水平工艺线的除污模块及用于从此除污模块分离及移除除污颗粒的方法与流程

本发明涉及一种用于水平电化或湿式化学工艺线的除污模块，其用于移除待处理衬底上的沉淀物，尤其是铜的金属沉积物，所述除污模块包括可连接到除污单元的除污容器、泵及用于将所述泵与所述除污单元连接的至少第一液体连接元件，其中所述泵是通过所述至少第一液体连接元件与所述除污单元结合；且其中处理液位被提供在所述除污模块内部，所述处理液位高于所述泵的进水区。

本发明进一步涉及一种用于从此除污模块选择性分离及随后移除除污颗粒的方法。

背景技术：

例如高锰酸钠或高锰酸钾、铬酸或硫酸的除污化学物质在印刷电路板产业中众所周知地用于清理印刷电路板过程中的钻出的贯穿管道。尤其如果高锰酸钠或高锰酸钾已用于此除污清理程序，那么通过除污化学物质与印刷电路板的经钻出贯穿管道的位置处的树脂残留物的化学反应产生大量除污颗粒。

所述所产生的除污颗粒在高锰酸钠或高锰酸钾的情况中是二氧化锰颗粒，其已知是凝聚在除污模块的相应除污容器的底部上。

然而，通常难以尤其仅通过除污液体流再次从相应除污容器的底部机械地移除所述除污颗粒；且归因于除污处理液体中的二氧化锰颗粒的悬浮的高密度而尤其难以在相应待处理衬底的水平过程期间以连续方式移除所述颗粒。

过去还一直尝试通过化学还原过程凭借使用适当的额外化学物质移除所述二氧化锰颗粒。但是，本发明的目的是寻找一种用于移除所述除污颗粒的新的且具发明性的机械解决方案。

迄今为止机械地移除所述除污颗粒的尝试仅部分成功且受到起因于停止整个水平工艺线以允许除污容器的单独清理的不利需要的问题的困扰。此中断造成中断时间增加及效率损失，这再次造成此类水平工艺线的成本较高。

为了缓解此问题，过去安装了复杂的自动清理程序以避免归因于维护问题而中断待处理衬底的水平过程。但是，此类解决方案因此通常增加此类水平工艺线的成本及复杂性。

在文件de3813518a1中，揭示一种用于机械地移除此类除污颗粒的装置。在本文中，一对喷嘴(即，布置在经钻出贯穿管道正上方的压力喷嘴及布置在相同经钻出贯穿管道正下方的吸力喷嘴)已用于将除污处理液体直接按压通过经钻出贯穿管道，其中包括相应经钻出贯穿管道的除污颗粒的正通过的除污处理液体直接进入吸力喷嘴。因此，除污颗粒可直接从除污模块中移除。但是，此解决方案仅被发现适用于厚的印刷电路板，这提供足够的固有严格性。现在待处理衬底归因于其厚度减小及柔性增加而更具挑战性，这妨碍此程序的应用。

常见的水平工艺线中面临的另一问题是需要给大的除污容器提供高的除污容器体积以避免除污颗粒进入所需浸液泵的下部的进水区。因此，必须提供大的除污处理液体体积，这再次使过程变得昂贵。

发明目的

鉴于现有技术，本发明的目的因此是提供一种用于水平工艺线的除污模块，其并未展现出现有技术中已知的除污模块的前述缺点。

进一步来说，本发明的目的是提供一种除污模块，其中除污颗粒进入所需浸液泵的下部的进水区的风险将被最小化或优选地完全避免。

特定来说，本发明的目的是提供一种除污模块，其能够延长除污处理液体池的寿命，且同时可大幅减小除污处理液体循环的体积。

此外，目的是提供一种用于安装在已经在顾客现场运行的水平工艺线中的除污模块。

因此需要一种除污模块，其可容易集成在现有工艺线中，同时需要的空间小且设计不复杂。

技术实现要素：

这些目的是通过具有技术方案1的所有特征的除污模块实现。本发明除污模块的适当修改在附属技术方案2到14中受保护。进一步来说，技术方案15包括一种用于从此除污模块中选择性分离及随后移除除污颗粒的方法。

