实施例的热处理设备的流程视图。

在下文中，将参看图1到图7描述根据示例性实施例的加热器块100。根据一示例性实施例的加热器块100包含：灯l，在一个方向x上延伸；外壳110，设置成容纳灯l；容纳部件120，安装到外壳110的一个表面且包含用于容纳灯l的凹部；以及防污染部件，安设在容纳部件120中以在灯l与容纳部件120之间的空间中产生气流。

灯l可包含具有管形状的线型灯。灯l可由石英材料制成。发光体可安置于灯l中，且灯l的两个端部中的每一个可由电极密封。发光体可包含用于产生具有各种波长的电磁波的所有种类的组件，例如灯丝。发光体可连接到电极且发射具有红外线、可见光线以及紫外线中的至少一种类型的光以将辐射热提供到衬底s。灯l可容纳于容纳部件120中，布置在一个方向x上，且暴露于外壳110的一个表面的外侧，例如下侧。

外壳110可具有能够容纳灯l的区域。外壳110可包含主体111和封盖112。主体111可具有例如矩形容器形状，在所述矩形容器形状中，在其上部部分中限定开口，且其内部通过所述开口打开。封盖112可具有矩形板形状。封盖112可安装到主体111的开口以密封主体111的开口。主体111和封盖112中的每一个的形状可根据腔室200的形状而变化。

当在一个方向x上穿过主体111时可安装灯座140以支撑灯l。灯座140可分别安置于灯l的两个端部处，且分别连接到灯l的两个端部处的电极以支撑灯l。外部电源150可通过灯座140电性连接到灯l的两个端部处的电极。

容纳部件120可安置于外壳110中且安装到外壳110的一个表面。容纳部件120可在一个方向x上延伸以容纳灯l。此外，容纳部件120可相对于外壳110的一个表面(例如外壳110的内部)向上凹入以容纳灯l且具有拱形的横截面。也就是说，容纳部件120可包含安置于其下部部分处且向上凹入以容纳灯l的凹槽121。凹槽121可容纳灯l，且作为凹槽121的内周表面的凹面122可面向灯l的后表面。此处，灯l的整个外周表面的面向衬底支撑部件300的外周表面的下部区域被称作前表面，且其上部区域(其为外周表面的除下部区域以外的剩余部分)被称作灯l的后表面。

凹面122可包含反射镜。反射镜可使光朝向衬底支撑部件300折射且将光聚集到安放于衬底支撑部件300上的衬底s。反射镜可与凹面122一体形成，或作为单独构件附接到凹面122并从凹面上拆卸。然而，示例性实施例并未特定限制于用于使光折射和聚集光的反射镜的具体弧形形状和材料。

向上突起的突出部(projection)可设置于容纳部件120的上部部分上，且所述突出部可在一个方向x上延伸。突出部可由封盖112支撑。

可在主体111、封盖112以及容纳部件120之间的空间中限定制冷剂通道。制冷剂通道可连接到制冷剂管(未示出)。制冷剂管可向制冷剂通道提供制冷剂并从制冷剂通道收集制冷剂。制冷剂在流经制冷剂通道时可与容纳部件120接触并且使容纳部件120的温度冷却至容纳部件120的耐热性特征以下的温度。制冷剂可包含例如水。

防污染部件可安设在容纳部件120中以在灯l与容纳部件120之间的空间中产生气流。防污染部件可包含：导引构件130，具有安置于灯l与容纳部件120之间以在一个方向x上移动气体的至少一部分；注入单元，连接到导引构件130以将气体注入到面向灯l的容纳部件120的凹面122；以及气体供应源160，连接到导引构件130。

导引构件130可使至少一部分安置于灯l与凹面122之间以在一个方向x上移动气体。导引构件130可安置于凹槽121中，在一个方向x上延伸，且具有气体从中通过的内部流动路径。此外，导引构件130可由光学透明材料制成。举例来说，导引构件130可由石英材料制成。

