专利名称：有机el装置的制造方法、有机el装置、电子仪器的制作方法
技术领域：
本发明是关于有机EL装置的制造方法、有机EL装置、以及具有该 有机EL装置的电子仪器。
背景技术：
以往作为能够进行全色显示的有机电致发光装置(以下称作有机EL 装置)，已知有将白色发光层和滤色片组合的装置(例如，参照专利文献 1)。这种有机EL装置，由于R、 G、 B的各像素寿命非常均匀，所以长 时间使用时也能保持良好的色平衡。特开平10—125474号公报
然而，上述现有的白色发光层是由低分子发光材料形成的，因此， 对其成膜使用蒸镀法。由此，难以保证材料的有效利用。
发明内容
本发明就是鉴于这种事实，其目的是提供一种能有效利用材料而降 低制造成本的有机EL装置的制造方法，和该有机EL装置，以及具有该 有机EL装置的电子仪器。
为了解决上述课题，本发明的有机EL装置的制造方法，其特征在于， 在具有白色发光层和滤色片的有机EL装置的制造方法中，上述白色发光 层是通过液滴喷出法形成的。
该方法中，由于是通过液滴喷出法只在所定的区域内有选择性地配
5置发光材料，所以能有效地使用高价的发光材料。该方法中，为了能很 好地进行液滴喷出，所以白色发光层最好由高分子材料形成。所谓"高 分子"是指分子量比分子量为数百的所谓"低分子"大的聚合物，上述 高分子材料中，除了包括一般称作高分子的分子量在ioooo以上的聚合 物外，还可包括分子量在10000以下的称作低聚物的低聚物。
然而，上述方法中，不仅是白色发光层，而且上述滤色片最好也通 过液滴喷出法形成。这种情况下，白色发光层和滤色片的形成方法，根
据有机EL装置是底部发射结构，还是顶部发射结构而进行决定，但作为
其方法，例如可考虑如下方法。
(1) 具有通过液滴喷出法，在一块基板上形成上述滤色片的工序；
和通过液滴喷出法，在同一基板上的上述滤色片上方形成上述白色发光 层的工序。
(2) 具有通过液滴喷出法，在一块基板上形成上述白色发光层的 工序；和通过液滴喷出法，在同一基板上的上述白色发光层上方形成上
述滤色片的工序。
(3) 具有通过液滴喷出法，在一块基板上，形成上述白色发光层 的工序；通过液滴喷出法，在与上述基板不同的基板上形成上述滤色片 的工序；和将两块基板贴合在一起的工序。
上述(1)是形成有机EL装置具有底部发射结构时的方法，上述(2)、 (3)是形成有机EL装置具有顶部发射结构时的方法。
上述(1)、 (2)的方法是在同一块基板上，依次形成白色发光层和 滤色片，与上述(3)分别在不同的基板上形成，再将两基板贴合的方法 不同，是不需要进行位置吻合(对位)。由此，能够高精度化。反之，(3) 的方法，就高精度化而言，比上述(1)、 (2)方法稍差些，但由于将白 色发光层和滤色片分别制作在不同的基板上，所以就合格率而言，是有 利的。
如上述(2)的方法，在白色发光层上制作滤色片时，最好在上述白 色发光层和滤色片之间形成保护膜，以使在形成该滤色片的工序中，不 会导致下面的白色发光层劣化。
上述(2)的方法中，在形成上述滤色片的工序之前，最好在上述保护膜的表面上形成疏液部图案，在形成上述滤色片的工序中，通过液滴 喷出法，在上述疏液部以外的区域内，配置包括形成上述滤色片材料的 液体材料。这时，形成疏液部的工序可以通过具有以下工序的工序进行， 例如，将含氟气体作为处理气体，对上述保护膜的表面实施等离子体处 理的工序；和相对于实施了上述等离子体处理的保护膜，对形成上述滤 色片的区域有选择性地照射紫外线的工序。
一般是形成滤色片时，首先，
利用光刻法形成围堰(bank)层，在由该围堰层围成的区域内，配置滤 色片的形成材料。然而，将该方法适用于上述(2)时，形成围堰层时的
湿法工艺会导致下面白色发光层劣化。为此，采用不使用湿法工艺的本
方法，能够制造出信赖性高的有机EL装置。因此，通过在阴极上形成的 保护膜中混入紫外线吸收剂，可以保护发光层，免受为在像素区域付与 亲液性的紫外线影响。
另外，本发明的有机EL装置的制造方法，其特征在于，在制造具有 发白色光的白色发光层、发白色光以外其他色光的色发光层、和滤色片 的有机EL装置的方法中，通过液滴喷出法形成上述白色发光层和色发光 层。本方法中，可与上述白色发光层相对应形成上述滤色片。或者，与 上述白色发光层和上述色发光层双方都对应而形成上述滤色片。
根据本发明，由于是通过液滴喷出法，只在所定的区域内有选择性 地配置发光材料，所以可以有效地使用高价的发光材料。
本发明的有机EL装置的制造方法中，最好通过液滴喷出法形成上述 滤色片。
根据本发明，可以节省滤色片材料，并能进一步降低装置的成本。
本发明的有机EL装置的制造方法中，上述色发光层的尺寸和上述白 色发光层的尺寸，可以根据上述色发光层的发光光的亮度和透过上述滤 色片的白色发光层的发光光的亮度适当确定。
根据本发明方法，透过滤色片的色光与从色发光层发出的色光之间， 可以保持良好的色平衡。
本发明的有机EL装置，其特征在于，在具备白色发光层和滤色片的 有机EL装置中，上述白色发光层是在由围堰层划分的区域内，通过液滴 喷出法形成。由此，可廉价提供显示质量高的有机EL装置。这种情况下，为了能顺利实施液滴喷出法，上述白色发光层最好由高分子发光材料形 成。
上述构成中，上述滤色片最好通过液滴喷出法形成。具体讲，上述 滤色片可以通过液滴喷出法，在由与区分白色发光层用的围堰层不同的 围堰层划分的区域内形成。或者，上述滤色片可以通过液滴喷出法，在 形成疏液图案的基板上未形成该疏液图案的区域(具有相对亲液性的区 域)内形成。这样，滤色片也是通过液滴喷出法形成，所以能更加廉价
地提供有机EL装置。
本发明的有机EL装置，其特征在于，在具有发白色光的白色发光层、 和发白色光以外其他色光的色发光层、和滤色片的有机EL装置中，上述 白色发光层和上述色发光层是通过液滴喷出法，在由围堰层划分的区域 内形成。在本构成中，上述滤色片可与上述白色发光层相对应设置，或 者，上述滤色片与上述白色发光层和上述色发光层都对应设置。本构成 中，为了能顺利实施液滴喷出法，上述白色发光层和上述色发光层最好 由高分子发光材料形成。
根据本构成，可廉价地提供显示质量高的有机EL装置。 本发明的有机EL装置中，上述滤色片最好通过液滴喷出法形成。具 体讲，上述滤色片是通过液滴喷出法，在由与区分白色发光层和色发光 层的围堰层不同的围堰层划分的区域内形成。或者，通过液滴喷出法， 在形成疏液图案的基板上未形成该疏液图案的区域(具有相对亲液性的 区域)内形成。
根据本构成，可以廉价地提供显示质量高的有机EL装置。 本发明的电子仪器，其特征在于，具有上述本发明的有机EL装置。 由此，可以廉价提供具有高质量显示部分的电子仪器。
图1是用来说明本发明第1种实施方式的有机EL装置的制造方法的 工序图。
图2是继图1的工序图。 图3是继图2的工序图。
8图4是表示元件基板的另一形成方法的工序图。
图5是用来说明本发明的第2种实施方式的有机EL装置的制造方法
的工序图。
图6是继图4的工序图。 图7是继图5的工序图。
图8是用来说明本发明第3种实施方式的有机EL装置的制造方法的 工序图。
图9是继图6的工序图。
图10是本发明第4种实施方式的有机EL装置的电路构成图。 图ll是同，平面构成图。 图12是表示同，像素结构的平面模式图。 图13是表示图11中A—A'截面模式图。 图14是表示同，另一构成例的截面模式图。
图15是表示本发明第5种实施方式的有机EL装置像素结构的平面 模式图。
图16是表示图14中A—A，截面模式图。
图17是表示本发明第6种实施方式的有机EL装置像素结构的平面 模式图。
图18是表示图16中A—A'截面模式图。 图19是表示同，有机EL装置的另一构成例平面模式图。 图20是表示本发明电子仪器的一例的立体图。 图中，IOA、 30A、 40A—基板，14、 14R、 14G、 14B、 42、 42R、 42G、 42B、 45、 45R、 45G、 45B —滤色片，18、 36—白色发光层，18R、 18G 一色发光层，44—保护膜，100、 200、 300、 400、 500、 600 —有机EL装 置，IOOO—电子仪器，Ll、 L2、 L3、 L4、 L5、 L6、 L7—液体材料
具体实施例方式
第1种实施方式
首先，边参照图1 图3，边对本发明的第1种实施方式的有机EL 装置及其制造方法进行说明。图1 图3分别是用来说明本实施方式的有机EL装置的制造方法的工序图。各图中，R (红)、G (绿)、B (蓝)表
示三个像素区域的截面结构。各图中，为了能在图面上识别各层和各部 分的大小，对各层和各部分采用了不同的縮比尺寸。
本实施方式的有机EL装置是具有R (红)、G (绿)、B (蓝)三种 像素的全色有机EL显示装置。如图3 (c)所示，本实施方式的有机EL 显示装置100中，在设有阳极(像素电极)15的元件基板10上，设有区 别划分各像素的围堰层16，在由该围堰层16划分的区域内形成包括白色 发光材料的电光学层(发光功能层)E。在围堰层16中，与各像素相对 应的位置上设置开口部，在该开口部内，露出阳极15的位置上设有上述 电光学层E。并设有阴极(对向电极)19以覆盖住这些围堰层16和发光 功能层E。