本发明因此提供一种用于水平电化或湿式化学工艺线的除污模块，其用于移除待处理衬底上的沉淀物，尤其是铜的金属沉积物，所述除污模块包括可连接到除污单元的除污容器、泵及用于将所述泵与所述除污单元连接的至少第一液体连接元件，其中所述泵是通过所述至少第一液体连接元件与所述除污单元结合；且其中处理液位被提供于所述除污模块内部，所述处理液位高于所述泵的进水区；其中所述除污模块进一步包括至少第一液体区域、包括所述泵的所述进水区的至少相邻第二液体区域，及被布置在所述至少第一液体区域与所述至少第二液体区域之间的至少第一分离元件。

因此，可提供一种除污模块，其并未展现出已知现有技术除污模块的前述缺点。

进一步来说，在发明除污模块中，最小化或优选地完全避免了除污颗粒进入所需浸液泵的下部的进水区的风险。

由本发明的除污模块提供的除污颗粒的有效机械移除通过凭借随后处理的待处理衬底的表面上的所需浸液泵来避免除污颗粒连同除污处理液体一起循环而确保较高产品质量。

这提供额外优点：归因于较小浸液泵的较低所需除污处理液体体积传递速率，而可选取所述泵。

特定来说，本发明的除污模块能够延长除污处理液体池的寿命，且同时可大幅减小除污处理液体循环的体积。通常，用户需要循环的体积为除污处理液体池的体积的三倍到五倍，所述体积必须持续地存在于相应除污容器内部。本发明的除污模块仅需要除污处理液体池的大约10体积百分比到50体积百分比。因此，发明除污模块的经济收益是巨大的。

此外，发明除污模块提供以下优点：经修正除污模块可容易被安装在已经在顾客所在处运行的水平工艺线中，同时需要的空间小且设计不复杂。

附图说明

为了更完整地理解本发明，参考结合附图中所考虑的本发明的以下详细叙述，其中：

图1a及1b展现根据本发明的第一实施例的除污模块。

图2a及2b展现根据本发明的第二实施例的除污模块。

图3展现根据本发明的第三实施例的除污模块，所述第三实施例是基于本发明在图1a中展示的第一实施例。

具体实施方式

如本文中使用，术语“除污模块”在根据本发明应用时是指任何水平过程模块，其能够允许在其内部发生除污过程步骤，以从待处理衬底中的贯穿管道的钻孔中移除污垢。

如本文中使用，术语“用于金属沉积的水平电化或湿式化学工艺线”在根据本发明应用时是指任何种类的水平过程，其中金属将在电化及/或湿式化学过程期间被沉积于待处理衬底上。

如本文中使用，术语“除污单元”在根据本发明应用时是指常见水平工艺线的模块，其中除污处理液体将由注水装置元件施加，每一注水装置元件将除污处理液体的流动引导到待处理衬底的一或两个表面，从经钻出贯穿管道中移除待处理衬底的原材料的残留污垢。在清洗所述经钻出贯穿管道之后，除污处理液体及已移除除污颗粒的浆体将从所述除污单元中流出，以被收集于除污容器的第一液体区域中。

此除污单元可被布置在除污容器内部或外部。

如果除污单元位于除污容器内部，那么除污单元被布置在高于除污模块内部的处理液位的水平面处。浆体将接着直接流入除污模块的第一液体区域中。

如果除污单元位于除污容器外部，那么必须包括第三液体连接元件以将浆体从除污单元引导到除污模块的除污容器。这必须以此方式执行使得浆体最终也将到达除污模块的第一液体区域。

可优选地使用浸液泵，其中包括浸液泵的进水区的浸液泵的下部是以低于除污容器内部的处理液位的水平面直接布置在除污模块的第二液体区域中。浸液泵的上部将被布置在除污模块的除污容器外部。

替代地可优选地使用离心泵，其被布置在除污模块的除污容器外部。因此，此外必须包括用于将除污模块的第二液体区域内部的进水区与离心泵连接的第四液体连接元件。所述第四液体连接元件在处理液体将随后由第一液体连接元件传递到除污单元之前会先将处理液体引导到离心泵。

进水区可最大限度地与除污模块的第二液体区域相同。

如本文中使用，术语“金属”在根据本发明应用时是指已知通常适用于电化或湿式化学金属沉积过程的金属。此类金属尤其可包括金、镍及铜，优选地是铜。

如本文中使用，术语“待处理衬底”是圆形、优选地圆形或成角度、优选地多角，例如矩形、正方形或三角形；或圆形及成角度结构元件的混合物，例如半圆形，及/或在圆形结构的情况中，待处理衬底具有从50mm到1000mm、优选地从100mm到700mm及最优地从120mm到500mm的范围的直径；或在成角度、优选地多角结构的情况中，具有从10mm到1000mm、优选地从25mm到700mm及最优地从50mm到500mm的范围的边长，及/或待处理衬底是印刷电路板、印刷电路箔片、半导体晶片、晶片、太阳能电池、光电池、平板显示器或监测器电池。平坦的待处理衬底可由一种材料或不同材料(例如玻璃、塑料、模制化合物或陶瓷)的混合物组成。

