专利名称：钕铁硼气流磨粒度分布改善装置的制作方法
技术领域：
本实用新型属于钕铁硼材料制粉用机械设备领域，具体涉及一种钕铁硼气流磨粒
度改善装置。
背景技术：
现有气流磨由于设备本身的局限，侧气路和主气路相互连通，从而使粉料的粒度分布指标D10为1. 5 ii m-l. 7 ii m左右，粒度分布指标D90为13 y m_15 y m左右，粒度分布指标D10太小，则超细粉较多，则容易发生氧化现象，导致磁性能降低，粒度分布指标D90太大，则容易在烧结过程中，使晶粒异常长大，从而破坏磁体的微观组织结构。
发明内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种钕铁硼气流磨粒度分布改善装置，主要是对气流磨进行改造，通过阀门控制超音速气流来实现线性变化，改善粒度分布，使粒度分布尽可能接近正态分布，达到改善钕铁硼磁体内在品质的目的。 本实用新型的技术方案一种钕铁硼气流磨粒度分布改善装置，它包括磨室1、右管2、主管3、左管4、右阀5、底阀6和左阀7，在磨室1的两侧面分别设置有左管4、右管2，左管4上设置有左阀7，右管2上设置有右阀5，在磨室的正下部设置有主管3，在主管3上设置有底阀6。 本实用新型与现有技术相比具有以下有益效果本实用新型对气流磨进行了改造，通过阀门控制超音速气流来实现线性变化，使D10提高到1. 9 ii m-2. 2 y m，使D90减少到9 ii m-ll ii m，改善了粒度分布，从而改善磁体的微观组织与磁体内在品质的目的。
图1为本实用新型的结构示意具体实施方式—种钕铁硼气流磨粒度分布改善装置，它包括磨室1、右管2、主管3、左管4、右阀5、底阀6和左阀7，在磨室1的两侧面分别设置有左管4、右管2，左管4上设置有左阀7，右管2上设置有右阀5，在磨室的正下部设置有主管3，在主管3上设置有底阀6。[0008] 工作过程 在磨室1内，在原来的左管2、右管4和底管3上，分别装上三个阀，分别为右阀5、底阀6、左阀7，通过调节右阀5、底阀6、左阀7来使对应的超音速气流8、9、10的交汇点11实现线性变化，通过交汇点11的变化达到改善粒度分布的目的。
权利要求一种钕铁硼气流磨粒度分布改善装置，它包括磨室(1)、右管(2)、主管(3)、左管(4)、右阀(5)、底阀(6)和左阀(7)，其特征是在磨室(1)的两侧面分别设置有左管(4)和右管(2)，左管(4)上设置有左阀(7)，右管(2)上设置有右阀(5)，在磨室的正下部设置有主管(3)，在主管(3)上设置有底阀(6)。
专利摘要本实用新型涉及一种钕铁硼气流磨粒度分布改善装置，它包括磨室(1)、右管(2)、主管(3)、左管(4)、右阀(5)、底阀(6)和左阀(7)，在磨室(1)的两侧面分别设置有左管(4)、右管(2)，左管(4)上设置有左阀(7)，右管(2)上设置有右阀(5)，在磨室的正下部设置有主管(3)，在主管(3)上设置有底阀(6)。本实用新型通过对气流磨进行改造，使D10提高到1.9μm-2.2μm，使D90减少到9μm-11μm，改善了粒度分布，从而改善磁体的微观组织与磁体内在品质的目的。
文档编号B02C19/06GK201510918SQ200920103168
公开日2010年6月23日 申请日期2009年6月2日 优先权日2009年6月2日
发明者刘兴民, 吴定宇, 周唤勇, 梁永新, 荆计生, 贾建伟, 贾建华, 马跃华 申请人:山西京宇天成科技有限公司