水稻根系平面培养装置及方法
【专利摘要】本发明涉及试验材料培养【技术领域】，具体来说是一种水稻根系平面培养装置及方法，该装置包括底座、设于底座上的数块支架板、设于支架板之间的连动杆和用于控制支架板倾斜角度的支撑杆，底座一边上设有配合支撑杆连接用于控制支架板倾斜角度的限位槽，底座与支架板之间通过转轴连接，支架板与连动杆之间通过固定轴连接；培养方法包括：A、培养基的准备；B、种子的准备；C、培养装置支架板倾斜角度的调整；D、萌芽种子的移栽；E、根系培养；在本发明的技术方案中，利用本装置调节合适培养角度，使根系斜面培养，从而达到根系生长在培养基表面，不仅能随时有效观测根系的动态生长，而且不影响幼苗的生长，为根系的研究带来便利。
【专利说明】水稻根系平面培养装置及方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及试验材料培养【技术领域】，具体来说是一种水稻根系平面培养装置及利用该装置进行水稻根系平面培养方法。
【背景技术】
[0002]根系是植物与土壤的动态界面，它不仅具有吸收养分和水分的功能，同时根系的生长和周转直接影响着陆地生态系统中碳、氮的生物地球化学循环。虽然，根系在陆地生态系统中占有十分重要的地位，但是由于根系生长在土壤中，我们很难掌握根系的真实生长状况，所以根系研究方法一直限制根系研究发展的瓶颈。因此，根系研究方法的探索始终是根系研究工作者努力的一个重要方面。现有研究根系方法是采用将根系连同土壤一起挖掘出来，再将土壤清洗，取出根系。这种方法很难获得全量根系，根系的结构和形态也容易破坏，而且需要花费大量的人力和物力，根系数据的可靠性和真实性较差。
[0003]目前，在进行无菌培养观察水稻根系时，一般是将植物种植在培养基上，植物根系下扎在培养基中；在动态测量根系的长度时，无法利用扫描仪对根系进行扫描分析。即使从不同角度分析也会对实验数据产生影响，且费时费力。
【发明内容】
[0004]本发明的目的是针对上述技术存在的问题，提供一种水稻根系平面培养装置及方法，根系生长在培养基的表面，培养基透明，根系生长结构和形态真实，便于拍照和根系扫描，还便于根系生长的动态观察，该方法成本低，使用灵活方便。
[0005]为实现上述目的，本发明采用的技术方案是:一种水稻根系平面培养装置，包括底座、设于底座上的数块支架板、设于支架板之间的连动杆和用于控制支架板倾斜角度的支撑杆，所述底座一边上设有配合支撑杆连接用于控制支架板倾斜角度的限位槽，所述底座与支架板之间通过转轴连接，所述支架板与连动杆之间通过固定轴连接。
[0006]进一步的，所 述支架板呈L状。
[0007]进一步的，数块所述支架板之间为等距设置。
[0008]本发明的另一目的是提供一种水稻根系平面培养方法，包括如下步骤:
[0009]A、培养基的准备:配制重量比为0.8%的琼脂，高压灭菌后，倒入培养皿中，使琼脂培养基的厚度达到4~6mm，得到透明的琼脂培养基；
[0010]B、种子的准备:将水稻种子先剥去外壳，用质量浓度为30%的H2O2消毒15min,再用蒸馏水彻底清洗干净，然后将种子播于含有琼脂培养基的培养皿中；
[0011]C、培养装置支架板倾斜角度的调整:调节培养装置上的支撑杆，到适合水稻根系培养的角度，然后将培养皿放置到支架板上；
[0012]D、萌芽种子的移栽:在无菌环境中，用无菌镊子将根已长至2~4mm的萌芽种子移栽到琼脂培养基厚度为4~6mm的培养皿中，距离培养皿上端3cm，种子胚根向下，加盖密封；[0013]E、根系培养:将培养皿重新放置在已经调好角度的培养支架板上，置于光照培养装置中培养；期间如有需要可以重新调整或校准培养支架，已达到试验所需的要求；此外，其温度设置为白天28 °C，夜间22 °C，光照时间为16h，黑暗8h，光照强度为IOOymol.m_2.s—1 ;培养时间是根据观察到的水稻根系生长状况和试验要求，合理选择。
[0014]进一步的，所述步骤D中每个培养皿中移栽2~5粒萌芽种子。
[0015]进一步的，培养皿选用有机透明塑料皿，培养皿由盖和底构成，其中盖的厚度为lcm，底的厚度为1.5cm，在使用前用IOk Gy60Co Y射线灭菌24h。
[0016]本发明的有益技术效果:在本发明的技术方案中，利用本装置调节合适培养角度，使根系斜面培养，从而达到根系生长在培养基表面，不仅能随时有效观测根系的动态生长，而且不影响幼苗的生长，为根系的研究带来便利。
【专利附图】
【附图说明】
[0017]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。 [0018]图1是本发明培养装置的结构示意图；
[0019]图2是本发明装置进行水稻根系平面培养的结构示意图；
