1，相邻两层无机膜31相接触的两个接触面上可具有相匹配的凹凸结构，当然，有机膜32和与其相邻的无机膜31相接触的两个接触面上也可具有相匹配的凹凸结构。如图3所示，封装结构30所包括的多层封装膜可包括多层有机膜32和多层无机膜31，有机膜32和无机膜交替31层叠，相邻的有机膜32与无机膜31相接触的两个接触面上可具有相匹配的凹凸结构。
[0033]另外，本实施例对封装结构30中有机膜32和无机膜31各自的设置层数并不限定，具体可根据实际对柔性和抗氧化性的要求确定。
[0034]优选地，可根据柔性显示器不同区域的不同应力，对不同区域对应的凹凸结构中的凸起和凹陷的尺寸及数量进行不同的设计，如:通常柔性显示器中间区域的应力相比四角的应力更大，因此可增大中间区域对应的凹凸结构的尺寸和数量，以较大幅度地抵消和分散中间区域的应力，提高柔性显示器中间区域的柔性。
[0035]参见图2和图3，本实施例所提供的柔性显示器除包括封装结构30外，还包括阵列基板10和OLED发光结构20，阵列基板10与封装结构30构成一封闭空间，OLED发光结构20设置于该封闭空间内，以避免OLED发光结构20中的材料被会和空气氧化。
[0036]需要说明的是，本实施例所提供的柔性显示器可适用于电视机、显示器、电影银幕、手机、平板电脑、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
[0037]基于上述柔性显示器，本实施例还提供了一种柔性显示器的制造方法，参见图2和图3，该制造方法包括形成封装结构30的步骤，所述封装结构30包括相层叠的多层封装膜，所述多层封装膜中包括多层无机膜；所述多层封装膜所包括的至少一对相邻的封装膜中，相互接触的两个接触面上均具有凹凸结构，且所述两个接触面上的凹凸结构相匹配；该对相邻的封装膜中的至少一个为无机膜31。
[0038]采用上述制造方法所制造的柔性显示器，其封装结构30包括多层具有较强的抗氧化性的无机膜31，封装结构30能够满足柔性显示器对抗氧化性的要求；并且，该柔性显示器的封装结构30所包括的至少一对相邻的封装膜中，相互接触的两个接触面上具有相匹配的凹凸结构，且该对相邻的封装膜中的至少一个为无机膜，从而增大了无机膜与相邻膜层之间的接触面积，减少了无机膜与相邻膜层之间的应力，增加了无机膜的柔性，使封装结构30满足柔性显示器对的柔性要求。
[0039]上述“该对相邻的封装膜”所包括的两层封装膜分别为第一封装膜f I和第二封装膜f2，对于上述制造方法，在第一封装膜f I和第二封装膜f2的接触面上形成凹凸结构可采用构图工艺。具体的，若第一封装膜fl先于第二封装膜f2形成，则在第一封装膜fl和第二封装膜f2的接触面上形成凹凸结构的过程可包括以下步骤:
[0040]步骤S1:形成第一封装膜fl的材料层。
[0041]在步骤SI中，可采用淀积、蒸镀、旋涂等方法，在制造好OLED发光结构20的阵列基板10上覆盖第一封装膜fl的材料，以形成第一封装膜fl的材料层。第一封装膜fl的材料可为有机材料，也可为无机材料。
[0042]步骤S2:采用构图工艺在所述第一封装膜的材料层上制造凸起和/或凹陷，形成所述第一封装膜，所述凸起的高度和所述凹陷的深度均小于或等于所述第一封装膜的材料层的厚度。
[0043]在步骤S2中，若第一封装膜Π的材料为有机材料，则可采用具有第一封装膜fl的凹凸结构图形的掩膜版，直接对第一封装膜Π的材料层进行曝光，然后对第一封装膜fl的材料层进行显影，去除特定区域中部分或全部第一封装膜fl的材料，从而在第一封装膜Π的材料层上形成凹凸结构，该具有凹凸结构的膜层即为第一封装膜H。
[0044]若第一封装膜f I的材料为无机材料，则可首先在第一封装膜f I的材料层上涂覆光刻胶层，然后采用具有第一封装膜fl的凹凸结构图形的掩膜版，对该光刻胶层进行曝光和显影，使第一封装膜Π的凹凸结构图形转移至该光刻胶层上，之后以该光刻胶层为掩膜对第一封装膜f I的材料层进行刻蚀，去除特定区域中部分或全部第一封装膜f I的材料，从而在第一封装膜fl的材料层上形成凹凸结构，该具有凹凸结构的膜层即为第一封装膜H。或者，可直接将具有第一封装膜fI的凹凸结构图形的掩膜版放置于第一封装膜fl的材料层上方，对第一封装膜Π的材料层进行刻蚀，形成第一封装膜fl。