在优选实施例中，平坦衬底可为呈循环输送带的形式的环状衬底，所述环状衬底通过整个水平设备连续处理。在此情况中，平坦衬底是由柔性材料组成，这允许在过程之前卷绕多卷原始材料且在过程之后卷进多卷最终材料。

通常必须确保提供处理液体的足够多体积流动到泵的进水区，以保持处理液体从除污容器循环到除污单元且再次使用。优选地，可出于此目的应用处理液位监测系统。

如本文中使用，术语“处理液体”在根据本发明应用时是指除污处理液体，其通常已被发现适用于执行除污过程，其中以高锰酸钠或高锰酸钾为优选。

在第一实施例中，所述第一分离元件是经布置于所述除污模块内部的所述处理液位下方的不可渗透液体溢流堰，其包括溢流边缘以允许处理液体从所述第一液体区域流到所述第二液体区域。

溢流边缘确保足够多的处理液体到达第二液体区域，以使泵保持运转。另一方面，除污颗粒可被保持在第一分离元件前面的第一液体区域中。因此，除污颗粒不能到达泵的进水区，其中除污颗粒可被返回输送到除污单元，且在当中污染所述随后经处理的衬底的表面。这可通过溢流边缘来完全避免。

在第一实施例中，可为优选的是，所述除污模块进一步包括优选地与所述第一分离元件相同的至少第二分离元件，其是以平行于所述第一分离元件的方式布置。

在第一实施例中，尤其优选的是，所述除污模块包括至少第一分离元件及第二分离元件，其具有所述相应溢流边缘的不同绝对高度，优选地具有从所述第一液体区域到所述第二液体区域增加的高度。

此多个分离元件提供以下优点：可以有效方式防止除污颗粒通过分离元件的溢流边缘。除污颗粒积累在第一液体区域中。归因于其高密度，尤其在mno2的情况中，除污颗粒相对快速下沉到分离元件前面的除污容器的相应底部。除污模块可通过提供相应分离元件的溢流边缘的不同绝对高度来适应于水平工艺线的除污单元中产生的除污颗粒的大小。因此，即使除污颗粒溢流第一分离元件，其仍然可通过积累在第二分离元件前面而被收集。尤其当第二分离元件拥有增加的绝对高度(高于第一分离元件)时，可有效地防止除污颗粒流过所有相应分离元件到达除污模块的第二液体区域。

在第二实施例中，所述第一分离元件是从所述除污容器的底部向上到高于所述除污模块内部的所述处理液位的绝对高度的可渗透液体溢流堰。

然而，第二实施例还通过允许处理液体流过可渗透分离元件而非如第一实施例那样流过溢流边缘来确保足够多的处理液体到达第二液体区域。

两个实施例确保足够体积的处理液体可到达除污模块的第二液体区域以保持泵运转。

在第二实施例中，可为优选的是，所述除污模块进一步包括优选地与所述第一分离元件相同的至少第二分离元件，其是以平行于所述第一分离元件的方式布置。

通过布置多个平行可渗透液体溢流堰，除污模块可再次适应相应除污单元中产生的除污颗粒的大小，所述除污颗粒仍然被允许通过作为分离元件的可渗透液体溢流堰。

相应除污模块可取决于工艺线状况及材料，通过将可渗透液体溢流堰修改为分离元件来控制及/或调节。

在第二实施例中，可为优选的是，所述除污模块包括至少第一分离元件，及/或各自具有多个开口、小孔、贯穿管道及/或间隙的至少第一分离元件及第二分离元件。

这提供取决于特定个别分离元件选取被允许通过的不同除污颗粒大小的可能性。

在第二实施例中，尤其优选的是，所述多个开口、小孔、贯穿管道及/或间隙在所述至少第一分离元件及/或第二分离元件中具有均匀或非均匀分布，优选地非均匀分布。

在第二实施例中，每一分离元件中的所述多个开口、小孔、贯穿管道及/或间隙可具有相等及/或不相等的平均直径；其中所述开口、小孔、贯穿管道及/或间隙包括圆形、优选地圆形横截面或成角度、优选地多角横截面，例如矩形、正方形或三角形；或由圆形及成角度结构元件的混合物形成的横截面，例如半圆形。

