X射线吸收光栅制作方法及其X射线吸收光栅与流程

文档序号:17748491发布日期:2019-05-24 20:48阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种X射线吸收光栅制作方法及其X射线吸收光栅,制作方法包括步骤:在基底上制作光栅槽或光栅孔,形成光栅槽阵列或光栅孔阵列;有机溶剂、水、表面活性剂清洗基底;金属纳米颗粒加入挥发性溶剂和表面活性剂,制得悬浊液;真空下,将金属纳米颗粒悬浊液填充至光栅微结构中,且金属纳米颗粒沉降填满光栅槽或光栅孔;检测,如填充不均匀或者光栅微结构内没有布满金属纳米颗粒,继续填充;清洗基底表面的金属纳米颗粒。吸收光栅包括基底,基底上设有光栅槽阵列或光栅孔阵列,光栅槽或光栅孔填满金属纳米颗粒。本发明的吸收光栅与熔融金属材料制成的光栅性能相差无几,且制作方法简单、门槛低、成本低廉,便于在普通实验室操作及实现。

技术研发人员:李冀;雷耀虎;黄建衡;刘鑫
受保护的技术使用者:深圳大学
技术研发日:2018.12.29
技术公布日:2019.05.24
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