一种具有新型高分子纳米层聚氯乙烯自粘防水卷材的制作方法

文档序号:12981231阅读:909来源:国知局
一种具有新型高分子纳米层聚氯乙烯自粘防水卷材的制作方法与工艺

本实用新型涉及防水卷材加工领域,确切地说是一种具有新型高分子纳米层聚氯乙烯自粘防水卷材。



背景技术:

防水卷材是建筑施工中常用的一种建筑材料,在道路桥梁、屋顶或其它需要防水的建筑物的施工中,均需要预先铺制防水卷材。普通的防水卷材在施工时需要首先做基层处理,要求基层坚实、平整,无积水,基层的含水率必须较低,或者涂刷基层处理剂。最常使用的施工方法是热熔法,操作时需要将防水卷材采用热熔喷枪或热熔沥青车等专用热熔工具烘烤防水卷材的下表面及基层表面,使卷材表面的沥青发亮至熔融状态时,边烘烤边滚铺卷材,然后用压辊滚压,使其与基层或卷材粘结牢固。这种铺装方法工序复杂,施工速度慢,铺设的质量差,而且防水材料表层容易易老化,反光效果差,吸热高,老化后破损干裂严重,影响产品使用寿命。



技术实现要素:

本实用新型要解决的技术问题是这种铺装方法工序复杂,施工速度慢,铺设的质量差,而且防水材料表层容易易老化,反光效果差,吸热高,老化后破损干裂严重,影响产品使用寿命。

为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术手段:

一种具有新型高分子纳米层聚氯乙烯自粘防水卷材,包括防水卷材本体;防水卷材本体为分层结构,防水卷材本体设有高分子纳米层、防老化层、氯化聚乙烯基材层、增强层、粘接层、隔离层,防水卷材本体一侧的外层是高分子纳米层,防水卷材本体另一侧的外层是隔离层,与高分子纳米层相邻的是防老化层,防老化层另一侧连接第一氯化聚乙烯基材层,与隔离层相邻的是粘接层,粘接层另一侧连接第二氯化聚乙烯基材层,第一氯化聚乙烯基材层和第二氯化聚乙烯基材层中间设有增强层,所述的高分子纳米层为分层结构,高分子纳米层两侧设有纳米薄膜,两层纳米薄膜中间设有苯并三唑橡胶层。

作为优选,本实用新型更进一步的技术方案是:

所述的两层纳米薄膜分别是设置在苯并三唑橡胶层两侧的外层纳米薄膜和内侧纳米薄膜。

所述的防水卷材本体在卷起的情况下中间设有一个限位的支撑架。

所述的增强层为树脂纤维编织而成。

所述的防老化层为二氧乙烷橡胶层。

高分子自粘防水卷材是以树脂类高分子(HDPE、EVA、EVB、PVC)为主体防水材料,通过表面附着自粘胶料的高分子自粘防水卷材。根据选材不同具有如下特点:1、高密度聚乙烯(HDPE):是一种由乙烯共聚生成的热塑性聚烯烃。它集强度、伸长、撕裂、抗穿刺、抗渗透、抗高低温、防水蒸气、耐腐蚀和环保性均优越为一体的树脂类高分子材料,是目前高分子材料中最好的一种。2、乙烯-醋酸乙烯共聚物(EVA):是由乙烯(E)和乙酸乙烯(VA)共聚而制得。具有良好的柔软性,橡胶般的弹性,在-50℃下仍能够具有较好的可挠性,化学稳定性良好,抗老化和耐臭氧强度好,无毒、不吸水。3、乙烯乙酸乙烯改性沥青共混(ECB):制作采用二段挤出,三辊压延生产工艺。材料具有优良的耐候性、耐久性、坚韧性、电绝缘性、延伸率高、抗穿透力强等特点。4、聚氯乙烯(PVC):力学性能,电性能优良,耐酸碱力极强,化学稳定性好等特点。本实用新型通过设置高分子纳米层,提高产品表面反光效果,提高产品质量性能,增强耐久度,增加使用寿命。

附图说明

图1为本实用新型高分子纳米层的一种具体实施方式的结构示意图。

图2为本实用新型的具体实施方式的结构示意图。

图3为本实用新型的自粘防水卷材一种结构示意图。

附图标记说明:1-隔离层;2-粘接层;3-第一氯化聚乙烯基材层;4-高分子纳米层;5-防老化层;6-增强层;7-第二氯化聚乙烯基材层;8-苯并三唑橡胶层;9-纳米薄膜。

具体实施方式

下面结合实施例,进一步说明本实用新型。

参见图1、图2、图3可知,本实用新型一种具有新型高分子纳米层4聚氯乙烯自粘防水卷材,由防水卷材本体;防水卷材本体为分层结构,防水卷材本体设有高分子纳米层4、防 老化层5、氯化聚乙烯基材层、增强层6、粘接层2、隔离层1组成,防水卷材本体一侧的外层是高分子纳米层4,防水卷材本体另一侧的外层是隔离层1,与高分子纳米层4相邻的是防老化层5,防老化层5另一侧连接第一氯化聚乙烯基材层3,与隔离层1相邻的是粘接层2,粘接层2另一侧连接第二氯化聚乙烯基材层7,第一氯化聚乙烯基材层3和第二氯化聚乙烯基材层7中间设有增强层6,所述的高分子纳米层4为分层结构,高分子纳米层4两侧设有纳米薄膜9,两层纳米薄膜9中间设有苯并三唑橡胶层8,两层纳米薄膜9分别是设置在苯并三唑橡胶层8两侧的外层纳米薄膜和内侧纳米薄膜,防水卷材本体在卷起的情况下中间设有一个限位的支撑架,增强层6为树脂纤维编织而成,老化层为二氧乙烷橡胶层。

由于以上所述仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护不限于此,任何本技术领域的技术人员所能想到本技术方案技术特征的等同的变化或替代,都涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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