，更优选地优于250 μ m，甚至更优选地优于100 μ m，最优选地优于50 μ m，且极优选地优于20 μ m。
[0076]第一基底4带入对准模块3中且在其中预附接，例如，通过静电基底固持器、通过机械夹持、通过真空基底固持器或通过粘附性。第二基底13也带入对准模块3中且在X-Y方向上(即，平行于相应接触表面4o、13o)相对于第一基底13对准。此外，在相距大约20 μ m到2000 μ m的距离处执行两个基底4、13的楔形误差补偿以及从几毫米到几厘米的距离的相对近似。
[0077]在成功接触之后，借助于磁性夹具执行由接触的两个基底4、13构成的基底堆叠14的根据本发明的夹持。
[0078]然后，在集群17内执行至接合室16的转移。通过机器人输送系统15将基底堆叠14沉积在接合器中的销上。销掉落且将基底堆叠沉积在接合卡盘上。根据本发明的实施例制造接合卡盘20和/或压力板22，以便其/它们可接收磁体5、5’、5’ ’。
[0079]然后，其导致压力板22的表面与基底堆叠14接触。从接合卡盘20、基底堆叠14和压力板22之间的机械接触的时间起，可移除磁体5、5’、5’’。它们自行掉落(由于在高于居里温度的温度下失去铁磁性)或在温度升高之前和/或之后机械地移除。
[0080]现在可根据本发明构想出:热处理、经由对于UV光透明的压力板22将UV能量引入接合室，或如阳极接合所需在基底堆叠的顶侧与底侧之间施加电压。
[0081]在卸载基底堆叠14之前，将接合室(且因此基底堆叠)设为在接合温度与室温之间的卸载温度。然后，接合室打开，且销以可通过机器人输送系统移除的方式抬起基底堆叠。此时，磁体5、5’、5’’已经位于接合室内或附近的收集箱中。
[0082]然后，基底堆叠优选地在冷却模块中输送。在冷却模块内执行至室温的冷却。
[0083]完成的基底堆叠从高真空集群经由集群闸门27沉积在输出FOUP 31中。
[0084]在以最简单方式示出的实施例中，中心室19用作定位系统，其经由集群闸门27和/或模块闸门26将模块与中心室19和/或与环境分开。然而，根据本发明，还可构想在各个模块3、16、18和/或其输入FOUP或输出FOUP之前提供单独的定位系统，以便增加使用的晶片的通过量，且确保连续操作或具有额外FOUP的储存能力的连续操作。
[0085]中心室19和/或模块3、16、18之间或中心室19与输入FOUP或输出FOUP之间的定位系统的数目可如期望那样高。尤其有利的是使用至少一个定位系统，优选地至少两个，更优选地至少三个，且甚至更优选地至少四个，最优选地至少五个，且极优选地至少六个定位系统。
[0086]参考标号列表
I第一基底固持器
1保持表面
2凹口
2ο承坐区段
3对准模块
4第一基底
4h固持侧
4o第一接触表面
5, 5’，5” 磁体
5p成对磁性元件
5’ ο圆柱形磁体的底座表面
6半自动或全自动放置系统
7软管
8固持装置
9阀
11对准标记
12光学器件
13第二基底
13h固持侧
13ο第二接触表面
14根据本发明的基底堆叠
15机器人输送系统
16接合模块
17高真空集群
18模块
19中心室
20接合卡盘
20ο保持表面
21接合卡盘凹口
21ο表面22压力板23压力板凹口23ο表面24喷射器元件25载体板25ο支承表面26模块闸门27集群闸门28输送系统29模块闸门30输入FOUP31输出FOUP32磁芯33线圈34磁体
Dnax基底堆叠厚度Fnag固持力、磁力Kl具有低磁性的第一磁性材料Κ2具有强磁性的第二磁性材料。
【主权项】