阳极15和阴极19由ITO及其他导电材料形成。例如，在由阳极侧 射出从电光学层E发出光的底部发射型结构中，对于阳极15，可使用ITO 等透光性导电材料。而且从阳极侧取出向阴极侧发出的光那样，对于阴 极19，最好采用Al、 Ag等高反射率的金属材料，或者采用Al / ITO等 透光性材料和高反射率金属材料形成的层叠结构。反之，在由阴极侧取 出发光光的顶部发射型结构中，对于阴极19，使用透光性导电材料，对 于阳极15，使用高反射率的导电材料。这种情况下，阴极19，例如使用 A乂夕7。口一乂 (BCP)和铯(Cs)的共蒸镀膜，进而为了付与导电性， 最好采用所说的ITO形成层叠的结构。并阴极19配置成，以覆盖住围堰 层16和电光学层E的露出面，对于各像素，以共同的共同电极发挥功能。
本实施方式中，采用的是从基板主体10A侧(即，透过滤色片层13) 取出从电光学层E发出的光的底部反射型结构，对于阳极15使用了 ITO 等透光性导电材料。
对于元件基板10，在由玻璃或树脂形成的透光性基板主体IOA上， 依次层叠电路元件部11、层间绝缘膜12、滤色片层13，在该滤色片层 13上，与各像素相对应形成有矩阵状的上述阳极15。对于电路元件部U， 设置有扫描线和信号线等各种配线、保持图案信号用的保持电容(都未 图示)、和作为像素开关元件的TFTlla等电路。
对于滤色片层13，以围堰层141区分的形式，设置有成矩阵状的R、
10G、 B三种滤色片14R、 14G、 14B。对于围堰层141，在与上述围堰层16 的开口部形成平面重叠的位置上设有开口部，各个滤色片14R、 14G、 14B 设置在由围堰层141划分的区域内。另外，在本说明书中，是将包括这 些滤色片14R、 14G、 14B和围堰层141的层作为滤色层13。
电光学层E，例如，由空穴注入/输送层17、和包括白色发光材料 的白色发光层18从下层侧依次形成层叠的结构。
作为空穴注入/输送层17的形成材料，最好使用聚噻吩、聚苯乙烯 磺酸、聚吡咯、聚苯胺s及其衍生物等高分子材料。作为白色发光层18 的形成材料(发光材料)，能使用高分子发光体和低分子的有机发光色素， 即各种荧光物质和磷光物质等的发光物质。形成发光物质的共轭系高分 子中，最好的是包括亚芳香基乙烯撑或聚芴结构的高分子等。本实施方 式中，由于利用喷墨法(液滴喷出法)形成该白色发光层18，所以作为 这种发光材料，最好使用高分子材料，例如最好使用将聚二辛基芴(PFO) 和MEH—PPV按9: 1的比率进行混合的。本实施方式中，虽然将电光 学层E形成上述2层的层叠结构，但也可以根据需要，在发光层18上设 置电子输送层和电子注入层等。
如此构成的基板可利用密封材料20进行密封。作为该密封材料20， 最好具有气体阻挡性的材料，例如，可以使用如Si02等硅氧化物、SiN 等硅氮化物、或者SiOxNy等硅氧氮化物。在阴极19和密封材料20之间， 也可以根据需要设置保护膜。另外，配置在阳极15的下层侧的层间绝缘 膜32，由这种硅氧化物、硅氮化物、硅氧氮化物构成时，由阳极15、电 光学层E、阴极19形成的EL元件，可以由气体阻挡性膜(即，层间绝 缘膜12和密封材料20)包覆起来，构成可靠性更高的有机EL装置。
以下对本实施方式的有机EL装置的制造方法进行说明。
本实施方式的有机EL显示装置100制造方法，例如具备(l)形成 滤色片的工序；(2)形成阳极(像素电极)的工序；(3)形成电光学层 (发光功能层)的工序；和(4)形成阴极(对向电极)的工序；以及密 封工序。而且，该制造方法，并不仅限于本实施方式，根据需要还有排 除或追加其他工序的情况。以下对各个工序进行说明。 (1)形成滤色片的工序
ii在此首先作为前阶段，准备形成如图1 (a)所示电路元件部11和层
间绝缘膜12的基板主体IOA。对于形成这些电路元件部11、层间绝缘膜 12的工序，可以使用公知的方法。
接着，如图1 (b)所示，在围绕各像素的位置上(非像素区域)，以
格子状，由感光性材料等形成围堰层141。具体是在基板上涂布丙烯树脂 或聚酰亚胺树脂等具有耐热性、耐溶剂性的感光性材料，利用光刻法技 术，在与各像素相对应的位置上形成开口部H1。这时，在围堰层141和 层间绝缘膜12上形成与TFTlla相通的开口部(接触孔)H2。
接着，通过液滴喷出法，在围堰层141的各开口 Hl处，分别形成对 应色的滤色片。在该工序中，作为液滴喷出装置，例如使用喷墨装置， 一边使喷墨喷头51与基板作相对移动， 一边向围堰层开口部H1内喷出 包括滤色片形成材料的液体材料。具体是将各色(图1 (c)中为蓝(B)) 的颜料或色素分散在分散剂中调制成着色油墨(液体材料)，并填充到喷 墨喷头51内，从喷嘴，将该着色油墨，以控制每1滴液量的着色油墨滴 L1喷出到开口部H1内(液滴喷出工序)。这样，将着色油墨填充到开口 部H1内后，进行干燥，除去液体材料中的溶剂(干燥工序)。该干燥工 序，可以单独使用或并用真空干燥、加热干燥、其他已知的干燥方法进 行。通过该处理，蒸发掉油墨中所含的溶剂，最终只残留下油墨中所含 的固体成分(颜料或色素等)，并形成膜，得到图1 (d)所示的滤色片 14B。而且，在滤色片形成用的油墨中，也可以添加颜料和色素以外的树 脂成分等。这种情况下，形成树脂中分散了颜料的滤色片、和由色素染 色的滤色片。在使用不分散树脂仅是色素的情况下，由于能形成非常薄 的滤色片，所以配置在滤色片上的保护膜等也能形成平坦性非常好的膜。
另外，在液滴喷出工序中，为了不使油墨L1配置在围堰层141上面， 最好利用将含氟气体作为处理气体的等离子体处理等，预先使围堰层141 的表面形成疏液化。通过如此处理，即使油墨着落位置发生偏差，而落 在围堰上面的油墨也被排斥，使之滚入围堰开口部H1内而填充。
接着，如图1 (e)所示，使用和上述蓝色(B)滤色片14B同样的 工序，依次形成红色(R)滤色片14R、和绿色(G)滤色片14G、滤色 片14R、 14G、 14B的形成顺序，并不仅限于上述顺序，也可以任意顺序形成。
(2) 形成阳极(像素电极)的工序
在此，如图2 (a)所示，通过溅射法和CVD法等，在整个基板面上 形成导电材料膜，并通过形成图案在各个像素区域内形成阳极15。该阳 极15， 一般使用ito等透光性导电材料。在阳极15和滤色片13之间， 根据需要也可以形成保护膜。在形成该保护膜时，可以采用旋转涂布法、 辊子涂布法、浸渍涂布法等方法，但也能和滤色片的情况同样，使用液 滴喷出装置进行。
(3) 形成电光学层(发光功能层)的工序
在此，首先如图2 (b)所示，在围绕各像素的位置(非像素区域) 上，以格子状形成区别划分各像素的围堰层16。具体是在基板上涂布丙 烯树脂和聚酰亚胺树脂等具有耐热性、耐溶剂性的感光性材料，通过光 刻法技术，在配置阳极15的区域内形成开口部h3。
接着，如图2 (c)所示，通过液滴喷出法，在围堰层16的各个开口 部h3内形成空穴注入/输送层。该工序中，首先， 一边使喷墨喷头52 与基板作相对移动， 一边将包括空穴注入/输送层形成材料的液体材料 l2喷出到围堰开口部h3内(液滴喷出工序)。这样将液体材料l2填充 到开口部H3内后，如图2 (d)所示，将液体材料中的溶剂干燥，去除， 使液体材料l2中所含的空穴注入/输送层形成材料形成膜(干燥工序)。 由此，在阳极15的露出面上形成空穴注入/输送层17。作为液体材料 l2，例如可以使用将聚乙烯二噻吩(pedot)等聚噻吩衍生物和聚苯乙 烯磺酸(pps)等的混合物(空穴注入/输送层形成材料)溶解在极性溶 剂中形成的液体材料。作为极性溶剂，例如可以使用异丙醇(ipa)、正 丁醇、y-丁内脂、n-甲基吡咯烷酮(nmp)、 1,3-二甲基-2-咪唑烷酮(dmi) 及其衍生物、卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯等乙二醇类。以适宜喷 墨法的组成，可将上述材料混合。
在液滴喷出工序中，为了不使油墨l2落在围堰层16上面，最好利 用将含氟气体作为处理气体的等离子体处理等，对围堰层16表面预先形 成疏液化。另外，具有空穴注入/输送层形成工序在内的以后各个工序， 最好形成无水、无氧的气氛，例如，最好在氮气气氛、氩气气氛等惰性气体气氛中进行。
接着，如图3 (a)所示，通过液滴喷出法，在空穴注入/输送层17 上形成发光层。在该工序中，首先， 一边使喷墨喷头53与基板作相对移 动， 一边将包括发光层形成材料(发光材料)的液体材料L3喷出到围堰 开口部H3内(液滴喷出工序)。这样，将液体材料L3填充到开口部H3 内后，如图3 (b)所示，将液体材料中的溶剂干燥、去除，使液体材料 L3中所含的发光材料形成膜(干燥工序)。由此，在空穴注入/输送层 17的露出面上形成发光层18。作为液体材料L3，可以使用将聚二辛基芴 (PEO)和MEH—PPV以9: 1的比率进行混合的混合物(发光材料)溶 解在溶剂中形成的液体材料。作为该溶剂，最好是对空穴注入/输送层 17不溶的溶剂，例如，可以使用环己苯、二氢苯基呋喃、三甲苯、四甲 苯等非极性溶剂。由于将这种非极性溶剂用于发光材料的溶剂，不会溶 解空穴注入/输送层17，能够对液体材料L3进行涂布。
