掩模、形成有机层图案的方法和制造显示器的方法
【技术领域】
[0001]描述的技术总体涉及一种用于形成有机层图案的掩模、通过利用该掩模来形成有机层图案的方法和用于制造有机发光二极管显示器的方法。
【背景技术】
[0002]有机发光二极管显示器通常包括两个电极和设置在两个电极之间的有机发射层，其中，从一个电极注入的电子和从另一个电极注入的空穴在有机发射层中彼此结合以产生激子，激子放出能量以发光。
[0003]有机发光二极管显示器的制造工艺有时包括在基板上形成多个层图案的工艺。可以通过诸如喷墨印刷、丝网印刷和光刻的各种方法来形成层图案。
[0004]具体地，当层是包括有机材料的有机层时，有机材料对氧和水非常敏感，从而不能使用诸如光刻的用于形成无机层图案的普通方法。可以通过使用喷墨、旋转器和喷嘴等的印刷工艺、沉积和图案化工艺、利用阴影掩模的沉积工艺、利用热的转移工艺或激光来形成有机层图案。
[0005]如上面描述的，用于形成有机层图案的几个方法中的转移工艺被广泛地用作以低成本且简单地在较大的基板上形成层图案的方法。
[0006]在本【背景技术】部分中公开的上述信息仅用于增强对所描述的技术的背景的理解，因此它可以包含没有形成在这个国家已被本领域技术人员所知晓的现有技术的信息。
【发明内容】
[0007]不例性实施例提供一种用于形成有机层图案同时提尚应用效率和有机层材料的利用量的掩模、一种通过利用该掩模来形成有机层图案的方法，以及有机发光二极管显示器的制造方法。
[0008]根据示例性实施例的用于形成有机层图案的掩模包括:包括第一基板和形成在第一基板上的反射层的光掩模；布置在光掩模上以与光掩模分隔开并包括第二基板和形成在第二基板上的吸收部的供体基板，其中，光掩模包括将入射到光掩模的光反射的反射部和将光会聚以将光传输到供体基板的光会聚部。
[0009]反射部和光会聚部可以交替地设置。
[0010]多个光会聚图案可以形成在第一基板的表面中的光会聚部处，光会聚图案可以具有凹雕形状，凹雕形状可以是凹半圆形的剖面，凹雕形状可以具有凸半圆形的剖面，并且凹雕形状可以具有凹三角形的剖面。
[0011]光会聚图案可以具有浮雕形状，浮雕形状可以是凸半圆形状。
[0012]反射层可以形成在反射部处。
[0013]根据示例性实施例的一种形成有机层图案的方法包括:在用于形成有机层图案的掩模的吸收部上涂覆有机层，掩模包括具有反射层的光掩模和设置在光掩模上以与光掩模间隔开并包括吸收部的供体基板；将用于形成有机层图案的掩模和第一目标基板对准；通过将光照射到用于形成有机层图案的掩模的后表面来加热吸收部以在第一目标基板处形成第一有机层图案。
[0014]光掩模可以包括将入射到光掩模的光反射的反射部和将光会聚以传输到供体基板的光会聚部。
[0015]反射部和光会聚部可以交替地设置。
[0016]可以将有机层中的形成在与光会聚部对应的位置处的转移有机层转移到第一目标基板以形成第一有机层图案。
[0017]所述方法还可以包括:移动光掩模以将光掩模的光会聚部与供体基板的有机层中的未转移的有机层叠置；将用于形成有机层图案的掩模和第二目标基板彼此对准；通过将光照射到用于形成有机层图案的掩模来加热吸收部，以在第二目标基板处形成第二有机层图案。
[0018]可以将未转移的有机层转移到第二目标基板以形成第二有机层图案。
[0019]光会聚部可以包括多个光会聚图案。
[0020]根据示例性实施例的制造有机发光二极管显示器的方法包括:在第一目标基板上形成第一开关晶体管和第一驱动晶体管；形成连接到第一驱动晶体管的第一像素电极；在第一像素电极上形成第一有机发射层；在第一有机发射层上形成第一共电极。形成第一有机发射层的步骤包括:在用于形成有机层图案的掩模的吸收部上涂覆有机层，该掩模包括具有反射层的光掩模和设置在光掩模上以与光掩模分开并包括吸收部的供体基板；将用于形成有机层图案的掩模和形成有第一像素电极的第一目标基板对准；通过将光照射到用于形成有机层图案的掩模的后表面来加热吸收部，以在第一目标基板的第一像素电极上形成第一有机发射层。