导引构件130可与灯l的形状对应且包含具有例如管形状的线型构件。导引构件130可被称为由石英材料制成的气体管。

具体而言，导引构件130可提供流动路径，所述流动路径包围灯l，在一个方向x上沿灯l的外周表面延伸，且与灯l的外周表面间隔开以允许气体从中通过。

如上文所描述，导引构件130可具有中空管结构且将灯l容纳于其中。导引构件130的内周表面可与灯l的外周表面间隔开。因此，可以不必将用于安设导引构件130的额外空间固定于容纳部件120中，且可在容纳部件120和灯l中的每一个不发生结构变化的情况下通过使用容纳部件120中的指定空间来容易地安置导引构件130。因此，可防止光学集成度和照明分布程度劣化。或者，导引构件130可分开地安置于灯l与凹面122之间的空间中，且在这种情况下，灯l可安置于导引构件130的外侧。

注入单元可连接到导引构件130以朝向凹面122注入气体。举例来说，注入单元可包含注入孔h，注入孔h穿过导引构件130，连通流动路径且布置在一个方向x上。或者，注入单元可被设置为单独喷嘴或注入管，且安装到导引构件并连接到流动路径。也就是说，注入单元可包含能够将导引构件130中的气体直接注入到凹面122的各种部件。

参看图5，注入孔h可在另一方向y上彼此间隔开以形成多个阵列，且注入孔h的多个阵列可在灯l的一个方向上与中心轴(未示出)的两侧间隔开相同距离。也就是说，注入孔h可在导引构件130的后表面上在一个方向x上形成多个阵列，且所述阵列可在导引构件130的后表面的中心部分(例如后表面的最高点区域)在左右两侧彼此间隔开相等距离。此处，注入孔h的阵列可被设置成偶数个。举例来说，当阵列被设置成奇数个时，可在导引构件130的后表面的最高点区域处将一个阵列在一个方向x上布置成一排。此处，连接导引构件130的中心点与导引构件130的横截面上的处于另一方向y上的最外阵列的注入孔h的连接管线之间的内角θ可小于180°也就是说，注入孔h可与导引构件130的前表面间隔开且布置于其后表面上。

或者，参看图6，注入孔h可布置成面向凹面122的中心部分同时在一个方向上形成一个阵列。也就是说，可在最高点区域(其是导引构件130的后表面的中心部分)处将注入孔h向一个方向x布置成一排，以面向凹面122的中心部分。

注入孔h的上述布置可允许通过凹面122折射并流向衬底支撑部件300的气流在另一方向y上变得均匀。也就是说，在凹槽121中从凹面122向下流动到衬底支撑部件130的气流可通过注入孔h的上述布置而在另一方向y上变得均匀。

此外，首先可朝向凹面122注入气体，且随后通过凹面122使气体折射并将其引导到衬底支撑部件300，而不是通过注入孔h的上述布置直接流向衬底支撑部件300。因此，可防止灯l及衬底s因气体的注入压力而损坏，且可通过充足的注入压力顺利注入气体，使得凹面122被气体包围以保护凹面122使其免受异物影响。

注入孔h可形成朝向凹面122的气流，且注入凹面122的气体可针对凹面122形成气体保护层以充分保护凹面122。此后，气体向下流动以密封灯l与凹面122之间的狭窄间距，从而在根本上阻止异物被引向凹面122的中心部分。具体而言，由于气流形成于灯l下方，因此可在根本上阻止异物的引入。

导引构件130和注入孔h中的全部可被称为喷淋管(showertube)。

根据一示例性实施例，由于采用喷淋管作为用于在凹槽121中形成气流的结构，因此例如，可不必在凹面122中限定注入孔。因此，凹面122可维持例如反射镜自身的抛物线状，且在不产生光的辐射、反射以及折射损失的情况下使光朝向衬底支撑部件300均匀地折射。也就是说，气流可通过喷淋管在不出现反射镜的结构变形和损坏的情况下形成于凹槽121中。