1.一种保持系统(1，20)，其用于处理待与第二基底(13)接合的第一基底(4)，所述保持系统具有: 一保持表面(Ιο，20ο)，其用于保持第一基底(4)，以及 一至少一个凹口(2，21)，相对于所述保持表面(Ιο，20ο)凹入，用于保持磁性作用的附接机构(5，5’，5’ ’)，以用于相对于与所述第一基底(4)对准的第二基底(13)固定所述第一基底⑷。2.根据权利要求1所述的保持系统，其特征在于，所述凹口(2，21)设计为至少一个架，其布置在外周上，具有用于承坐所述附接机构(5，5’，5’ ’)的承坐区段(20，21ο)，以及用于安装所述附接机构(5，5’，5’’)的朝承坐表面(Ιο，20ο)的中心定向的安装区段(20，21ο)。3.根据前述权利要求中的一项所述的保持系统，其特征在于，所述承坐区段(20，21ο)相对于所述保持表面(1ο，20ο)倾斜小于60°的角度，特别是小于45度，优选地小于30°，且甚至更优选地小于15°。4.根据前述权利要求中的一项所述的保持系统，其特征在于，所述凹口(2，21)均匀地布置分布在所述保持表面(Ιο，20ο)的外周上。5.用于处理基底堆叠(14)的装置，所述基底堆叠(14)由第一基底(4)和相对于所述第一基底(4)对准的第二基底(13)构成，所述装置具有磁性作用的附接机构(5，5’，5’’)，所述附接机构用于在对准的固定位置相对于所述第二基底(13)固定所述第一基底(4)。6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述附接机构(5，5’，5’’)具有至少两对磁性元件(5ρ)。7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，每对磁性元件(5ρ)由第一磁活性磁体(5，5’，5’’)和由所述第一磁体(5，5’，5’’)磁性吸引的第二、特别是磁活性的磁体(5，5’，5’’)形成。8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述第一磁体和/或所述第二磁体(5，5’，5’’)设计为球形的形状。9.根据权利要求7或8所述的装置，其特征在于，所述第一磁体和/或所述第二磁体(5，5’，5’’)至少主要地、特别是完全地在所述固定位置由所述成对磁性元件(5ρ)产生的磁力附接至所述基底堆叠(14)。10.根据权利要求5至9中的一项所述的装置，其特征在于，所述装置具有根据权利要求I至4中的一项所述的保持系统。11.根据权利要求5至10中的一项所述的装置，其特征在于，所述装置具有用于使所述第一基底⑷相对于所述第二基底(13)对准的对准系统，以及用于使所述基底(4，13)接触的接触系统。12.根据权利要求5至11中的一项所述的装置，其特征在于，所述装置具有用于将所述附接机构(5，5，，5，，)特别是所述磁体(5，5，，5，，)放置到所述基底堆叠(14)的背对彼此的侧部上的放置系统(6)。13.—种用于处理基底堆叠(14)的方法，所述基底堆叠待接合且由第一基底(4)和相对于所述第一基底(4)对准的第二基底(13)构成，其中所述第一基底(4)通过磁性作用的附接机构(5，5’，5’ ’)在对准的固定位置固定以用于相对于所述第二基底(13)处理所述基底堆叠(14) ο14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述附接机构(5，5’，5’ ’)放置在所述基底堆叠(14)的背对彼此的固持侧(4h，13h)上。
【专利摘要】本发明涉及一种保持系统(1,20)，其用于处理待与第二基底(13)接合的第一基底(4)，该保持系统具有：用于保持第一基底(4)的保持表面(1o,20o)，以及相对于保持表面(1o,20o)凹入的至少一个凹口(2,21)，该凹口用于保持磁性作用的附接机构(5,5ˊ,5ˊˊ)，以用于相对于与第一基底(4)对准的第二基底(13)固定第一基底(4)。此外，本发明涉及一种用于处理基底堆叠(14)的装置，该基底堆叠由第一基底(4)和相对于第一基底(4)对准的第二基底(13)构成，该装置具有磁性作用的附接机构(5,5ˊ,5ˊˊ)以用于在对准的固定位置相对于第二基底(13)固定第一基底(4)。此外，本发明涉及对应的方法。
【IPC分类】H01L21/687, H01L21/67
【公开号】CN105074898
【申请号】CN201380075117
【发明人】E.塔尔纳, P.林德纳
【申请人】Ev 集团 E·索尔纳有限责任公司
【公开日】2015年11月18日
【申请日】2013年3月27日
【公告号】WO2014154272A1