[0045]在曝光过程中，若所采用的掩膜版为半曝光掩膜版，则后续特定区域中第一封装膜fl的材料不能被完全去除，最终特定区域中会有一定厚度的第一封装膜fI的材料遗留，即图4所示出的情形；若所采用的掩膜版为全曝光掩膜版，则后续特定区域中第一封装膜fl的材料能够被完全去除，即图5所示出的情形。
[0046]步骤S3:在第一封装膜Π上形成第二封装膜f2。
[0047]在步骤S3中，可采用淀积、蒸镀、旋涂等方法，在第一封装膜fl上覆盖第二封装膜f2的材料，以形成第二封装膜f2。由于第一封装膜fl上具有凹凸结构，即第一封装膜Π的表面凹凸不平，因此覆盖于第一封装膜f I上的第二封装膜f2接触第一封装膜f I的表面自然形成凹凸结构，该凹凸结构与第一封装膜fl的凹凸结构相匹配，从而第一封装膜fl和第二封装膜f2的接触面积增大。
[0048]为了进一步提高封装结构30的抗氧化性和柔性，可重复步骤SI?步骤S3，形成多对相匹配的第一封装膜fl和第二封装膜f2。
[0049]以上所述仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种柔性显示器，包括封装结构，所述封装结构包括相层叠的多层封装膜，所述多层封装膜中包括多层无机膜，其特征在于，所述多层封装膜所包括的至少一对相邻的封装膜中，相互接触的两个接触面上均具有凹凸结构，且所述两个接触面上的凹凸结构相匹配；该对相邻的封装膜中的至少一个为无机膜。2.根据权利要求1所述的柔性显示器，其特征在于，该对相邻的封装膜分别为第一封装膜和第二封装膜，所述第二封装膜位于所述第一封装膜的上方，所述第一封装膜接触所述第二封装膜的接触面上具有凸起和/或凹陷，所述凸起的高度和所述凹陷的深度均小于或等于所述第一封装膜的厚度。3.根据权利要求2所述的柔性显示器，其特征在于，所述第一封装膜为无机膜，所述第二封装膜为有机膜或无机膜。4.根据权利要求2所述的柔性显示器，其特征在于，所述第一封装膜为有机膜，所述第二封装膜为无机膜。5.根据权利要求1所述的柔性显示器，其特征在于，所述多层封装膜包括一层有机膜及依次层叠于该有机膜上的多层无机膜。6.根据权利要求1所述的柔性显示器，其特征在于，所述多层封装膜包括多层有机膜和多层无机膜，有机膜和无机膜交替层叠。7.根据权利要求1?6任一项所述的柔性显示器，其特征在于，所述柔性显示器还包括阵列基板和OLED发光结构，所述阵列基板与所述封装结构构成一封闭空间，所述OLED发光结构设置于该封闭空间内。8.—种柔性显示器的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括形成封装结构的步骤，所述封装结构包括相层叠的多层封装膜，所述多层封装膜中包括多层无机膜；所述多层封装膜所包括的至少一对相邻的封装膜中，相互接触的两个接触面上均具有凹凸结构，且所述两个接触面上的凹凸结构相匹配；该对相邻的封装膜中的至少一个为无机膜。9.根据权利要求8所述的柔性显示器的制造方法，其特征在于，该对相邻的封装膜分别为第一封装膜和第二封装膜，形成所述封装结构包括: 形成第一封装膜的材料层； 采用构图工艺在所述第一封装膜的材料层上制造凸起和/或凹陷，形成所述第一封装膜，所述凸起的高度和所述凹陷的深度均小于或等于所述第一封装膜的材料层的厚度； 在所述第一封装膜上形成所述第二封装膜。
【专利摘要】本发明提供了一种柔性显示器及其制造方法，涉及显示技术领域，能够使柔性显示器的封装结构既满足抗氧化性的要求，又满足柔性的要求。其中，所述柔性显示器包括封装结构，所述封装结构包括相层叠的多层封装膜，所述多层封装膜中包括多层无机膜；所述多层封装膜所包括的至少一对相邻的封装膜中，相互接触的两个接触面上均具有凹凸结构，且所述两个接触面上的凹凸结构相匹配；该对相邻的封装膜中的至少一个为无机膜。前述柔性显示器用于进行画面显示。
【IPC分类】H01L51/56, H01L51/52
【公开号】CN105206763
【申请号】CN201510689439
【发明人】金相秦, 吴代吾
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 合肥京东方光电科技有限公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年10月21日