激光热处理设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种热处理设备(heat treatment apparatus),且更确切地说,涉及一种防止掩模支撑模块(mask support module)被激光热破坏的激光热处理设备。
【背景技术】
[0002]用于通过使用激光来处理衬底的典型热处理设备包含:在其上部部分中具有透射窗口的腔室；安置于腔室中以支撑且水平地移动衬底的衬底平台；安置于腔室之外以支撑掩模的掩模支撑模块；安装于腔室之外以提供激光的振荡部分；及安置于掩模支撑模块与腔室之间且对应于透射窗口的上侧以聚焦激光的图像形成系统(image forming system)(或投影透镜)。因此，将激光从振荡部分经由掩模及图像形成系统发射到置于腔室中的衬
。
[0003]虽然大部分激光束经由图像形成系统到达衬底，但其一部分由图像形成系统反射，且被散射并入射到掩模支撑模块。在具有高温的激光束的散射部分入射到掩模支撑模块时，从激光束的散射部分发射的高温热使掩模支撑模块变形。在将掩模置于掩模支撑模块上时，掩模对准。在此状况下，因为从激光束的散射部分发射的高温热使掩模支撑模块变形，所以掩模未对准。因此，掩模应重新对准，此举是一麻烦的过程。
[0004]第2003-0056248号韩国专利公开案揭示一种激光热处理设备，其包含用于以激光束来辐射板的第一激光装置。第一激光装置包含:第一激光产生器装置；用于分割脉冲激光束以发射脉冲激光束的掩模；及用于增加脉冲激光束的密度的投影透镜。尽管第2003-0056248号韩国专利公开案并未揭示一种掩模支撑模块，但在所属领域中常常使用用于支撑掩模的掩模支撑模块。此外，第2003-0056248号韩国专利公开案揭示一种用于增加激光束的密度或聚焦激光束的投影透镜。激光束的一部分由投影透镜反射，且接着入射到掩模支撑模块，如上文所描述。因此，从激光束产生的热使掩模支撑模块变形。
[0005]〈所引用的文件〉
[0006][专利文件]第2003-0056248号韩国专利公开案
【发明内容】
[0007]本发明提供一种防止掩模支撑模块被激光热破坏的激光热处理设备。
[0008]本发明亦提供一种处理由掩模支撑模块的热变形引起的未对准问题的激光热处理设备。
[0009]根据示范性实施例，激光热处理设备包含:具有内部空间且容纳衬底的腔室；安装于腔室之外且使激光振荡的振荡器；安置于腔室的上侧之外的掩模；经配置以支撑掩模的掩模支撑模块；安置于掩模支撑模块之下以聚焦穿过掩模的激光的图像形成系统；及光束切割器，其安装于掩模支撑模块与图像形成系统之间以对应于其中从图像形成系统反射的激光束被散射到掩模支撑模块的区，从而防止从图像形成系统反射及散射的激光束入射到掩模支撑模块。
[0010]掩模支撑模块可包含:安置于图像形成系统上方的基部；在基部上方在X轴方向上延伸的第一滑轨；安装于第一滑轨上以沿着第一滑轨滑动的第一平台；在第一平台上方在Y轴方向上延伸的第二滑轨；安装于第二滑轨上以沿着第二滑轨滑动的第二平台；安装于第二滑轨上以沿着第二滑轨滑动的第二平台；可旋转地安装于第二平台上的第三平台；及安装于第三平台上以支撑掩模的掩模支架，其中基部、第一到第三平台及掩模支架是由不胀钢(Invar)形成。
[0011]光束切割器可安装于基部及第一到第三平台中的每一者的下部部分上，且光束切割器可对应于其中从图像形成系统反射的激光束被散射到掩模支撑模块的区。
[0012]激光热处理设备可包含安装于基部及第一到第三平台中的每一者的下部部分上的热屏蔽部件，其中光束切割器的至少一部分连接到热屏蔽部件的下部部分，且因此与基部及第一到第三平台中的每一者的下部部分间隔开。
[0013]热屏蔽部件可包含陶瓷。
[0014]光束切割器可具有安置于至少一个指向图像形成系统的表面上的多个突起部的形状。
[0015]光束切表1]器可由招(Al)形成。
【附图说明】
[0016]通过结合附图进行的以下描述可以更详细地理解示范性实施例。
[0017]图1为说明根据示范性实施例的激光热处理设备的主要部分的横截面图。