根据以上描述，在阳极15上形成电光学层E。 (4)形成阴极(对向电极)的工序、及密封工序
在此，如图3 (c)所示，通过溅射法和CVD法，在整个基板面上形 成A1和Ag等导电材料膜，并由单层的导电层形成阴极19。阴极19也 可以形成为A1等单层膜。为了使EL元件有效地发光，也可以采用电子 注入层和导电层一类的层叠结构。这种情况下，其构成最好是在靠近发 光层一侧，由Ca、 Ba等功函数小的材料形成电子注入层。根据发光材料， 也可以在Ca、 Ba的发光层侧，由LiF等形成薄层。电子注入层和导电层 的成膜方法，最好从电阻加热蒸镀法、溅射法等已知的成膜方法中选出 适宜的方法。该阴极19的厚度，例如，最好为100 1000nm的范围、更 好为200 500nm。在形成该阴极19时，与形成上述空穴注入/输送层 17和发光层18时不同，由于是以蒸镀法或溅射法等进行。所以只在像素 区域有选择性地不配置导电材料，而是将导电材料设在基板的整个面上。
接着，在基板的整个面上形成密封材料20，以防止阴极19和电光学 层E受水分和氧等影响而劣化。作为这种密封材料20，最好具有气体阻 挡性，例如可以使用Si02等硅氧化物、SiN等硅氮化物、或SiOxNy等硅 氧氮化物。为了进一步获得效果，也可以在这些无机氧化物层上，形成丙稀酯或聚酯、和环氧等树脂层的层叠。
如以上说明，本实施方式中，是通过液滴喷出法，只在所定区域内 有选择性地配置发光材料，所以能有效地使用高价发光材料。本实施方 式中，由于是在同一块基板上依次形成白色发光层18和滤色片14R
14B，所以，例如与在和基板主体10A不同的基板上形成滤色片后，将两
块基板贴合的情况比较，不需要进行位置吻合，由此能实现高精度化。
以上虽然参照图1 图3，对本发明的最佳实施方式例作了说明，但 本发明不受该实例限定也是当然的。将上述例中所示的各构成部件的诸 种形态和组合等，就是一例，在不超出本发明宗旨的范围内，根据设计 要求等，能作种种变更。例如，本实施方式中，对于元件基板10的形成 工序，虽然依次进行了形成电路元件部11的形成工序；形成层间绝缘
膜12的工序；形成围堰层141的工序；形成开口部H1、 H2的工序；形 成滤色片14的工序；和形成像素电极的工序，但这个顺序号并不限于此，
只要符合形式可作种种变更。
图4是形成滤色片14后形成接触孔H2的示例。在该例中，首先， 用图1 (a)相同的方法，在基板主体10A上依次形成电路元件部11、层 间绝缘膜12、和围堰层141。接着，如图4 (a)所示，通过光刻法技术， 在与各像素对应的位置上形成开口部Hl。在与TFTlla对应的位置上形 成开口部H7，接着，如图4 (b)所示，通过液滴喷出法，在开口部H1 内形成滤色片14。接着，如图4 (c)所示，形成Si02等无机绝缘膜142， 以覆盖住围堰层141和滤色片14的表面及围堰层141的开口部H7内面。 该无机绝缘膜142具有如下保护功能，即，在层间绝缘膜12上形成接触 孔时，围堰层141和滤色片14不会受到蚀刻而损坏，在剥离蚀刻用形成 的抗蚀剂掩模时，同样由有机膜形成的围堰层141等不会与抗蚀剂掩模 一起剥离掉。接着，如图4 (d)所示，对无机绝缘膜142和层间绝缘膜 12进行蚀刻，在开口部H7的内侧，形成与TFTlla相通的开口部(接触 孔)H8。接着，如图4 (e)所示，通过溅射法和CVD法等，在整个基 板面上形成导电材料膜，并通过形成图案，在各像素区域内形成阳极15， 通过以上工序形成元件基板10。
15第2种实施方式
以下参照图5 图7，对本发明的第2种实施方式涉及的有机EL装
置及其制造方法进行说明。
本实施方式的有机EL装置，如图7(e)所示，是将形成EL元件的 元件基板30，与形成R (红)、G (绿)、B (蓝)三种滤色片42 (42R、 42G、 42B)的对向基板40，通过粘接层43贴合在一起的顶部发射型全 色有机EL显示装置。本实施方式的有机EL显示装置200中，在设有阳 极(像素电极)33的元件基板30上设有区别划分各像素的围堰层34， 在由该围堰层34划分的区域内，形成包括白色发光材料的电光学层(发 光功能层)E。在围堰层34中与各像素对应的位置上设有开口部，在该 开口部内，露出阳极33的位置上设有上述的电光学层E、并以覆盖住这 些围堰层34和电光学层E那样，设有阴极(对向电极)37。
本实施方式中，由于采用了从阴极侧取出由电光学层E发出的光的 顶部发射型结构，所以对于阴极37，使用BCP和铯(Cs)的共蒸镀膜， 进而为了付与导电性，采用了所谓ITO层叠的结构。另外，采用在阳极 33上形成Al或Ag等高反射率金属材料、或Al / ITO等透光性材料和高 反射率金属材料的层叠结构，以使阳极33侧发出的光从阴极侧取出。而 且配置阴极37，以覆盖住围堰层34和电光学层E的露出面，使各像素以 共同的共同电极发挥功能，这一点与上述第1种实施方式相同。作为这 时的阴极，除了本构成外，可以同样使用制膜的，即，作为电子注入层 使用功函数低的薄膜金属层(例如，Ca、 Mg、 Ba、 Sr等)，作为电极主 体使用厚膜的金属层(Al、 Ag、 Au等)，合计厚度在50nm或其以下。
对于元件基板30，在由玻璃或树脂等形成的基板主体30A上，依次 层叠电路元件部31、层间绝缘膜32，在该层间绝缘膜32上，与各像素 相对应，以矩阵状形成上述阳极33。对于电路元件部31，设有扫描线或 信号线等各种配线、保持图像信号的保持电容(都未图示)、和作为像素 开关元件的TFT31a等电路。在本实施方式中，由于采用了顶部发射结构， 所以基板主体30A没有必要是透明的。为此，对于基板主体30A，除了 玻璃等透光性基板外，也可以使用半导体基板等半透明或不透明的基板。
电光学层E，例如，采用从下层侧依次层叠空穴注入/输送层35、
16和包括白色发光材料的白色发光层36的构成。对于它们的形成材料，与 上述第l种实施方式同样，此处省略说明。
如此构成的基板用密封材料38进行密封。作为该密封材料38，最好
具有气体阻挡性，例如可以使用硅氧化物、硅氮化物、或硅氧氮化物。 为了进一步获得效果，最好在这些无机氧化物层上层叠丙烯、聚酯、环
氧等树脂层。在阴极37和密封材料38之间，根据需要也可以设置保护 膜。
另一方面，对于对向基板40，在由玻璃或树脂等形成的透光性基板 主体40A上设有滤色片层41。对于滤色片层41，以围堰层421区分的形 式，设置矩阵状的R、 G、 B三种滤色片42R、 42G、 42B。对于围堰层 421，在与上述围堰层34的开口部成平面重叠的位置上设有开口部，并 在由围堰层421区分的区域内设有各个滤色片42R、 42G、 42B。
以下对本实施方式的有机EL装置的制造方法进行说明。
本实施方式的有机EL显示装置200制造方法，例如备有(l)形成 电光学层(发光功能层)的工序；(2)形成阴极(对向电磁)的工序、 密封工序；(3)形成滤色片的工序；和(4)贴合工序。该制造方法，并 不限于本实施方式，根据需要，有除去或追加其他工序的情况。以下对 各个工序进行说明。
(1)形成电光学层(发光功能层)的工序
在此，首先作为前阶段，准备图5 (a)所示的形成了电路元件部31、 层间绝缘膜32、阳极(像素电极)33的基板主体30A。这些电路元件部 31、层间绝缘膜32、阳极33的形成工序，可以使用公知的方法。
以下，如图5 (b)所示，在围绕各像素的位置(非像素区域)上， 以格子状，由感光性材料等形成围堰层34。具体是在基板上涂布丙烯树 脂和聚酰亚胺树脂等具有耐热性、耐溶剂性的感光性材料，通过光刻法 技术，在配置阳极33的区域内形成开口部H4。
接着，如图5 (c)所示，通过液滴喷出法，在围堰层34的各个开口 部H4内形成空穴注入/输送层。在该工序中，首先， 一边使喷墨喷头 54与基板作相对移动， 一边向围堰开口部H4内喷出包括空穴注入/输 送层形成材料的液体材料L4 (液滴喷出工序)。这样在将液体材料L4填
17充到开口部H4内后，如图5 (d)所示，干燥除去液体材料中的溶剂，
使液体材料L4中所含的空穴注入/输送层形成材料形成膜化(干燥工 序)。由此，在阳极33的露出面上形成空穴注入/输送层35。作为液体 材料L4可以使用与上述第1种实施方式的液体材料L2相同的液体材料。
另外，在液滴喷出工序中，为了不使油墨L4落在围堰层34上面， 最好通过将含氟气体作为处理气体的等离子体处理等，使围堰层34表面 预先形成疏液化。具有该空穴注入/输送层形成工序在内的以后各工序， 最好形成无水、氧的气氛，例如，最好在氮气气氛、氩气气氛等惰性气 体气氛中进行。
