1.一种紫外光照射装置，其具备：
具有主面的第1基体；
位于所述第1基体的所述主面的多个电极；
覆盖所述多个电极的电介质层；
与所述电介质层相向配置且包含透过紫外光的材料的第2基体；
以在所述第1基体与所述第2基体之间形成密闭的放电空间的方式将所述第1基体与所述第2基体接合、并将所述放电空间与所述第1基体以及所述第2基体一起封住的密封材料；
位于所述电介质层的上方和/或所述第2基体的所述放电空间侧的面的上方、并接受在所述放电空间内产生的激发光而发出紫外光的发光层；和
设置在所述第2基体的与所述放电空间侧相反侧的面的上方的反应槽，
所述反应槽具备：筒状结构体、将从所述反应槽的外部流入的流体导向所述筒状结构体的内部的导入通路、和将从所述筒状结构体的内部流出的流体导向所述反应槽的外部的导出通路，
将所述筒状结构体的内部的底面的内切圆的直径设为ha、将所述筒状结构体的内部的高度设为hc时，ha/hc为5以上且10以下。
2.根据权利要求1所述的紫外光照射装置，其中，所述导入通路以及所述导出通路相对于所述筒状结构的中心部位于体对角。
3.根据权利要求1所述的紫外光照射装置，其中，
所述筒状结构体使所述导入通路导向到该筒状结构体的内部的所述流体旋转，
所述反应槽进一步具备使在所述筒状结构体的内部旋转的流体流出到所述导出通路的锥状结构体。
4.根据权利要求3所述的紫外光照射装置，其中，所述筒状结构体具有方筒结构，且在角部具有曲面的内壁。
5.根据权利要求3所述的紫外光照射装置，其中，进一步具备设置在所述第2基体与所述反应槽之间、且吸收或反射波长为200nm以下的光的80％以上的紫外光滤波器。
6.根据权利要求3所述的紫外光照射装置，其中，所述第2基体为吸收或反射波长为200nm以下的光的80％以上的紫外光滤波器。
7.根据权利要求3所述的紫外光照射装置，其中，所述发光层为在200nm至300nm之间具有发光强度的峰的氧化镁的粉末。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的紫外光照射装置，其中，所述发光层位于所述电介质层的所述放电空间侧的面的上方。