中子屏蔽材料及制备工艺的制作方法与工艺

文档序号:12041974阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种中子屏蔽材料,其包含:超高分子量聚乙烯、至少一种硼化合物、和至少一种硬脂酸或其盐;超高分子量聚乙烯100重量份、硼化合物12-50重量份、和硬脂酸或其盐1-5重量份;所述硼化合物选自硼酐和硼砂的组合;中子屏蔽材料的密度为0.5~4g/cm3。2.权利要求1的中子屏蔽材料,其中所述硬脂酸盐是ⅡB或Ⅱa族元素与硬脂酸形成的盐。3.权利要求1或2所述的中子屏蔽材料,其中还包括一种或多种选自下列的材料:重金属材料、其它类型的硼化合物、防霉剂、阻燃剂、偶联剂。4.制备权利要求1-3任一项所述中子屏蔽材料的方法,其包括以下步骤:(a)根据配料比分别称取超高分子量聚乙烯、硼化合物、硬脂酸或其盐(b)在搅拌机中将步骤(a)各成分混炼、搅拌均匀;(c)将步骤(b)所得混合料加热到100~200℃,挤压成熔融状,再置于模具中,加压成型,加压冷却,脱膜,即得;或者将步骤(b)所得混合料直接置于模具中,加热到200~250℃,加压成型,加压冷却,脱膜,即得。
当前第2页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1