接着，如图6 (a)所示，通过液滴喷出法，在空穴注入/输送层35 上形成发光层。在该工序中，首先， 一边使喷墨喷头55与基板作相对移 动， 一边向围堰开口部H4内，喷出包括发光层形成材料(发光材料)的 液体材料L5 (液滴喷出工序)。这样，将液体材料L5填充到开口部H4 内后，如图6 (b)所示，干燥除去液体材料中的溶剂，使液体材料L5 中所含的发光材料形成膜(干燥工序)。由此，在空穴注入/输送层35 的露出面上形成发光层36。液体材料L5可以使用与上述第1种实施方式 的液体材料L3同样的液体材料。
通过以上工序在阳极33上形成电光学层E。 (2)形成阴极(对向电极)的工序、密封工序
首先，对电光学层E和围堰层34的露出面形成BCP和Cs的共蒸镀 膜，进而为了付与导电性，通过溅射法或CVD法等，在整个基板面上形 成ITO等透光性导电材料膜。由此，在基板上形成阴极37 (图6 (c))。 对于阴极37，也可以采用像Ca / ITO等一类的电子注入层和透光性导电 层的层叠结构。这种情况下，最好是在靠近发光层侧，由Ca、 Ba等功函 数小的材料形成了电子注入层的构成。也可以根据发光材料，在Ca或 Ba的发光层侧，由LiF等形成薄层。电子注入层和导电层的成膜方法， 可从电阻加热蒸镀法、溅射法等公知的成膜方法中选出适宜的方法。该 阴极37的厚度，例如最好为100 1000nm的范围，更好为200 500nm。 在该阴极37的形成中，与上述形成空穴注入/输送层35和发光层36不 同，由于用蒸镀法或溅射法等进行，所以只在像素区域内有选择性地不
18配置导电材料，而是将导电材料设在整个基板面上。
接着，在整个基板面上形成密封材料38，以防止阴极37和电光学层 E免受水分和氧等影响而劣化。作为该密封材料38，最好具有气体阻挡 性，例如可以适当使用Si02等硅氧化物、SiN等硅氮化物、或SiOxNy等 硅氧氮化物。为了进一步获得效果，也可以在这些无机氧化物层上形成 丙烯、聚酯、环氧等树脂层的层叠。 (3)形成滤色片的工序
首先，准备玻璃或树脂等透光性的基板主体40A。在该基板主体40A 上，如图7 (a)所示，在围绕各像素的位置上，g卩，与元件基板30的非 像素区域相对应，以格子状，由感光性材料等形成围堰421。具体是在基 板上涂布丙烯树脂或聚酰亚胺树脂等具有耐热性，耐溶剂性的感光性材 料，并通过光刻法技术，在与各像素相对应的位置上形成开口部H5。
接着，通过液滴喷出法，在围堰层421的各开口部H5，分别形成对 应色的滤色片。该工序中，作为液滴喷出装置，例如可以使用喷墨装置， 一边使喷墨喷头56与基板作相对移动， 一边向围堰开口部H5内喷出包 括滤色片形成材料的液体材料。具体是将各色(图(b)为蓝(B))的颜 料或色素分散在分散剂中调制成着色油墨(液体材料)，并填充到喷墨喷 头56中，以控制每1液滴量的着色油墨滴L6，从喷嘴喷出的着色油墨滴 弹落到开口部H5内(液滴喷出工序)。这样将着色油墨填充到开口部H5 内后，干燥除去液体材料中的溶剂(干燥工序)。该干燥工序，可以通过 单独或并用真空干燥、加热干燥、其他巳知的干燥方法进行。通过该处 理，蒸发掉油墨中的溶剂，最终只残留下油墨中的固体成分(颜料或色 素等)，并形成膜，得到图7 (c)所示的滤色片42B。在液滴喷出工序中， 为了不使油墨L6落在围堰层421上面，最好利用将含氟气体作为处理气 体的等离子体处理等，对围堰层421表面预先形成疏液化。通过如此处 理，假使油墨弹落位置发生偏差。落在围堰上面的油墨也被排斥，也会 滚入填充到围堰开口部H5内。
接着，如图7 (d)所示，使用和上述蓝色(B)滤色片42B同样的 工序，依次形成红色(R)滤色片42R、绿色(G)滤色片42G。滤色片 42R、 42G、 42B的形成顺序，并不仅限于上述顺序，可以任意顺序形成。
19(4)贴合工序
一边使元件基板30侧的像素与对向基板40侧滤色片42的位置相吻 合， 一边通过粘接层43将两块基板30、 40贴合在一起。该工序，例如， 将透明粘接剂涂布在整个对向基板40面上后，贴合在元件基板30上， 以所谓全面密封的形式进行。
正如以上说明，在本实施方式中，也是通过液滴喷出法，只在所定 的区域内，有选择性地配置发光材料，所以可以有效地使用高价发光材 料。另外，在本实施方式中，采用的是将白色发光层36和滤色片42R 42B分别在不同的基板上形成后，再将两块基板贴合在一起的方法。与上 述第1实施方式将它们制作在同一块基板上的情况比较，就提高合格率 而言是有利的。
另外，在本实施方式中，虽然以液滴喷出法形成滤色片41，但也可 以使用其他方法，例如使用光刻技术而形成。
第3种实施方式
接着，参照图8、图9，对本发明的第3种实施方式涉及的有机EL 装置及其制造方法进行说明。本实施方式中，对于和上述第2种实施方 式同样的部件或部位，付与相同的符号，详细说明省略。
本实施方式的有机EL装置，是上述第2种实施方式中将滤色片直接 层叠形成在元件基板上的顶部发射型全色有机EL显示装置。S卩，本实施 方式的有机EL显示装置中，如图9(c)所示，在基板主体30A上设置 多个依次层叠阳极(像素电极)33、电光学层(发光功能层)E、阴极37 而形成的EL元件，在该EL元件上，通过保护膜44，以岛状设置R(红)、 G (绿)、B (蓝)三种滤色片45 (45R、 45G、 45B)。而且，如此构成的 基板用密封材料46进行密封。作为该密封材料46，最好采用和上述第2 种实施方式的密封材料38同样的气体阻挡性高的材料。
关于阴极37以下的构成，由于和上述第2种实施方式的同样，此处 省略其说明。
以下对本实施方式的有机EL装置的制造方法进行说明。 本实施方式中，直到形成阴极37的工序和上述第2实施方式同样，所以只对其以后的工序进行说明。
通过直到图4 (a) 图6 (c)的工序，在元件基板上形成电光学层 E、阴极37后，在本实施方式中，在阴极37上形成保护膜44。该保护膜 44可以使用无机氧化物层和有机层的二层结构。无机氧化物层，例如， 将TEOS (四乙氧硅烷)或氧气等作为原料，通过等离子体CVD法形成。 进而，在该无机氧化物层上形成混入紫外线吸收剂的热固化型环氧树脂 层叠，在50。C下固化，形成有机层。
接着，如图8 (a)所示，在形成该保护膜44的基板表面上，以含氟 气体(例如CF4)作为处理气体，实施等离子体处理，使保护膜表面形成 疏液化。
接着，如图8 (b)所示，利用抗蚀剂掩模曝光，对各个像素区域(即， 图9中，形成滤色片45R、 45G、 45B的区域)有选择性地照射紫外线， 使各像素区域的保护膜44表面形成亲液化。图8 (b)中，以一点连线示 出疏液部，以实线示出亲液部。所谓"亲液部"是指对在下述的液滴喷 出工序中使用的液体材料，亲和性比疏液部相对高的区域。图8 (b)中， 符号M表示掩模。
根据本工序，在保护膜40表面上形成图案状疏液部。 接着，如图8 (c)所示，在保护膜表面形成的亲液部上，分别形成 对应色的滤色片。在该工序中，作为液滴喷出装置，例如使用喷墨装置， 一边使喷墨喷头57与基板作相对移动， 一边对亲液部喷出包括滤色片形 成材料的液体材料。具体是将各色(图8 (c)中为蓝(B)的颜料或色素 分散在分散剂中，调制成着色油墨(液体材料)，并填充到喷墨喷头57 中，以控制每1滴液量的着色油墨滴L7，从喷嘴喷出，弹落在亲液部内 (液滴喷出工序)。这样将着色油墨喷出在亲液部后，干燥除去液体材料 中的溶剂(干燥工序)。该干燥工序可以通过单独或并用真空干燥、加热 干燥、其他己知的干燥方法进行。通过该处理，蒸发掉油墨中的溶剂， 最后只残留下油墨中的固体成分(颜料或色素等)，并形成膜，得到如图 9 (a)所示的滤色片45B。而且，本工序中，由于将像素区域以外的区域 (非像素区域)形成疏液化，所以喷出的油墨不会超出像素区域扩展湿 润，油墨确实地只配置在亲液部(即，像素区域)内。
21接着，如图9 (b)所示，使用和上述蓝色(B)滤色片45B同样的 工序，依次形成红色(R)滤色片45R、绿色(G)滤色片45 (G)。另夕卜， 滤色片45R、 45G、 45B的形成顺序，并不仅限于上述顺序，可以任意顺 序形成。
接着，对整个基板面形成密封材料46，覆盖住阴极37，以使保护阴 极37和电光学层E免受水分和氧等影响而劣化。作为这种密封材料46， 可以使用和上述第2种实施方式的密封材料38同样的密封材料。
从而，在本实施方式中，也是通过液滴喷出法只在所定区域内有选 择性地配置，所以能有效地使用高价发光材料。本实施方式中，由于从 下层侧依次形成电光学层E和滤色片45，与上述第2种实施方式进行贴 合的情况比较时，不需要对位，就能实现高精度化。本实施方式中，在 未设置围堰层的情况下形成滤色片45。因此，底层的阴极37和电光学层 E不会受形成围堰层的湿法工艺影响而劣化，从而得到可靠性更高的有机 EL装置。