此处，由于根据示例性实施例的加热器块用于衬底的热处理，因此在一个方向x上的气体分布较为重要。

图8是用于说明根据示例性实施例的在衬底的热处理工艺期间在灯与反射镜之间的气流的曲线图，图9(a)及图9(b)是示出根据经修改的示例性实施例的针对防污染部件的每一气体供应流动速率的气体的注入流速的曲线图，且图10(a)及图10(b)是示出根据示例性实施例的针对防污染部件的每一气体供应流动速率的气体注入流速的曲线图。

将参看图8到图10(a)及图10(b)描述针对一个方向x上的每个位置的各注入孔h的直径。

根据示例性实施例的加热器块的建模通过使用能够模拟流体流量的商用程序执行，且通过计算机来分析基于注入孔的各种直径、布置以及数量在利用各种流动速率注入气体时从注入孔注入到导引构件的气体的流速。

在下文中，虽然下文提出数值数据以示出用于解释示例性实施例的实施例，但示例性实施例不限于此。

图8示出通过将导引构件在一个方向上的长度建模成118.55厘米且将注入孔在一个方向上的数量建模成17来分析针对导引构件的一个方向上的每个位置的流速的分析结果。此处，在图8的分析结果中并未考虑直径的变化，使得针对注入孔在一个方向上的每个位置的流速是均匀的。

此后，参看图9(a)中的分析结果，在注入孔布置成行，注入孔的数量为17，注入孔之间的距离为70毫米，供应到导引构件的气体的流动速率在3l/分钟、5l/分钟、10l/分钟、20l/分钟、30l/分钟、40l/分钟、50l/分钟、60l/分钟、70l/分钟、80l/分钟、90l/分钟以及100l/分钟的范围内变化的状态下将在注入孔处测量得到的流速值示出为线a到线l。此处，注入孔的直径为1.1毫米。

根据图9(a)的分析情况，通过将各注入孔的直径更改成1.0毫米，将注入孔的数量更改为20，并且将间距(即，注入孔之间的距离)更改为60毫米来得到图9(b)中的分析结果。

根据图9(a)和图9(b)的分析情况，通过将注入孔的阵列的数量更改为两个并且维持其余情况来得到图10(a)和图10(b)中的分析结果。此处，形成一个阵列的左侧注入孔和形成另一阵列的右侧注入孔经分析针对在一个方向上的每个位置具有相同流速。

参看图9(a)和图9(b)和图10(a)和图10(b)的分析结果，表明流速在注入处是均匀的。也就是说，当如同上述分析情况适当地调整导引构件的长度与各注入孔的直径之间的关系时，可知以均匀速度从注入孔注入气体。

或者，除上述方法以外，可针对在一个方向上的每个位置均匀地控制从注入孔的气体注入的流速。

在下文中，将继续参看图1到图7描述根据示例性实施例的加热器块100。

举例来说，可通过在一个方向x上将注入孔h间隔开相同距离并且根据与流动路径的上游的距离而改变直径将从注入孔h注入的气体的流速控制成在一个方向x上为均匀的。或者，可通过将注入孔h形成为具有相同直径并且根据与流动路径的上游的距离改变注入孔h之间的相互距离将从注入孔h注入的气体的流速控制成在一个方向x上为均匀的。此外，可以不同方式提供用于将从注入孔注入的气体的流速控制成在一个方向上均匀的方法。

此处，上游是气体首先从中通过的部分，且下游是气体随后从中通过的部分。

气体供应源160可经由灯座140连接到导引构件130。气体供应源160可连接到导引构件130的两个端部，且将惰性气体(例如氩气或氮气)供应到导引构件130的一个端部，并且从导引构件130的另一端部收集惰性气体。因此，气体可在一个方向x上流经导引构件130的内部。可通过各注入孔h朝向凹面122注入气体。

虽然先前相对于一个灯l描述加热器块100的结构，但是灯l可被设置成多个且布置在另一方向y上以形成板形热源。也就是说，可以不同方式设置灯l的数量。举例来说，灯l的数量可大于至少一个，且灯l可以线性方式布置于加热器块100的一个表面上。