[0018]图2为说明根据示范性实施例的掩模支撑模块的平面图。
[0019]图3为说明根据示范性实施例的包含光束切割器及热屏蔽部件的掩模支撑模块及安置于掩模支撑模块之下的投影透镜的横截面图。
[0020]图4(a)为说明根据示范性实施例的光束切割器的横截面图。
[0021]图4(b)为说明根据示范性实施例的光束切割器的横截面图。
【具体实施方式】
[0022]下文中将参看附图详细描述具体实施例。但是，本发明可以用不同形式实施，并且不应被解释为限于本文所阐述的实施例。而是，提供这些实施例是为了使得本发明将是透彻并且完整的，并且这些实施例将把本发明的范围完整地传达给所属领域的技术人员。相同的参考标号始终指代相同的组件。
[0023]图1为说明根据示范性实施例的激光热处理设备的主要部分的横截面图。图2为说明根据当前实施例的掩模支撑模块的平面图。图3为说明根据当前实施例的掩模支撑模块、安装于掩模支撑模块上的光束切割器及热屏蔽部件的视图。图4(a)为说明根据当前实施例的光束切割器的横截面图。图4(b)为说明根据当前实施例的变体的光束切割器的横截面图。
[0024]根据当前实施例的激光热处理设备为激光诱导热成像(laser induced thermalimaging, LITI)设备。确切地说，激光热处理设备用以在玻璃衬底之上形成发射层(emitting layer, EML),在所述玻璃衬底上堆叠光透射阳极,例如氧化铟锡(indium tinoxide, ΙΤ0)、空穴注入层(hole inject1n layer, HIL)及空穴传输层(hole transportlayer，HTL)。为此目的，下表面涂布有用于发射红(R)、绿(G)、蓝(B)及白(W)中的任一者的光的有机发光材料的上部薄膜覆盖玻璃衬底的上部部分，在所述玻璃衬底上堆叠光透射阳极、空穴注入层(HIL)及空穴传输层(HTL)。单独的下部薄膜覆盖玻璃衬底的下部表面。在覆盖有上部及下部薄膜的玻璃衬底在激光热处理设备中使用激光来热处理时，覆盖上部薄膜的下部表面的有机发光材料在空穴传输层(HTL)上形成薄膜。
[0025]下文中，覆盖有用于覆盖其上堆叠阳极、空穴注入层及空穴传输层的衬底的薄膜的待处理物体在描述中为方便起见就被称作“衬底”。
[0026]参看图1到3，激光热处理设备包含:表面板200 ;腔室100，其具有内部空间及由表面板200封闭的下部开口 ；衬底平台300，其安置于腔室100中且水平地移动置于其上部部分上的衬底S ;振荡部分400，其安置于腔室100之外以产生点状激光以用于热处理；线产生器500，其从振荡部分400接收点状激光以将点状激光改变成线状激光；掩模M，其安置于腔室100的上侧之外且位于线产生器500之下；掩模支撑模块600,其支撑及转移掩模M ;及图像形成系统800，其安置于掩模支撑模块600之下以聚焦穿过掩模M的线状激光。此外，激光热处理设备包含:外壳700，其安置于腔室100的上侧之外以至少覆盖掩模支撑模块600及图像形成系统800 ;光束切割器910，其安置于掩模支撑模块600与图像形成系统800之间以对应于其中从图像形成系统800反射的激光束被散射到掩模支撑模块600的区，且防止散射激光束入射到掩模支撑模块600 ;及热屏蔽部件920，其安装于掩模支撑模块600与光束切割器910之间以防止热从光束切割器910转移到掩模支撑模块600。
[0027]举例而言,激光可为准分子激光(excimer laser)。图像形成系统800为投影透镜。
[0028]设置成具有内部空间的容器形态的腔室100具有四边形横截面，但并不限于此。因此，腔室100可具有选自各种横截面的横截面，其条件是衬底S经由激光幅射进行热处理。另外，腔室100具有具开口下部部分的形状，且安装于表面板200的上部部分上以使得开口下部部分由表面板200封闭。然而，腔室100并不限于此。因此，腔室100可具有其中安置有表面板200的完全封闭结构。用于透射穿过图像形成系统800的激光束的透射窗口110安置于腔室100的上部部分中，且可经安装以对应于图像形成系统