在第二实施例中，每一分离元件中的所述开口、小孔、贯穿管道及/或间隙的所述平均直径可从所述除污容器的底部连续增加或降低(优选地增加)到多达高于所述除污模块内部的所述处理液位的所述绝对高度。

在所有实施例中，可为优选的是，所述除污容器的底壁被细分为两个部分，即，所述第一液体区域中的第一底壁部分及所述第二液体区域中的第二底壁部分，其中所述底壁部分之间的过渡点低于所述至少第一分离元件；其中两个底壁部分可水平地直线延伸或两个底壁部分中的至少一者关于水平面至少部分向上或向下倾斜。

如果第一底壁部分至少部分从靠近或相同于过渡点的位置向上至少部分倾斜地延伸到第一底壁部分的端，那么在除污容器中必须使用较少除污处理体积的液体。这节省了成本及化学物质。

如果第一底壁部分至少部分从靠近或相同于过渡点的位置向下至少部分倾斜地延伸到第一底壁部分的端，那么较少除污颗粒在分离元件及泵的方向上流动。这减小了除污颗粒在其积累在相应第一分离元件前面的除污容器的底部上之前到达第二液体区域的风险。

可为尤其优选的是，所述第一底壁部分在所述至少第一分离元件前面包括用于积累除污颗粒的至少第一腔，其中所述至少第一腔的底部包括用于从所述除污容器中移除所述除污颗粒的处理液体出口。

腔有利地提供：除污颗粒(优选地为mno2颗粒)可积累在第一分离元件前面的腔内部。所述除污颗粒的后续移除比不使用此腔更有效率，其中所述除污颗粒变为分布在第一底壁部分的大区域上，而非选择性地积累在此腔中。

在一个实施例中，所述除污模块进一步包括至少第一处理液体循环系统，其中所述第一处理液体循环系统包括至少第二液体连接元件，其从被布置在所述第一液体区域中的所述至少第一分离元件前面以从所述除污容器中移除除污颗粒的处理液体出口到具有粗过滤器单元的第一过滤器装置，其中所述除污颗粒与滤液分离，其中所述第二液体连接元件随后进一步到所述除污容器的所述第二液体区域。

替代地，可出于此目的使用级联旋风分离器。

如果应用此粗过滤器单元，那么较少且较小除污颗粒可到达第二液体区域。因此，可避免传递除污颗粒对待在除污单元中处理的随后处理衬底的后续污染。

施加边缘分裂式过滤器(优选地自清洁式过滤器)作为粗过滤器单元，正如不锈钢过滤器单元，所述边缘分裂式过滤器优选地提供低至25微米而非40微米的过滤容量。

粗过滤器单元提供从15微米到70微米、优选地从20微米到60微米且最优地从25微米到50微米的范围的残留除污颗粒的最终颗粒大小分布。

在一个实施例中，所述除污模块进一步包括至少第二处理液体循环系统，其中所述第二处理液体循环系统包括至少所述第一液体连接元件，其中具有细过滤器单元的第二过滤器装置互连。

具有较细过滤器单元的此第二过滤器装置允许甚至移除残留的小除污颗粒，其不能由具有粗过滤器单元的第一过滤器装置移除。因此，一种过滤器系列可有利地施加于发明除污模块中以从循环处理液体中移除干扰的除污颗粒的主要部分或理想上移除全部。

在第三实施例中，本发明涉及一种用于待处理衬底上用于移除沉淀物的尤其是铜的金属沉积物的水平电化或湿式化学工艺线的除污模块，其包括可连接到除污单元的除污容器、浸液泵及用于将所述浸液泵与所述除污单元连接的至少第一液体连接元件，其中所述浸液泵是通过所述至少第一液体连接元件与所述除污单元结合；且其中处理液位被提供在所述除污模块内部，所述处理液位低于所述除污单元且高于所述浸液泵的下部的进水区；其中所述除污模块进一步包括被布置在所述除污单元下方的至少第一液体区域、包括所述浸液泵的所述下部的至少相邻第二液体区域；及被布置在所述至少第一液体区域与所述至少第二液体区域之间的作为第一分离元件的至少不可渗透液体溢流堰。