还有，在本实施方式中，作为保护膜，利用在无机氧化物膜上形成 环氧树脂层叠的膜，但除了环氧树脂外，还可以层叠丙烯、聚酯、聚醚 砜、聚酰亚胺等树脂层。虽然对该保护膜表面进行等离子体处理形成疏 液部，但也可以取而代之，形成以通式RnSiX(")表示的自组织化膜(FAS 膜)。其中n表示l 3的整数，X是甲氧基、乙氧基、卤原子等水解基。 R是氟烷基。以X表示的水解基受水解形成硅烷醇，与基板(玻璃、硅) 等的衬底羟基反应，由硅氧垸键与基板进行结合。另一方面，由于R在 表面上具有(CF3)等氟基，所以基板等衬底表面不会润湿(表面能低)， 而使表面改质。这种FAS膜受紫外线照射而分解。由此，利用掩模曝光， 对配置在像素区域的FAS膜照射紫外线，可以使保护膜表面形成局部的 亲液性。即，可在保护膜表面上形成图案状的疏液部。这些疏液部(疏 水图案)的形成方法，不限于滤色片的形成，也能够利用其他的工序。 本实施方式中，虽然不使用围堰层形成滤色片45，但并没有将使用围堰 层的形成方法排出在外的意思。例如，通过使用蒸镀掩模的真空蒸镀法， 也能形成疏水性的树脂膜，也能将该树脂作为围堰层形成滤色片。这种 情况下，通过使用液滴喷出法，在形成围堰层的开口部内配置着色油墨，形成滤色片。
第4种实施方式
以下参照图10 图13，对本发明的第4种实施方式涉及的有机EL 装置进行说明。本实施方式的有机EL装置400，是将有机EL元件作为 像素，在基体上进行排列配置形成的有机EL装置，尤其是从基板侧取出 由发光层发出的光而显示的底部发射型有机EL显示装置。本实施方式的 有机EL装置400的基本结构，由于与上述第1种实施方式的有机EL装 置相同，所以对于图10 图13中与图1 图3中同样的部件或部位付与 相同的符号，详细说明省略。
图10是本实施方式的有机EL装置的电路构成图，图11是该有机 EL装置的平面构成图，图12是对其像素结构放大的平面模式图，图13 是图12中A—A，截面的模式图，与图3 (c)相对应的图。
如图10所示，有机EL装置400的构成备有基板上将多条扫描线 131、与这些扫描线131交叉方向上延伸的多条信号线132、与这些信号 线132并列延伸的数条电源线133，分别配线，所以扫描线131和信号线 132的各个交点处，设置像素区域71。
对于信号线132，设有具备移位寄存器、电位移位器、视频线路、和 模拟开关等的数据侧驱动电路72。而对于扫描线131，设有具备移位寄 存器、电位移位器等的扫描侧驱动电路73。另外，对于各个像素区域71， 设有以下部分，即，包括通过扫描线131供给扫描信号栅电极的开关用 TFT (薄膜晶体管)llb、保持通过该开关用TFT (薄膜晶体管)lib从 信号线132供给图像信号(电力)的保持电容器cap、包括供给由保持电 容器cap保持的图像信号的栅电极驱动用TFTlla、通过该驱动用TFTlla 与电源线133形成电连接时，由电源线133流入驱动电流的阳极(像素 电极)15、和夹持在该阳极15和阴极(共同电极)19之间的发光功能层 E。这样，由上述阳极15、阴极19、和发光功能层E构成的元件是有机 EL元件。
这种构成下，驱动扫描线131而开关用TFTllb接通时，此时的信号 线132电位保持在保持电容器cap内，根据该保持电容cap的状态，决定驱动用TFTlla的开关状态。同样，通过驱动用TFTlla的通道，电流从 电源线133流入阳极15，电流进而通过发光功能层E流入阴极19，由此， 使发光功能层E根据其流入的电流量进行发光。
具备图10所示的电路构成的有机EL装置400，如图11所示，其构 成是在具有电绝缘性和透光性的基板主体IOA上，以矩阵状配置与开关 用TFT (未图示)连接的阳极，形成平面看略呈矩形的像素部3 (图11 中一点连线框内)。像素部3区分成中央部分的显示区4 (像素部3内的 一点连线框内)、和配置在显示区4周围的空白区5。在显示区4内，以 矩阵状配置分别具有阳极的3色显示点R、 G、 B,在纸面的纵向和横向 上分别形成间隔。本实施方式的情况是对应于上述各显示点设有像素区 域71。
另外，在图11中显示区域4的左右内配置扫描线驱动电路73，而在 图11中显示区域4的上下内配置有数据线驱动电路72。这些扫描线驱动 电路73、数据线驱动电路72配置在空白区域5的周边部位，进而，在图 11中数据线驱动电路72的上侧配置有检査电路卯，该检査电路90是检 查有机EL装置400工作状况的电路，例如，具备将检查结果输出外部的 检査信号输出机构(未图示)，以便可以检查出制造工序中和出厂时显示 装置的质量和缺陷。该检查电路90也可以配置在空白区域5的下层侧。 由柔性印刷基板等形成的驱动用外部基板51与基板主体IOA连接，并在 驱动用外部基板51上搭载外部驱动电路50。
接着，根据图12，对本实施方式的有机EL装置400的像素构成进 行说明。如图12所示，本实施方式的有机EL装置400中，配置有在图 示左右方向延伸的多条扫描线131、和在与这些扫描线131成直交方向上 彼此平行延伸的多条信号线132和电源线133。由彼此平行延伸的扫描线 131、和在这些扫描线131交叉延伸的信号线132、电源线133围成的平 面看矩形状区域成为像素区域71，并在各像素区域内设有阳极15。在包 括阳极15的基板表面上，设有与各阳极15中央部分相应对的位置上具 有开口部的围堰层，以由该围堰层区分的形式，在像素区域71的中央部 分设置有包括有机发光层的发光功能层的发光功能E。另外，在阳极51 的下层侧(观察侧)，与1个像素区域71相对应配置有3原色中的1种色泽滤色片14 (14R、 14G、 14B)。滤色片14的形成状态是和发光功能 层E同样，分别由围堰层进行区分。即，在区分滤色片14的围堰层(滤 色片用围堰层)中，与各阳极15对应的位置上设有开口部，以该围堰层 区分的形式，在像素区域71的中央部分设有各色滤色片14。滤色片用围 堰层的开口部比区分发光功能层E的围堰层(发光功能层用围堰层)开 口部宽，当从平面看时的状态是发光功能层用的围堰层开口区域配置在 滤色片用围堰层的开口区域内侧。即，在本实施方式的有机EL装置400 中，由3个不同色的像素区域形成1个彩色像素，利用这些彩色像素能 够形成彩色显示。
在阳极15和扫描线131、信号线132、电源线133之间插入开关用 TFTllb和驱动用TFTlla。 TFTllb的构成，具有栅电极部131a、以平面 看跨越该栅电极部131a配置的半导体层(未图示)、设在该半导体层两端 侧一侧的源电极部132a、和设在上述半导体层另一侧的漏电极部135。在 半导体层上与栅电极部131a相对的区域内，形成TFTllb的通道区域(图 12中，形成斜剖线的部分)，在其两侧的半导体层上，形成有与源电极部 132a连接的源区域、和与漏电极部135连接的漏区域。栅电极部131a是 在信号线132的延长方向上分支形成的部分扫描线131，其前端侧，通过 未图示的绝缘膜和半导体层形成相对向。源电极部132a，在扫描线131 的延长向上分支形成部分扫描线132，直接或通过未图示的接触孔与半导 体层上的源区域形成电连接。
另一方面，TFTlla的构成为，具备栅电极部135a、从平面看跨越该 栅电极部135a那样配置的半导体层(未图示)、设在该半导体两端侧一方 的源电极部133a、和设在上述半导体层另一方侧的漏电极部136。在与半 导体层的栅电极部135a相对向的区域内，形成有TFTlla的通道区域(图 12中，斜剖线的部分)，在其两侧的半导体层上，形成有与源电极部133a 连接的源区域、和与漏电极部136连接的漏区域。栅电极部135a是将一 部分TFTllb的漏电极部135的一部分在电源线133的延长方向上分支而 形成，在其前端侧，通过未图示的绝缘膜和半导体层相对向。源电极部 133a，使一部分电源线133在扫描线131 (漏电极部135)的延长方向上 分支而形成，直接或通过未图示的接触孔，与半导体层的源区域形成电
25连接。TFTlla的漏电极部136—端侧，直接或通过未图示的接触孔与上 述漏区域电连接，漏电极部136的另一端侧，直接或通过未图示的接触 孔与阳极15形成电连接。TFTllb由通过扫描线131输入的栅信号仅在 所定期间内形成接通的状态，通过信号线132供给的信号，在所定的定 时内，作为TFTlla的栅信号输出，TFTlla，由通过TFTllb的漏电极部 135输入的上述栅信号，仅在所定的期间内形成接通状态，以此通过电源 线133供给的驱动电流，在所定的定时内，对发光功能层E进行注入。
以下使用图13，对有机EL装置400的截面结构进行说明。
图13是图12中A—A，的截面图(设在图11中显示区域4的像素 区域71的截面构成图)。在有机EL装置400的像素区域71内，在具有 玻璃等透光性的基板主体IOA上，设有包括TFTlla、 11b和扫描线131、 信号线132、电源线133等各种配线的电路元件部11，进而在通过覆盖 该电路元件部11形成的层间绝缘膜12的基板主体10A上，形成有滤色 片13。滤色片层13是由彼此色泽不同的多种滤色片(红色滤色片14R、 绿色滤色片14G、蓝色滤色片14B)所形成，在这些滤色片14R 14B之 间，根据需要，配置由黑色树脂等形成的遮光层(黑色基质)。在滤色片 和滤色片之间配置围堰层141 (滤色片用围堰层)，以该围堰层141区分 的形式，在各个像素区域71内配置所定色泽的滤色片14。