[0021]光掩模可以包括将入射到光掩模的光反射的反射部和将光会聚以传输到供体基板的光会聚部。
[0022]可以交替地设置反射部和光会聚部，并且可以将有机层中的在与光会聚部对应的位置处形成的转移有机层转移到第一目标基板以形成第一有机发射层。
[0023]所述方法还可以包括:在第二目标基板上形成第二开关晶体管和第二驱动晶体管；形成连接到第二驱动晶体管的第二像素电极；在第二像素电极上形成第二有机发射层；在第二有机发射层上形成第二共电极。形成第二有机发射层的步骤可以包括:移动光掩模以将光掩模的光会聚部和供体基板的有机层中的未转移的有机层叠置；将用于形成有机层图案的掩模和形成有第二像素电极的第二目标基板彼此对准；通过将光照射到用于形成有机层图案的掩模来加热吸收部，以在第二目标基板的第二像素电极上形成第二有机发射层。
[0024]可将未转移的有机层转移到第二目标基板以形成第二有机发射层。
[0025]光会聚部可以包括多个光会聚图案。
[0026]在根据示例性实施例的用于形成有机层图案的掩模、利用该掩模来形成有机层图案的方法和有机发光二极管显示器的制造方法中，通过在彼此分隔开的光掩模和供体基板处形成反射层与吸收部，以及在光掩模处形成多个光会聚图案，可以通过利用在供体基板上一次形成的有机层来在至少一个或更多个目标基板上形成有机层图案，使得可以提高用于形成有机层图案的掩模的使用效率并且可以增加有机层材料的利用量。
[0027]此外，因为反射层和吸收部彼此分隔开，所以消除了在反射层与吸收部接触的光掩模中会产生的剥离现象，使得无需额外的维护成本，从而降低制造成本。
【附图说明】
[0028]图1是根据示例性实施例的用于形成有机层图案的掩模的剖面图。
[0029]图2是根据另一示例性实施例的用于形成有机层图案的掩模的剖面图。
[0030]图3是根据另一示例性实施例的用于形成有机层图案的掩模的剖面图。
[0031]图4是根据另一示例性实施例的用于形成有机层图案的掩模的剖面图。
[0032]图5至图9是顺序地示出根据另一示例性实施例的通过利用用于形成有机层图案的掩模来形成有机层图案的方法的剖面图。
[0033]图10至图16是顺序地示出根据示例性实施例的利用用于形成有机层图案的掩模制造有机发光二极管显示器的方法的剖面图。
【具体实施方式】
[0034]在下文中，将参照其中示出了本发明的示例性实施例的附图来更全面地描述示例性实施例。如本领域技术人员将意识到的，在所有未脱离本发明的精神或范围的前提下，可以以各种不同的方式来修改描述的实施例。
[0035]在下面的整个本说明书和权利要求书中，除非明确地描述为相反，否则词语“包括”或诸如“包含”或“含有”的变型将被理解为意指包含所述的元件，但并非排除任何其他元件。在下面的实施例的描述中，将被理解的是，当诸如层(膜)、区域、图案或结构的元件被称作“在”另一元件“之上”或“之下”时，它能够“直接在”另一元件之上或之下，或者能够被“间接地”形成，从而也存在中间元件。此外，诸如“在…之上”或“在…之下”的术语应基于附图来理解。此外，这里可以使用“在…之上”或“在…之下”的表述来表示如附图中示出的一个元件与另一个元件的关系。将被理解的是，这种表述意图包括除附图中描绘的方位以外的元件的不同方位，即，既包括“在…之上”又包括“在…之下”。
[0036]图1是根据示例性实施例的用于形成有机层图案的掩模的剖面图。
[0037]如图1中所示，根据示例性实施例的用于形成有机层图案的掩模I包括光掩模10和在光掩模10上的与光掩模10分隔开第一间距dl的供体基板20。
[0038]光掩模10包括第