一种真空电容传感器介质膜的制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种真空电容传感器介质膜的制备方法。
【背景技术】
[0002]真空电容传感器是图形发射器磁带机一个重要组成器件，磁带机通过其电容值的改变来控制数据带的走、停、进、退，一旦真空电容传感器出现介质膜破损、漏气或电容器的银层极板断裂，造成磁带机吸不上带等故障，磁带机就无法读取数据，图形发射器就不能正常刻板，需要购买新设备，而该设备的真空电容传感器进口价格约十几万人民币，十分昂虫贝ο
【发明内容】
[0003]本发明的目的是提供一种制造方法简单，成本低的真空电容传感器介质膜的制备方法。
[0004]实现本发明目的的制备方法由以下几个步骤完成:
[0005]1.1选介质膜:根据真空电容传感器的旧膜参数选取
[0006]1.2刻红膜:根据所选红膜尺寸，在其上刻相同的图形
[0007]1.3蒸铝:在选好的介质膜上蒸一层铝，电阻控制在10-30欧姆
[0008]1.4、光刻极板:在蒸好铝的膜上均上一层感光膜胶，放入烘箱烘干，用刻好的红膜对其复印、曝光、显影、腐蚀、去胶。
[0009]此种制备方法，制膜工艺简单，且制备的膜层质量可靠，耐磨性能好，使用周期长，成本低，我们制备一张新膜仅需要几十元，一旦真空电容传感器出现介质膜破损、漏气情况，不需要购买新设备，只需用制备好的新膜换掉旧膜，不仅解决了图形发生器备件昂贵不易购买的难题，而且大大延长了机器的使用寿命。
【附图说明】
[0010]图1为本发明制作方法流程图
[0011]图2为红膜上所刻一组图形
【具体实施方式】
[0012]如图1所示，首先选介质膜，可根据真空电容传感器的旧膜参数选取。真空电容传感器介质膜的材料为聚氧乙烯，膜厚30个微米左右，要求所选的膜无破损、无皱痕。刻红膜:取一张20CmX30Cm的红膜，在其刻上5组相同的图形(刻5组是提供给我们较大的选择性)，其中每组的中间条纹是我们的极板图形，侧面两条为辅助条纹，可以帮助定位，条纹区的红膜被刻掉，成为透光区，其它有红膜的部位是遮光区，红膜上所刻的一组图形如图2所示。蒸铝:真空电容传感器旧的极板附着了一层银，所以给新膜上蒸一层银是最佳选择，在不具备蒸银条件的情况下，可采用蒸铝，从原理上讲，它对电容器的性能影响不大。选取一块符合要求的20cmX27cm的介质膜，在其上蒸一层铝，铝的附着性能好，电阻控制在10-30欧姆。光刻极板:在蒸好铝的膜上均上一层感光膜胶，放入烘箱烘干，用刻好的红膜对其复印、曝光、显影、腐蚀、去胶，就会在膜上得到多组铝条，选取其中一条无针孔、无断裂、附着好的作为新的电容传感器的极板，将它沿外辅助条纹外侧剪下待用。安装:将制备好的膜安装在电容传感器上，用2cm左右的垫层和双面胶将膜周围一圈固定在传感器上，在周围涂上硅胶，待硅胶凝固后，在进行接线安装。统调:安装完毕后，进行磁带机统调，找到上下电容传感器的工作点(中线)、进带点(上一寸)，退带点(下一寸)即可，统调完毕后，磁带机就可读取数据。
【主权项】
1.一种真空电容传感器介质膜的制备方法，其特征在于:包括以下步骤: 1.1、选介质膜:根据真空电容传感器的旧膜参数选取 1.2、刻红膜:根据所选红膜尺寸，在其上刻相同的图形 1.3、蒸铝:在选好的介质膜上蒸一层铝，电阻控制在10-30欧姆 1.4、光刻极板:在蒸好铝的膜上均上一层感光膜胶，放入烘箱烘干，用刻好的红膜对其复印、曝光、显影、腐蚀、去胶。
【专利摘要】本发明公开了一种真空电容传感器介质膜的制备方法，真空电容传感器是图形发射器磁带机一个重要组成器件，容易发生介质膜破损，本发明通过选介质膜、刻红膜、蒸铝、光刻极板、安装、调试等步骤制作一个新膜以代替破损的旧膜，制造方法简单，成本低，仅为十几元，且新膜的耐磨性能好，安装方便。
【IPC分类】H01G5-013, H01G5-01
【公开号】CN104637685
【申请号】CN201310567788
【发明人】鞠洪建
【申请人】大连康赛谱科技发展有限公司
【公开日】2015年5月20日
【申请日】2013年11月14日