在滤色片层13上形成有有机EL元件P。有机EL元件P具备的构成 是将设在由基板主体10A上直交设置的围堰层16 (发光功能层用围堰 层)围绕的划分区域内的发光功能层E作为主体，将该发光功能层E夹 持在阳极15和阴极19之间。该有机EL元件P构成为在阳极15的平面 区域内，在形成平坦面的区域中，形成包括发光层18的多个功能层(发 光功能层E)层叠，进而在上述功能层上形成覆盖围堰层的阴极19。这 些包括多个功能层的发光功能层E形成在围堰16的内侧，覆盖住阳极15。
本实施方式的有机EL装置400，由于是从基板主体10A侧取出光的 底部发射型的，所以阳极15由ITO (铟锡氧化物)等透光性导电材料形 成。阳极15，通过层间绝缘膜15上形成的未图示接触孔，与电路元件部 11的TFTlla (漏电极部136)成电连接。阴极19，以覆盖住发光功能层 E和围堰层16的状态，形成在基板主体10A上。作为该阴极19，可以使
26用Al和Ag等高反射率的金属材料。或者，也可以采用Al/ITO等透光
性材料和高反射率金属材料的层叠结构。
发光功能层E是将空穴注入/输送层.(电荷输送层)17和发光层18 作为主体，根据需要，在发光层18上具备电子注入层和电子输送层等。 作为空穴注入/输送层17的形成材料(空穴注入材料)，可以使用聚噻 吩、聚苯乙烯磺酸、聚吡咯、聚苯胺、及其衍生物等高分子材料。作为 发光层18的形成材料(发光材料)，可以使用能发荧光或磷光的已知发 光材料。具体讲，可以使用(聚)对苯乙烯撑衍生物、聚苯撑衍生物、 聚芴衍生物、聚乙烯卡唑、聚噻吩衍生物等高分子发光体，和茈系色素、 香豆素系色素、罗丹明系色素等低分子有机发光色素、在形成发光物质 的共轭系高分子中，最好的是包括丙炔乙烯撑或聚芴结构的。而且，这 些材料中，也可以使用红荧烯、茈-9,10-二苯基蒽、四苯基丁二烯、尼罗 红，香豆素6、喹吖叮等材料进行掺杂。对于红色(R)像素区域、绿色 (CT)像素区域、蓝色(B)像素区域的各像素区域的发光层18，可分 别使用发光色不同的发光材料。特别是，本实施方式中，由于通过液滴 喷出法形成这些发光层，所以比使用蒸镀法更容易进行发光材料的分割。 然而，变更发光材料时，由于每色的寿命发生变化，所以长时间使用时， R、 G、 B的色平衡会产生慢慢崩溃的问题。例如，现状是红色发光材料 的寿命长于蓝色发光材料和绿色发光材料，长时间使用时，显示会变得 偏红色(带有红色味道)。因此，本实施方式中，由于R、 G、 B各像素 区域的发光层18是由共同的发光材料形成，所以各色的寿命能均匀化。 即，本实施方式中，R、 G、 B各像素区域的发光层18是由发白色光的白 色材料形成，从这些发光层(白色发光层)18发出的光通过滤色片14， 以实现彩色化。这种情况下，在形成发光材料的共轭系高分子中，最好 是包括乙烯乙烯撑或聚芴结构的材料。进而，这些发光层18由喷墨法等 液滴喷出法形成时，作为该发光材料最好使用高分子材料，例如，最好 使用以9: 1的比率将聚二辛基芴(PFO)和MEH-PPV混合的材料。这 种白色发光材料比目前得到的蓝色发光材料和绿色发光材料寿命长，能 够充分用于显示装置。
在阴极19的上层侧形成有密封材料20，作为密封材料20，可以使
27用无机化合物、例如，硅氧化物、硅氮化物、硅氧氮化物等硅化合物。 如此，通过使用由无机化合物形成的密封材料20覆盖住该阴极19，可以
有效地防止氧等对无机氧化物形成的阴极19的浸入。该密封材料20，在 平面上，如图11所示延伸设置到基板主体10A的外周部分，其厚度，例 如取为10 —300nm左右。在阴极19和密封材料20之间，根据需要也可 以设置保护膜。
本实施方式的有机EL装置400，可以通过和第l种实施方式所示的 方法同样的方法进行制造。即，有机EL显示装置400的制造方法，例如 具有以下工序，即，(1)形成滤色片的工序、(2)形成阳极的工序、(3) 形成发光功能层的工序、和(4)形成阴极的工序、及密封工序，形成滤 色片14的工序和形成发光功能层的工序，使用液滴喷出法(喷墨法等)， 由液滴喷头喷出所定的液体材料，有选择性地配置在基板上。对于这些 (1) (4)的详细工序，由于和第1种实施方式同样，所以此处对说 明省略。作为液滴喷头，可以使用压电元件(压电元件)。该液滴喷头， 对安装在内腔中的压电元件(压电元件)进行驱动，通过改变内腔内的 压力，使装在内腔内的油墨(含发光材料或空穴注入材料等的液体材料)， 从与该内腔连通的喷嘴中喷出。当然，作为喷头的喷出机构，除了上述 利用压电元件的电机械变换体以外，例如，还可以采用作为能量发生 元件使用电热变换体的方式、所谓带电控制型、加压振动型的连续方式、 静电吸引方式、进而照射激光等电磁波而发热，以该发热产生的作用喷 出液体材料的方式。
如以上说明，本实施方式中，各像素区域的发光层18，全部由共同 的材料形成，所以对于各色的寿命形成均匀化，即使长时间使用，也能 保持良好的色平衡。由于是通过液滴喷出法，只在所定区域内有选择性 地配置发光材料，所以可以有效地使用高价的光发材料。
以上参照图10 图13对本发明的最佳实施方式例作了说明，当然， 本发明不受该例所限。上述例中所示的各构成部件的诸种形态和组合就 是一例，在不脱离本发明宗旨的范围内，根据设计要求可作种种变更。 例如，本实施方式中，虽然将有机EL装置400取为底部发射型的结构。 但也可以和第2种实施方式或3种实施同样，将滤色片14配置在发光层18的上层侧(与基板主体10A相对侧)，进而变更阴极19等的材料，形 成顶部发射型的结构。图14是顶部发射型结构的一例截面模式图，是与
图13对应的图。在图14的有机EL装置400'中，作为阴极19，使用ITO 等透光性的导电材料。另外，作为阳极15，最好使用Al等高反射率的金 属材料，以便从阴极19侧取出基板主体10A侧发出的光。当然，也可以 由ITO等透光性的导电材料形成阳极15，在阳极15的下层侧(基板主体 10A)以另行体由Al等形成光反射膜。对于除此之外的构成，和图13同 样。
第5种实施方式
以下参照图15、图16，对本发明第5种实施方式的有机EL装置进 行说明。图15是放大表示本实施方式有机EL装置的像素结构的平面模 式图，图16是表示图15中A—A'截面的模式图，是与图13或图14相 对应的图。本实施方式有机EL装置500的基本构成和第4种实施方式同 样，不同点主要是有红色发光材料形成红色像素区域的发光层，在该红 色像素区域不设置滤色片14R。因此，图15、图16中，与图IO—图14 共同的构成要件付与相同的符号，详细说明省略。
如图15所示，在本实施方式的有机EL装置500中，在包括阳极15 的基板表面上，在与各阳极15中央部分相对应的位置设有具有开口部的 围堰层，以该围堰层区分的形式，在像素区域71的中央部分，设有包括 有机发光层的发光功能层E或发光功能层ER。本实施方式中，红色像素 区域的发光层ER是色发光层，用色光为发红色光的红色发光材料形成， 绿色像素区域和蓝色像素区域的发光层E，用发白色光的白色材料形成。 在阳极15的下层侧(观察侧)上，与绿色像素区域和蓝色像素区域相对 应，分别配置有绿色滤色片14G和蓝色滤色片14B。滤色片14 (14G、 14B)与发光功能层E、 ER同样，由围堰层形成各个被区分的状态。艮口， 在对滤色片14进行区分的围堰层(滤色片用围堰层)中，在与绿色像素 区域和蓝色像素区域的阳极15中央部分相对应的位置上设有开口部，以 该围堰层区分的形式，在绿色像素区域和蓝色像素区域的中央部分，分 别设有绿色滤色片14G和蓝色滤色片14B。滤色片用围堰层开口部，形
29成为比区分发光层E、 ER的围堰层(发光功能层用围堰层)开口部要宽 大，当从平面看时，发光功能层用的围堰层开口区域，形成为配置在滤
色片用围堰层开口区域内侧的状态。即，在本实施方式的有机EL装置 500中，由3个不同色的像素区域形成为1个彩色像素，由这些彩色像素 形成彩色显示。
以下用图16，对有机EL装置500的截面结构进行说明。
图16是图15中A—A，截面图(设在图11中显示区域4中的像素 区域71截面构成图)。在有机EL装置500的像素区域71中，具有玻璃 等透光性的基板主体10A上，设有包括IT011a、 llb和扫描线131、信 号线132、电源线133等各种配线的电路元件部11，进而通过覆盖该电 路元件部11形成的层间绝缘膜12的基板主体10A上，形成有滤色片层 13。滤色片层13，由彼此色泽不同的多种滤色片(绿色滤色片14G、蓝 色滤色片11B)形成，在这些滤色片14G、 14B之间，根据需要，配置由 黑色树脂等形成的遮光层(黑色基质)。在滤色片和滤色片之间配置有围 堰层141 (滤色片用围堰层)，以该围堰层141区分的形式，在各个像素 区域71内，配置有所定色的滤色片14。
