中的非晶ITO层的形成还可采用现有的其他技术手段以实现。在本实施例中，非晶ITO的厚度为25nm?200nm。又如，非晶ITO的厚度为30nm?180nm，又如，非晶ITO的厚度为50nm?150nm，又如，非晶ITO的厚度为80nm?lOOnm，又如，非晶ITO的厚度为40nm、70nm、90nm、120nm、140nm或190nm。例如，采用物理气相沉积方法，在非金属刻蚀层上形成有一层均勾的厚度为50nm?150nm的非晶ITO层。
[0046]需要说明的是，还可在非金属刻蚀层上形成其他非晶金属氧化物，例如，氧化锡(TO)、氧化铟锡锌(ITZO)或氧化铟镓锌(IGZO)等。
[0047]S130:对非晶ITO层的预定区域进行激光退火处理，使预定区域的非晶ITO形成多晶 ITOo
[0048]请参阅图3C，利用激光照射非晶ITO层300上的预定区域310，并从基板100的一端向另一端扫描完成对预定区域内非晶ITO的激光退火处理，使预定区域的非晶ITO层转化为多晶ΙΤ0。需要说明的是，本发明中的预定区域是根据最终的非金属图案进行设定的。例如，根据目标非金属图案设置所述预定区域。
[0049]为了提高加工工艺的精准度，例如，激光光源为激光点光源，采用扫描的方式，使激光点光源产生的激光照射非晶ITO层300上的预定区域310，这样，可精准的控制形成多晶ITO层形成的区域，提高了加工工艺的精度。
[0050]S140:对预定区域外的非晶ITO层进行第一次刻蚀处理，以除去预定区域外的非晶ΙΤ0，其完成后的截面请参阅图3D。
[0051]例如，对预定区域外320的非晶ITO层进行刻蚀处理，采用湿法刻蚀。利用不同结晶态的ITO对刻蚀液具有不同的要求，因此，通过对刻蚀液的选取，使刻蚀液仅与非晶ITO发生反应，而对多晶ITO不产生作用，通过刻蚀后，仅剩下多晶ITO图形330。
[0052]为了刻蚀过程中对人体及设备的伤害，又如，选取草酸溶液为刻蚀液，由于草酸溶液对人体的危害较小、环境污染较小、对设备要求较低，这样，可以减少刻蚀过程中对人体及设备的伤害。
[0053]S150:对预定区域外的非金属刻蚀层200进行第二次刻蚀处理，以除去所述预定区域外的非金属刻蚀层，其完成后的截面请参阅图3E。
[0054]例如，对预定区域外的非金属刻蚀层进行干法刻蚀，除去所述预定区域外的非金属刻蚀层，即，对没有多晶ITO覆盖的非金属刻蚀层进行刻蚀处理，留下被多晶ITO覆盖的非金属刻蚀层，也就是说，根据多晶ITO形成的图形对非金属刻蚀层进行处理，除去没有被多晶ITO覆盖的区域。
[0055]例如，所述干法刻蚀所采用的刻蚀气体包括Ar、02、CO、CO2, H2, SF6, CxFy或C xFyHz中的一种或者几种。又如，所述干法刻蚀所采用的刻蚀气体包括Ar、02、CO、CO2, H2, SF6, CF4或CHF3中的一种或者几种。又如，根据非金属刻蚀层的材料性质，选择上述刻蚀气体在合适的条件下对该非金属刻蚀层进行刻蚀。又如，非金属刻蚀层为氮化硅时，选择采用CF4、CHF3, 02和Ar等离子体进行刻蚀，其中，刻蚀腔的压强为:15-250毫托(mt)，刻蚀功率为:500-3500W，CFjtl流量(standard-state cubic centimeter per minute)为:20-300 毫升/ 分钟(sccm)，CHF3的流量为:5_60sccm，02的流量为:5_30sccm，Ar 的流量为:50_800sccm。
[0056]S160:去除所述预定区域的多晶ITO层330，形成非金属图案210，其完成后的截面请参阅图3F。
[0057]例如，采用王水刻蚀所述预定区域的多晶金属氧化物，以去除所述预定区域的多晶ITO层，也就是说，将预定区域的非金属刻蚀层上的多晶金属氧化物除去，留下非金属图案 210。
[0058]上述非金属图案的制作方法，首先在非金属刻蚀层上形成非晶氧化物，利用激光对非晶金属氧化物的预定区域进行激光退火处理，将非晶金属氧化物转化为多晶金属氧化物，然后对非晶金属氧化物进行刻蚀，再对没有被覆盖的非金属刻蚀层进行刻蚀处理，这样，多晶金属氧化物可充当光阻作用用来保护其底下的非金属刻蚀层不被刻蚀，而没有多晶金属氧化物保护的非金属刻蚀层就被刻蚀掉了，最后去除多晶金属氧化层，形成器件所需的非金属图案。