当将多个灯l设置于加热器块100时，多个容纳部件120可分别设置成容纳灯l，多个导引部件130可分别设置成容纳灯l同时面向容纳部件120，且导引部件130的内周表面可分别与灯l的外周表面间隔开。气体供应源160可并联连接到导引部件130。或者，可设置多个气体供应源160，并且所述多个气体供应源分别串联连接到导引部件130。

此外，可将注入单元设置于各导引部件130。也就是说，注入孔h可穿过各个导引部件130且在一个方向x上布置于各个导引部件130上以朝向面向灯l的凹面122注入气体。此处，注入孔h可在另一方向y上彼此间隔开以面向凹面122的中心部分或在导引构件130上形成多个阵列，且注入孔安置于导引构件130的后表面上同时在一个方向上相对于导引构件130的中心轴(未示出)对称安置。

此外，注入孔h在一个方向x上以相同距离彼此间隔开时可具有不同直径，或在一个方向上以不同距离彼此间隔开时具有相同直径。

在下文中，将描述根据示例性实施例的热处理方法。此处，将省略与以上描述重叠的描述。根据示例性实施例的热处理方法(其是通过使用安置成面向衬底的灯来对衬底进行热处理的方法)包含：通过使用灯l产生光的流程；通过使用安置于灯l的后表面上的凹面将光聚集于衬底s的流程；以及在灯l与凹面122之间的空间中产生气流以防止凹面122受到污染的流程。

在通过从灯l产生光并且通过使用凹面122将光聚集到衬底s来对衬底s进行热处理时，当凹面122受到异物污染时，凹面122的热效率可劣化。

因此，在对衬底s进行热处理时可通过使用防污染部件在灯l与凹面122之间的空间中产生气流来防止凹面122的污染。

具体而言，经由安置于灯l的外侧的导引构件130沿灯l的外周表面在灯l的延伸方向上移动气体。此处，气体包含惰性气体。此外，气体可在灯l的延伸方向上移动时与灯接触并进行热交换而温度升高。

此后，通过使用在灯l的延伸方向上布置于导引构件130上的注入孔h朝向凹面122注入气体来通过气体保护凹面122。此处，在一个方向和另一方向上将气体均匀地注入到凹面122。此外，通过使用凹面122使气流朝向衬底s折射，并且将温度升高的气体供应到衬底s。

上述流程可同步执行或按照任意顺序依次执行。在通过使用气体防止凹面122的污染时可将光传输通过导引构件130，并且顺利地释放到衬底s和凹面122。此后，当衬底s的热处理完成时，停止气体的供应，更换衬底，且随后执行下一次热处理。

根据示例性实施例，可防止凹面(即，反射镜)受到污染，且可保持所述流程的热效率。此外，可通过使用气体进一步均匀地控制衬底s的温度。也就是说，防污染部件可出于如下两个目的来以不同方式使用气体：防止反射镜污染和控制衬底s的温度。

根据示例性实施例，在沿灯的外周表面在灯的延伸方向上移动气体时，可通过从灯的外周表面的多个位置将气体注入到反射镜而将气体的保护层形成于灯与反射镜之间的空间中。因此，可防止异物被引入反射镜与灯之间，且可使由异物所引起的反射镜的污染减到最少。

此外，根据示例性实施例，气体可通过在移动时与灯接触而温度升高，且随后可将气体注入到反射镜以形成且维持保护层，且通过使用反射镜使气流朝向衬底折射，使得将气体供应到衬底。因此，可防止气体直接注入到灯和衬底，且可均匀地形成在反射镜与衬底之间的气流，以通过气体均匀地形成传热流。

因此，在衬底的热处理工艺期间可防止热效率劣化，且可精确控制温度。因此，由于可减少经热处理的衬底的缺陷并且可提高所述衬底的质量，因此可提升衬底的热处理工艺的可靠性。

虽然已经参看具体实施例描述加热器块以及热处理设备和方法，但是所述加热器块以及热处理设备和方法并不限于此。因此，所属领域的技术人员将容易理解，在不脱离由随附权利要求定义的本发明的精神和范围的情况下，可以对其进行各种修改和改变。