在滤色片14上，形成有机EL元件P。有机EL元件P具备的构成是 将设在由基板主体10A上直立设的围堰层16 (发光功能层用围堰层)围 成的区分区域内的发光功能层E或发光功能层ER作为主体，并使该发光 功能层E或发光功能层ER夹持在阳极15和阴极19之间。该有机EL元 件P构成为在阳极15的平面区域内，形成平坦面的区域形成包括发光层 18或发光层18R的多个功能层(发光功能层E或发光功能层ER)层叠， 并在上述功能层上形成覆盖围堰层16的阴极19。这些包括多个功能层的 发光功能层E、 ER，覆盖住阳极，形成在围堰层16的内侧。
本实施方式的有机EL装置500,是从基板主体10A侧取出光的底部 发射型，所以阳极15由ITO (铟锡氧化物)等透光性导电材料形成。阳 极15通过层间绝缘膜15上形成的未图示接触孔，与电路元件部11的 TFTlla (漏电极部136)形成电连接。阴极19，以覆盖在发光功能层E， ER和围堰层16上面的状态，形成在基板主体10A上。作为该阴极19， 可以使用Al和Ag等高反射率金属材料。或者，也可以采用A1/IT0等
30透光性材料和高反射率金属材料的层叠结构。
发光功能层E是将空穴注入/输送层(电荷输送层)17和发光层18 作为主体，根据需要，在发光层18上具有电子注入层和电子输送层等。 周样，发光功能层ER是将空穴注入/输送层(电荷输送层)17和发光 层18R作为主体，根据需要，在发光层18R上具有电子注入层和电子输 送层等。本实施方式中，红色像素区域的发光层(红色发光层)18R由红 色发光材料形成，除此之外的蓝色像素区域和绿色像素区域的发光层(白 色发光层)18由白色发光材料形成。如前所述，现状是红色发光材料， 蓝色发光材料、绿色发光材料的寿命存在差异，尤其是关于蓝色发光材 料和绿色发光材料，还没有获得足够的寿命特性。在上述第1 第4种实 施方式中，红色像素区域、绿色像素区域、蓝色像素区域的各个发光层 全部由相同的白色发光材料形成，各色的寿命均匀化。然而，红色发光 材料已获得具有良好寿命特性。所以R、 G、 B全部像素区域的发光材料 没有必要共同化。本实施方式中，对于未获得足够寿命特性的蓝色和绿 色，可并用白色发光层18和滤色片14，而对于获得足够寿命特性的红色， 只使用红色发光层18R，就能实现彩色化。通过如此进行，对于R、 G、 B各色都能获得良好的寿命特性。对于形成空穴注入/输送层17的材料 和形成发光层18、 18R的材料，可以使用上述公知的材料。
在阴极19的上层侧形成有密封材料20。对于密封部件20的材料、 形状、大小、形成范围等，和第4种实施方式相同。
本实施方式的有机EL装置500，可以通过和第4种实施方式的方法 同样的方法进行制造。即，有机EL显示装置500的制造方法，例如，具 有(1)形成滤色片的工序、(2)形成阳极的工序、(3)形成发光功能层 的工序、和(4)形成阴极的工序，及密封工序，形成滤色片14的工序 和形成发光功能层的工序，通过液滴喷出法进行。关于详细工序，由于 和第4种实施方式同样，所以只能对说明省略。
正如以上说明的，本实施方式中，对于未获得充分寿命特性的蓝色 和绿色，并用白色发光层和滤色片，而对于获得足够寿命特性的红色， 则省略了滤色片，通过只使用红色发光层就能实现彩色显示。由此，任 何一种色都能获得良好的寿命特性，关于红色，由于没有用滤色片吸收光成分，所以能提高光利用效率，并降低驱动电流。
以上虽然参照图15、图16对本发明的最佳实施方式例作了说明，但 不用说本发明不受该例限定。上述例中示出的各种构成部件的诸种形态 和组合等就是一例，在不脱离本发明宗旨的范围内，根据设计要求等，
可作种种变更。例如，本实施方式中，虽然有机EL装置500采用了底部 发射型结构，但也可以采用如图14所示，在发光层18的上层侧(与基 板主体10A的相对侧)配置滤色片14，进而变更阴极19等的材料，形 成顶部发射型的结构。本实施方式中，虽然省略了红色像素区域的滤色 片，也可不必省略滤色片，也可以与发红色光的红色发光层18R重复设 置红色滤色片14R。这种情况下，虽然红色会产生若干光吸收，但增加了 该分色的纯度，并获得良好的颜色再现性。
第6种实施方式
以下参照图17、图18，对本发明的第6种实施方式的有机EL装置 进行说明。图17是本实施方式的有机EL装置的像素结构放大平面模式 图，图18是图17中A—A'截面模式图，是与图13或图14相对应的图。 本实施方式的有机EL装置600的基本构成和第4种实施方式同样，不同 点是红色像素区域和绿色像素区域的发光层分别由红色发光材料和绿色 发光材料形成，不设置该红色像素区域和绿色像素区域的滤色片14R、 14G，和根据各色的发光亮度等，以调整红色发光层、绿色发光层、蓝色 发光层的大小。因此，图17、图18中与图10 图14的共同构成要素付
与了相同的符号，详细说明省略。
如图17所示，本实施方式的有机EL装置600中，在包括阳极15的 基板表面上，在与各阳极15中央部分相对应的位置，设置具有开口部的 围堰层，以该围堰层区分的形式，在像素区域71的中央部分设置着包括 有机发光层的发光功能层，或发光功能层ER、或发光功能层EG。本实 施方式中，红色像素区域的发光层ER是色发光层，通过发出红色色光的 红色发光材料形成的。绿色像素区域的发光层EG是色发光层，通过发出 绿色色光的绿色发光材料形成的。而蓝色像素区域的发光层E是白色发 光层，通过发出白色光的白色发光材料形成的。另外，在阳极15的下层
32侧(观察侧)，与蓝色像素区域相对应，配置着蓝色滤色片14B。滤色片
14(14B)，和发光功能层E、 ER、 EG同样，由围堰层分别形成划分状态， 即，在区分滤色片14的围堰层(滤色片用围堰层)上，与蓝色像素区域 的阳极15中央部分相对应的位置，设有开口部，以该围堰层区分的形式， 在蓝色像素区域的中央部分设有蓝色滤色片14B。形成的滤色片用围堰层 开口部，比区分发光功能层E、 ER、 EG的围堰层(发光功能层用围堰层) 开口部宽大，从平面看时，形成发光功能层用围堰层的开口区域，配置 在滤色片用围堰层的开口区域内侧。即，本实施方式的有机EL装置600 中，由3种不同色泽的像素区域形成1个彩色像素，由这些彩色像素能 够进行彩色显示。
以下使用图18，对有机EL装置600的截面结构进行说明。
图18是图17中A—A，截面图(设在图11中显示区域4内的像素 区域71截面构成图)。在有机EL装置600的像素区域71内，在具有玻 璃等透光性的基板主体10A上，设有包括TFTlla、 lib和扫描线131、 信号线132、电源线133等各种配线的电路元件部11，进而在通过覆盖 该电路元件部11而形成层间绝缘膜12的基板主体10A上形成滤色片层 13。滤色片层13由蓝色滤色片14B形成，在这些滤色片14B之间，根据 需要，配置有由黑色树脂等形成的遮光层(黑色基质)。在滤色片和滤色 片之间配置围堰层141 (滤色片用围堰层)，以该围堰层141区分的形式， 在各个像素区域71内配置着滤色片14。
在滤色片14上形成有机EL元件P。有机EL元件P具备的构成是， 将设置在由基板主体10A上直立设围堰层16 (发光功能层用围堰层)围 成的划分区域内的发光功能层E或发光功能层ER或发光功能层EG作为 主体，使该发光功能层E或发光功能层ER或发光功能层EG'夹持在阳极 15和阴极19之间。该有机EL元件P的构成是在阳极15的平面区域内， 形成平坦面的区域上，形成包括发光层18或发光层18R、 18G的多个功 能层(发光功能层E或发光功能层ER或发光功能层EG)层叠，进而在 上述功能层上形成覆盖围堰层16的阴极19。这些包括多个功能层的发光 功能层E、 ER、 EG，覆盖住阳极15，并形成在围堰16的内侧。
本实施方式的有机EL装置600,是从基板主体10A侧取出发光的底
33部发射型的，所以阳极15由ITO (铟锡氧化物)等透光性导电材料形成。
阳极15通过层间绝缘膜15上形成的未图示的接触孔，与电路元件部11 的TFTlla (漏电极部136)电连接。阴极19以覆盖发光功能层E、 ER、 EG和围堰层16上面的状态，形成在基板主体10A上，作为该阴极19， 可以使用Al或Ag等高反射率的金属材料。或者，也可以采用A1/IT0 等透光性材料和高反射率金属材料的层叠结构。