[0059]与现有技术相比，上述非金属图案的制作方法减少了涂胶、曝光、显影、脱膜等一系列生产工艺流程，缩短了生产周期，节约了生产时间，降低了生产成本，而且实现了在不使用曝光掩膜板的条件下的产品生产，减少了物料的耗损及设备的投入，避免了有机试剂的使用，并减少了对环境的污染。
[0060]以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
[0061]以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种非金属图案的制作方法，其特征在于，包括如下步骤: 在基板上形成非金属刻蚀层； 在所述非金属刻蚀层上形成非晶金属氧化物； 对所述非晶金属氧化物的预定区域进行激光退火处理，使所述预定区域的非晶金属氧化物形成多晶金属氧化物； 对预定区域外的非晶金属氧化物进行第一次刻蚀处理，以除去所述预定区域外的所述非晶金属氧化物； 对所述预定区域外的非金属刻蚀层进行第二次刻蚀处理，以除去所述预定区域外的非金属刻蚀层； 去除所述预定区域的多晶金属氧化物，形成非金属图案。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述非晶金属氧化物为氧化铟锡、氧化锡、氧化铟锡锌或氧化铟镓锌的至少一种。
3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述第一次刻蚀处理，所采用的刻蚀液为草酸溶液。
4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述非金属刻蚀层为含硅材料层或OC月父层。
5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述第二次刻蚀处理为干法刻蚀。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述干法刻蚀所采用的刻蚀气体包括 Ar、02、CO、CO2, H2, SF6, CxFy或 C xFyHz中的一种或者几种。
7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述非晶氧化物的厚度为25nm?200nmo
8.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，采用王水作为去除所述预定区域的多晶金属氧化物的试剂。
9.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，对所述非晶金属氧化物的预定区域进行激光退火处理的步骤包括:利用激光光源照射所述非晶金属氧化物的预定区域。
10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述激光光源为激光点光源。
【专利摘要】一种非金属图案的制作方法，其包括如下步骤：在基板上形成非金属刻蚀层；在所述非金属刻蚀层上形成非晶金属氧化物；对所述非晶金属氧化物的预定区域进行激光退火处理，使所述预定区域的非晶金属氧化物形成多晶金属氧化物；对预定区域外的非晶金属氧化物进行第一次刻蚀处理，对所述预定区域外的非金属刻蚀层进行第二次刻蚀处理；去除所述预定区域的多晶金属氧化物，形成非金属图案。与现有技术相比，上述非金属图案的制作方法减少了涂胶、曝光、显影、脱膜等一系列步骤，缩短了生产周期，降低了生产成本，而且实现了在不使用曝光掩膜板的条件下的产品生产，减少了物料的耗损及设备的投入，避免了有机试剂的使用，并减少了对环境的污染。
【IPC分类】H01L21-02
【公开号】CN104867813
【申请号】CN201510164163
【发明人】苏君海, 李建, 王荣超, 任思雨, 李建华
【申请人】信利（惠州）智能显示有限公司
【公开日】2015年8月26日
【申请日】2015年4月8日