在第三实施例中，所述不可渗透液体溢流堰被布置在除污模块内部的处理液位以下，其包括溢流边缘以允许处理液体从所述第一液体区域流到所述第二液体区域。

所述第三实施例的除污模块进一步包括：所述除污容器的底壁被细分为两个部分，即，所述第一液体区域中的第一底壁部分及所述第二液体区域中的第二底壁部分，其中所述底壁部分之间的过渡点低于所述至少第一分离元件；其中两个底壁部分可水平地直线延伸或两个底壁部分中的至少一者关于水平面至少部分向上或向下倾斜。

在第三实施例中，所述第一底壁部分在所述至少第一分离元件前面包括用于积累除污颗粒的至少第一腔，其中所述至少第一腔的底部包括用于从所述除污容器中移除所述除污颗粒的处理液体出口。

所述第三实施例进一步包括至少第一处理液体循环系统，其中所述第一处理液体循环系统包括至少第二液体连接元件，其从被布置在所述第一液体区域中的所述至少第一分离元件前面以从所述除污容器中移除除污颗粒的处理液体出口到具有粗过滤器单元的第一过滤器装置，其中所述除污颗粒与滤液分离，其中所述第二液体连接元件随后进一步到所述除污容器的所述第二液体区域；且进一步包括至少第二处理液体循环系统，其中所述第二处理液体循环系统包括至少所述第一液体连接元件，其中具有细过滤器单元的第二过滤器装置互连。

此外，本发明还涉及一种用于从除污模块选择性分离且随后移除除污颗粒的方法，其特征为以下方法步骤：

i)提供如上文描述的水平电化或湿式化学工艺线的此发明除污模块。

ii)通过允许除污颗粒随时间积累将所述除污颗粒与所述至少第一分离元件前面的所述除污容器的底部选择性分离。

iii)通过将溶液输送通过具有至少粗过滤器单元的过滤器装置移除所收集除污颗粒。

iv)将经过滤处理液体从所述过滤器装置引导返回到所述除污容器。

根据以上方法的本发明因此解决延长除污处理液体池的寿命的问题。此外，可大幅减小除污处理液体循环的体积。尤其可通过本发明的具发明性除污模块有利地执行施加高锰酸钠或高锰酸钾作为除污处理液体，这产生mno2除污颗粒。

现在参考图式，图1a展示本发明的第一实施例，其中用于待处理衬底上的尤其是铜的金属沉积物的水平电化或湿式化学工艺线的除污模块1包括除污容器2、除污单元3、浸液泵4及从所述浸液泵4到除污单元3的第一液体连接元件5。

浸液泵4是通过所述第一液体连接元件5与所述除污单元3结合。

处理液位6被提供在除污模块1内部，所述处理液位6低于除污单元3且高于浸液泵4的下部的进水区7。

除污模块1进一步包括被布置在除污单元3下方的第一液体区域9、包括浸液泵4的下部的相邻第二液体区域10，及被布置在所述第一液体区域9与所述第二液体区域10之间的第一分离元件11。

在本发明的此第一实施例中，第一分离元件11是布置在除污模块1内部的处理液位6下方的不可渗透液体溢流堰，其包括溢流边缘12以允许处理液体从所述第一液体区域9流到所述第二液体区域10。

进一步来说，除污容器2的底壁被细分为两个部分，即，第一液体区域9中的第一底壁部分及第二液体区域10中的第二底壁部分，其中所述底壁部分之间的过渡点低于第一分离元件11。第二底壁在其中水平地直线延伸，而第一底壁关于水平面向上倾斜延伸。

处理液体中的除污颗粒(尤其mno2颗粒)的悬浮液的浆体液位8经展示唯一地在第一液体区域9中，从而导致无浆体的第二液体区域10。浆体液位8保持在溢流边缘12下方，使得除污颗粒不可能会到达浸液泵4的进水区7。

图1b展示经稍微修改的第一实施例，其中除污模块1进一步包括与第一分离元件11相同的第二分离元件，其是以平行于第一分离元件11的方式布置。在本文中，除污模块1包括第一分离元件11及第二分离元件，其具有相应溢流边缘12的不同绝对高度，其中高度从第一液体区域9到所述第二液体区域10增加。

此修改进一步减小除污颗粒可到达第二液体区域10的风险。

图2a展示本发明的第二实施例，其中用于待处理衬底上的尤其是铜的金属沉积物的水平电化或湿式化学工艺线的除污模块1'包括除污容器2'、除污单元3'、浸液泵4'及从所述浸液泵4'到除污单元3'的第一液体连接元件5'。