发光功能层E是将空穴注入/输送层(电荷输送层)17和发光层18 作为主体，根据需要，在发光层18上具有电子注入层和电子输送层，同 样，发光功能层是将空穴注入/输送层(电荷输送层)17和发光层18R 作为主体，根据需要，在发光层18R上具备电子注入层和电子输送层等。 发光功能层EG是将空穴注入/输送层(电荷输送层)17和发光层18G 作为主体，根据需要，在发光层18G上具备电子注入层或电子输送层等。 本实施方式中，红色像素区域的发光层(红色发光层)18R由红色发光材 料形成，绿色像素区域的发光层(绿色发光层)18G由绿色发光材料形 成，除此之外的蓝色像素区域发光层(白色发光层)18由白色发光材料 形成。在上述的第5种实施方式中，对于获得足够寿命特性的红色，只 由使用红色发光材料的红色发光层显色，对于除此之外的绿色和蓝色， 采用并用白色发光层和滤色片的结构。本实施方式中，蓝色和绿色中， 对于获得更好寿命特性的绿色，采用和红色同枰的构成，即，对于未获 得足够寿命特性的蓝色，并用白色发光层18和滤色片14，对于获得足够 寿命特性的红色和对于获得某种良好寿命特性的绿色，分别只使用红色 发光层18R和绿色发光层18G，就可以实现彩色化。但是，在该构成中， 在红色像素区域形成的红色发光层18R、绿色像素区域形成的绿色发光层 18G、和蓝色像素区域形成的白色发光层18之间，由于发光亮度(对于 蓝色像素区域，透过滤色片14B后的发光亮度)或寿命等存在不同的情 况，所以在本实施方式中，考虑到这些因素，适当地调节了发光层18R， 18G、 18B的大小。具体是发光亮度大的红色发光层18R最好形成为最小 的尺寸，发光亮度次之大的绿色发光层18G形成为次之小的尺寸，发光 亮度最小的白色发光层(透过滤色片14B后的)形成为最大的尺寸。如 此可以保持良好的R、 G、 B的色平衡。而且，对于以形成空穴注入/输送层17的材料和形成发光层18、 18R的材料，可以使用上述公知的材料。
在阴极19的上层侧形成有密封材料20，密封材料20的材料、形状、 大小、形成范围等，和第4种实施方式同样。
本实施方式的有机EL装置600，可以由和第4种实施方式的方法同 样的方法制造，即有机EL显示装置600的制造方法，例如具有(1)形 成滤色片的工序、(2)形成阳极的工序、(3)形成发光功能层的工序、 和(4)形成阴极的工序、及密封工序，形成滤色片14的工序和形成发 光功能层的工序，使用喷墨法等液滴喷出法进行。关于详细工序和第4 种实施方式同样，所以在此省略说明。
如以上说明，在本实施方式中，对于未获得足够寿命特性的蓝色， 并用白色发光层和滤色片，对于获得较好寿命特性的红色和绿色，省略 了滤色片，通过只使用红色发光层或绿色发光层，就可以实现彩色显示。 由此，任何一种色都获得了良好的寿命特性。关于红色和绿色，由于没 有用滤色片吸收的光成分，所以提高了光利用效率，并能降低驱动电流。
以上虽然参照图17、图18，对本发明的最佳实施方式例作了说明， 但本发明不受该例限定是当然的。上述例中示出的各构成部件的诸种形 状和组合等就是一例。例如，本实施方式中，虽然有机EL装置600采用 了底部发射型的结构，但也可以如图14所示，将滤色片14配置在发光 层18的上层侧(与基体主体10A相对侧)，进而变更阴极19等的材料， 形成顶部发射型的结构，本实施方式中，虽然省略了红色像素区域和绿 色像素区域的滤色片，但也可不必省略滤色片，与发红色光的红色发光 层18R重复设置红色滤色片14R，或者也可以与发绿色光的绿色发光层 18G重复设置绿色滤色片14G。这种情况下，红色和绿色产生若干光吸收， 但由于增加了该分色的纯度，所以获得良好的颜色再现性。
本实施方式中，考虑到各色发光层的寿命等，调节了发光层的尺寸， 这样的考虑也可以适用于第5种实施方式。即，在第5种实施方式的构 成中，在红色像素区域形成的红色发光层18R和蓝色像素和绿色像素区 域形成的白色发光层18之间，发光亮度(对于蓝色像素区域和绿色像素 区域，透过滤色片14G、 14B后的发光亮度)和寿命存在不同时，最好调 节这些发光层18R、 18的尺寸，例如，通过使发光亮度大的红色发光层
3518R的尺寸小于白色发光层18的尺寸，可以保持良好的R、 G、 B色平衡。
本实施方式中，通过不改变R、 G、 B的像素区域面积，而改变发光 层在各像素区域内占有的面积比率，调节色平衡，但本发明并不限于此。 例如，如图19所示，通过不改变发光层占有的面积比率，而改变R、 G、 B的像素区域尺寸(例如，间距)，也可以调节色平衡。图19中所示的有 机EL装置600'，对于R、 G、 B的各像素，发光层在像素区域内占有的 面积比率相等，其构成是像素区域的间距(扫描线131的延长方向中的 宽度)，按照R、 G、 B的顺序增大。对于除此之外的构成，和上述有机 EL装置600同样，根据该构成，既保持良好的R、 G、 B的亮度平衡， 又能极力减小不贡献发光(即未配置发光层)的浪费区域。
电子仪器
以下对具备上述有机EL装置的电子仪器实例进行说明。 图20是移动电话机的一例立体图。图20中，符号1000表示移动电 话机主体，符号1001表示使用了上述有机EL装置的显示部。这种电子 仪器的显示部中使用了上述实施方式的有机EL装置，所以能廉价提供具 有高性能显示部分的电子仪器。
本发明并不限定于上述实施方式，在不超出本发明宗旨的范围内， 可以进行种种变形而实施。例如，上述实施方式中示出的元件基板等的 结构只是一例，也能够采用除此之外的构成。上述实施方式中，虽然将 本发明的有机EL装置作为显示装置实例示出，除此之外，本发明也可适 用于其他的用途，例如，液晶显示装置的光源用有机EL装置、和光书写 型激光打印机和光通讯中使用的光源等。
3权利要求
1. 一种有机EL装置，具有多个像素，特征在于，所述多个像素的每一个包括设置在基板上的阳极；在与所述阳极对应的位置上具有第1开口部的围堰层；设置在所述第1开口部的发光功能层；设置在所述围堰层和所述发光功能层之上的阴极；以及与所述发光功能层对应而设置为岛状的滤色片，形成所述滤色片的区域被形成为比所述第1开口部宽。
2. 根据权利要求1所述的有机EL装置，其特征在于，还包括具有第 2开口部的滤色片用围堰层，所述滤色片被设置在所述第2开口部内， 所述第2开口部被形成为比所述第1开口部宽。
3. 根据权利要求2所述的有机EL装置，其特征在于，在俯视时，所 述第1开口部被配置在所述第2开口部的内侧。
4. 根据权利要求1 3的任何一项所述的有机EL装置，其特征在于， 所述滤色片被设置在所述基板和所述阳极之间。
5. 根据权利要求4所述的有机EL装置，其特征在于，在所述滤色片 和所述阳极之间形成了无机绝缘膜。
6. 根据权利要求5所述的有机EL装置，其特征在于，还包括 设置在所述基板和所述无机绝缘膜之间的电路元件部；和 设置在所述滤色片和所述电路元件部之间的层间绝缘膜， 对于滤色片用围堰层，在与所述电路元件部对应的位置上设置了第3开口部，在所述第3开口部内，经由设置在所述层间绝缘膜和所述无机绝缘 膜的第4开口部，所述阳极和所述电路元件部被连接。
7. 根据权利要求1 3的任何一项所述的有机EL装置，其特征在于， 还具有设置在所述阴极上的保护膜，所述滤色片被设置在所述保护膜之上。
8. 根据权利要求7所述的有机EL装置，其特征在于，所述保护膜具有无机氧化物层和有机层。
9. 根据权利要求1 3的任一项所述的有机EL装置，其特征在于， 还具有对向基板，所述滤色片被设置在所述对向基板上， 所述基板和所述对向基板经由粘接层被贴合而构成。
10. —种有机EL装置的制造方法，是具有多个像素的有机EL装置的 制造方法，特征在于，包括形成具有与所述多个像素的每一个对应的第1开口部的滤色片用围 堰层的工序；在所述第1开口部内形成滤色片的工序；与所述多个像素的每一个对应而将阳极形成在所述滤色片之上的工序；在与所述阳极对应的位置上形成具有比所述第1幵口部宽的第2开 口部的围堰层的工序；在所述第2开口部内形成发光功能层的工序；以及 在所述发光功能层上形成阴极的工序。
11.—种有机EL装置的制造方法，是具有多个像素、并在所述多个像 素的每一个上具有电路元件部的有机EL装置的制造方法，特征在于，包 括在所述电路元件部之上形成层间绝缘膜的工序； 形成具有与所述多个像素的每一个对应的第1开口部和设置在与所 述电路元件部对应的位置上的第2开口部的滤色片围堰层的工序； 在所述第1开口部内形成滤色片的工序；形成无机绝缘膜使得覆盖所述滤色片围堰层及所述滤色片的表面、 和所述第2开口部的内面的工序；在与所述第2开口部对应的位置，蚀刻所述无机绝缘膜和所述层间绝缘膜，形成通到所述电路元件部的第3开口部的工序；与所述多个像素的每一个对应而将阳极形成在所述第3开口部和所 述无机绝缘膜之上的工序；在与所述阳极对应的位置上形成具有比所述第1开口部宽的第4开口部的围堰层的工序；在所述第4开口部内形成发光功能层的工序；以及 在所述发光功能层上形成阴极的工序。
12.—种电子仪器，其特征在于，包括权利要求1 9的任何一项所 述的有机EL装置。
全文摘要
本发明提供一种通过材料的有效利用，以降低制造成本的有机EL装置的制造方法。在具有白色发光层(18)和滤色片(14R、14G、14B)的有机EL装置(100)的制造方法中，通过液滴喷出法形成白色发光层(18)。不仅白色发光层(18)，滤色片(14R、14G、14B)也是通过液滴喷出法形成，进而减少材料浪费，缩短工序时间。
文档编号H05B33/12GK101452949SQ20091000133
公开日2009年6月10日 申请日期2004年10月15日 优先权日2003年10月23日
发明者小林英和 申请人:精工爱普生株式会社