[0020]图中:I底座；2支架板；3连动杆；4支撑杆；5转轴；6固定轴；7限位槽。
【具体实施方式】
[0021]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0022]实施实例I
[0023]如图1所不一种水稻根系平面培养装置,包括底座1、设于底座I上的7块支架板
2、设于支架板2之间的连动杆3和用于控制支架板2倾斜角度的支撑杆4 ;支架板2之间设有连动杆3的作用是方便所有支架板2之间倾斜角度的控制，在实际使用时无需每块支架板2单独调整角度，通过支撑杆4和连动杆3的连动作用，实现所有支架板2的倾斜角度的统一调整；底座I 一边上设有配合支撑杆4连接用于控制支架板2倾斜角度的限位槽7，在实际使用时，可通过支撑杆4在限位槽7的位置来控制支架板2的倾斜角度；底座I与支架板2之间通过转轴5连接，采用转轴5连接方便角度的调整，支架板2与连动杆3之间通过固定轴6连接。
[0024]其中，支架板2呈L状，L状的支架板2可保证支架板2只能沿一边进行倾斜角度调整，避免操作失误出现的培养皿掉落现象。
[0025]其中，7块支架板2为等距设置。
[0026]如图2所示，利用上述装置进行水稻根系平面培养方法，包括如下步骤:
[0027]A、培养基的准备:配制重量比为0.8%的琼脂，高压灭菌后，倒入培养皿中，使琼脂培养基的厚度达到4~6mm，得到透明的琼脂培养基；
[0028] B、种子的准备:将水稻种子先剥去外壳，用质量浓度为30%的H202消毒15min,再用蒸馏水彻底清洗干净，然后将种子播于含有琼脂培养基的培养皿中；
[0029]C、培养装置支架板倾斜角度的调整:调节培养装置上的支撑杆，到适合水稻根系培养的角度，然后将培养皿放置到支架板上；
[0030]D、萌芽种子的移栽:在无菌环境中，用无菌镊子将根已长至2~4mm的萌芽种子移栽到厚度为4~6mm的培养皿中,距离培养皿上端3cm,种子胚根向下,加盖密封,每个培养皿中移栽2~5粒萌芽种子；
[0031]E、根系培养:将培养皿重新放置在已经调好角度的培养支架板上，置于光照培养装置中培养；
[0032]培养中，培养皿选用有机透明塑料皿，由盖和底构成，其中盖的厚度为1cm，底的厚度为1.5cm，在使用前用IOk Gy60Co Y射线灭菌24h。以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在
[0033]本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1.水稻根系平面培养装置，其特征在于，包括底座(1)、设于底座(1)上的数块支架板(2)、设于支架板(2)之间的连动杆(3)和用于控制支架板(2)倾斜角度的支撑杆(4)，所述底座(1) 一边上设有配合支撑杆(4)连接用于控制支架板(2)倾斜角度的限位槽(7)，所述底座(1)与支架板(2)之间通过转轴(5)连接，所述支架板(2)与连动杆(3)之间通过固定轴(6)连接。
2.根据权利要求1所述水稻根系平面培养装置，其特征在于，所述支架板(2)呈L状。
3.根据权利要求2所述水稻根系平面培养装置，其特征在于，数块所述支架板(2)之间为等距设置。
4.水稻根系平面培养方法，其特征在于，包括如下步骤: A、培养基的准备:配制重量比为0.8%的琼脂，高压灭菌后，倒入培养皿中，使琼脂培养基的厚度达到4~6mm，得到透明的琼脂培养基； B、种子的准备:将水稻种子先剥去外壳，用质量浓度为30%的H2O2消毒15min,再用蒸馏水清洗干净，然后将种子播于含有琼脂培养基的培养皿中； C、培养装置支架板倾斜角度的调整:调节培养装置上的支撑杆，到满足水稻根系培养的角度，然后将培养皿放置到支架板上； D、萌芽种子的移栽:在无菌环境中，用无菌镊子将根已长至2~4mm的萌芽种子移栽到琼脂培养基厚度为4~6mm的培养皿中,距离培养皿上端3cm,种子胚根向下,加盖密封； E、根系培养:将培养皿重新放置在已经调好角度的培养支架板上，置于光照培养装置中培养。
5.根据权利要求4所述水稻根系平面培养方法，其特征在于，所述步骤D中每个培养皿中移栽2~5粒萌芽种子。
6.根据权利要求4所述水稻根系平面培养方法，其特征在于，培养皿选用有机透明塑料皿，培养皿由盖和底构成，其中盖的厚度为1cm，底的厚度为1.5cm，在使用前用IOkGy60Co Y射线灭菌24h。
【文档编号】A01G31/06GK103947534SQ201410186579
【公开日】2014年7月30日 申请日期:2014年5月5日 优先权日:2014年5月5日
【发明者】张义凯, 朱德峰 申请人:中国水稻研究所