浸液泵4'是通过所述第一液体连接元件5'与所述除污单元3'结合。

处理液位6'同样被提供在除污模块1'内部，所述处理液位6'低于除污单元3'且高于浸液泵4'的下部的进水区7'。

除污模块1'进一步包括被布置在除污单元3'下方的第一液体区域9'、包括浸液泵4'的下部的相邻第二液体区域10'，及被布置在所述第一液体区域9'与所述第二液体区域10'之间的第一分离元件11'。

与第一实施例相比，本发明的第二实施例包括：第一分离元件11'是从除污容器2'的底部向上到高于除污模块1'内部的处理液位6'的绝对高度的可渗透液体溢流堰。

所述第一分离元件11'中拥有单个间隙或开口13以允许处理液体但不允许除污颗粒到达第二液体区域10'。

图2a或2b中未展示处理液体中的悬浮的除污颗粒(尤其mno2颗粒)的浆体液位。所述浆体液位原则上可与处理液位6'相同。所有除污颗粒可仅在第一液体区域9'中找到。其中所有除污颗粒应积累在除污容器2'的底部处，但不应积累在第一分离元件11'前面。间隙13的位置必须取决于所施加的水平过程系统细心地选取以避免除污颗粒行进通过所述间隙13。

进一步来说，除污容器2'的底壁被细分为两个部分，即，第一液体区域9'中的第一底壁部分及第二液体区域10'中的第二底壁部分，其中所述底壁部分之间的过渡点低于第一分离元件11'。第二底壁在其中水平地直线延伸，而第一底壁关于水平面向上倾斜延伸。

图2b展示经稍微修改的第二实施例，其中除污模块1'包括具有多个开口、小孔、贯穿管道及/或间隙13的第一分离元件11'，其中第一分离元件11'中的所述开口、小孔、贯穿管道及/或间隙13的平均直径从除污容器2'的底部连续增加到多达高于除污模块1'内部的处理液位6'的绝对高度。

这提供以下优点：将首先积累在除污容器的底部的表面上的最大除污颗粒不能通过相对较小的开口、小孔、贯穿管道及/或间隙13。

最后，图3展示本发明的除污模块的第三实施例，其主要是基于图1a中展示的第一实施例。图3的除污模块1还包括第一液体区域、第二液体区域、第一分离元件及溢流边缘，即使这些技术特征没有被相应参考符号9、10、11及12标记。所述参考符号没有被展示仅仅是为了使图3本身更加清楚。

本文中还希望揭示及包含整个图1a描述(尤其由参考符号1到8标记的技术特征的描述)，即使针对图1a的描述没有被再次概述以避免不必要的重复。

作为图1a的第一实施例的补充，图3展现出第一底壁部分在第一分离元件前面包括用于积累除污颗粒的第一腔14，其中所述第一腔14的底部包括用于从除污容器2中移除所述除污颗粒的处理液体出口。

在本文中，第一液体区域中的第一底壁部分首先直线地延伸直到其到达第一腔14的第一壁，且接着相对于水平面从第一腔14的另一壁连续地向上倾斜延伸。

图3的除污模块1进一步包括第一处理液体循环系统，所述第一处理液体循环系统包括第二液体连接元件18，其从第一腔14的底部处且被布置在第一液体区域中的第一分离元件前面的处理液体出口到具有粗过滤器单元的第一过滤器装置16。浆体泵15用于将悬浮在处理液体中的除污颗粒的浆体从腔14的底部传递到第一过滤器装置16的粗过滤器单元。

在本文中，除污颗粒变得与滤液分离。第二液体连接元件18随后进一步到除污容器2的第二液体区域。

图3额外地展现出包括第二处理液体循环系统，所述第二处理液体循环系统包括第一液体连接元件5，其中具有细过滤器单元的第二过滤器装置17互连。

虽然已就某些特定实施例解释且出于说明目的提供本发明的原理，但是应了解所属领域的技术人员在阅读本说明书之后将明白本发明的各种修改。因此，应了解本文中揭示的本发明希望涵盖属于所附权利要求书的范围内的此类修改。本发明的范围仅受所附权利要求书的范围限制。

参考符号

1,1'除污模块

2,2'除污容器

3,3'除污单元

4,4'浸液泵

5,5'第一液体连接元件

6,6'处理液位

7,7'浸液泵的下部的进水区

8,8'浆体液位

9,9'第一液体区域

10,10'第二液体区域

11,11'第一分离元件

12溢流边缘

13开口、小孔、贯穿管道及/或间隙

14第一底壁部分中的第一腔

15浆体泵

16第一过滤器装置

17第二过滤器装置

18第二液体连接元件