一种基质种植装置的制作方法

文档序号:17449795发布日期:2019-04-20 02:30阅读:239来源:国知局
一种基质种植装置的制作方法

本实用新型属于无土栽培领域,尤其涉及一种基质种植装置。



背景技术:

现有的无土种植包括水培种植和基质种植,种植方式包括水培育苗、基质育苗、水培定植栽培和基质定植栽培。现有的基质种植一般采用种植盘加托盘进行作业,该作业方式是在托盘中加入培养液,将混有基质种植植物的种子的基质铺设在种植盘上,将种植盘放入托盘中进行培养。在此方式中,当基质植物培养一段时间后,由于对培养液的吸收,使托盘中培养液浓度降低,影响基质种植植物的生长发育。



技术实现要素:

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种基质种植装置,旨在解决现有的基质种植方式,在基质种植植物培养一段时间后,培养液浓度降低,影响基质种植植物生长的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型是这样实现的,一种基质种植装置,包括:水培槽以及基质种植盘;

所述水培槽沿其长度方向的第一端开设有进液口,所述进液口安装有进液组件,所述水培槽沿其长度方向的第二端开设有出液口,所述出液口安装有出液组件;

所述水培槽内沿其长度方向设有至少一条培养液流道,培养液通过进液组件流入水培槽,流经所述培养液流道,并通过所述出液组件流出所述水培槽;

所述基质种植盘盖设于所述水培槽的顶部,放置在所述基质种植盘中的基质种植植物可吸收到所述培养液流道中的培养液。

进一步地,所述出液组件包括出液管及液位调整套管;

所述出液组件设置在所述水培槽中,所述出液管的第一端与所述出液口连接,所述出液管的第二端与所述液位调整套管的底端连接;

所述液位调整套管包括内套管及外套管,所述内套管和所述外套管可相对转动,所述内套管侧壁的上部开设有第一开口,所述内套管侧壁的下部开设有第二开口,所述外套管侧壁的上部开设有第三开口,所述外套管侧壁的下部开设有第四开口;

当需要水培槽中的培养液处于高液位时,将所述内套管和所述外套管相对转动到第一相对位置,此时所述第一开口与所述第三开口对齐,且所述第二开口与所述第四开口不对齐;当需要水培槽中的培养液处于低液位时,将所述内套管和所述外套管相对转动到第二相对位置,此时所述第二开口与所述第四开口对齐,且所述第一开口与所述第三开口不对齐。

进一步地,所述进液组件包括第一供液管、混合室及第二供液管;

所述进液组件设置在所述水培槽中,所述第一供液管的第一端与所述进液口连接,所述第一供液管的第二端与所述混合室的顶部开口连接,所述第二供液管的第一端与所述混合室的底部开口连接,所述第二供液管的第二端位于所述水培槽内。

进一步地,所述混合室的侧壁上开有至少一个进气孔,所述混合室的底部开口处安装有乱流扇,所述培养液依次通过第一供液管、混合室及第二供液管进入所述水培槽,所述培养液在流经所述乱流扇时推动所述乱流扇的扇叶旋转,使流经所述乱流扇的培养液形成乱流以增加所述培养液中的含氧量。

进一步地,所述混合室中围绕所述底部开口设有环绕状的挡水板,所述挡水板用于防止所述培养液流经所述混合室时从进气孔流出。

进一步地,所述水培槽的周缘上设有第一卡边,所述基质种植盘的周缘上设有第二卡边,当所述基质种植盘盖设于所述水培槽的顶部时,所述第一卡边与所述第二卡边卡合。

进一步地,所述基质种植盘的底部设置有透水筛孔,基质种植盘的底部内侧面铺设有无纺布,基质种植时,无纺布上铺设有基质,基质内混有基质种植植物的种子,培养液通过无纺布渗透进基质中供种子吸收。

进一步地,所述培养液流道内设置有至少一个支柱;

所述培养液流经所述培养液流道时,培养液撞击支柱形成潮涌,以增加所述培养液中的含氧量。

进一步地,所述水培槽的底板上设有导流凸位,所述导流凸位在所述水培槽中隔出多条培养液流道。

进一步地,所述基质种植盘包括多个相互拼接的子基质种植盘。

本实用新型与现有技术相比,有益效果在于:本实用新型的一种基质种植装置,包括水培槽以及基质种植盘,水培槽内沿其长度方向设有至少一条培养液流道,培养液通过进液组件流入水培槽,流经培养液流道,并通过出液组件流出水培槽,基质种植盘盖设于水培槽的顶部,放置在基质种植盘中的基质种植植物可吸收到培养液流道中的培养液。在本技术方案中,培养液通过进液组件流入水培槽,流经培养液流道后,通过出液组件流出水培槽,本技术方案通过合理控制流入水培槽的培养液的浓度,使基质种植装置中的基质种植植物始终能吸收到足够的养分,解决了现有的基质种植方式,在基质种植植物培养一段时间后,培养液浓度降低,影响基质种植植物生长的问题,提高了基质种植的效率。

附图说明

图1是本实用新型实施例的基质种植装置中水培槽与基质种植盘分开的结构示意图;

图2是本实用新型实施例的基质种植装置中水培槽的结构示意图;

图3是本实用新型实施例的基质种植装置中水培槽的另一角度的结构示意图;

图4是本实用新型实施例的基质种植装置中出液组件的结构示意图;

图5是本实用新型实施例的基质种植装置中出液组件的分解结构示意图;

图6是本实用新型实施例的基质种植装置中出液组件的另一角度的分解结构示意图;

图7是本实用新型实施例的基质种植装置中进液组件的结构示意图;

图8是本实用新型实施例的基质种植装置中进液组件的分解结构示意图。

在附图中,各附图标记表示:1、水培槽;11、进液口;12、出液口;13、第一卡边;14、支柱;15、导流凸位;2、基质种植盘;21、第二卡边;22、透水筛孔;3、进液组件;31、第一供液管;32、混合室;321、进气孔;322、乱流扇;323、挡水板;33、第二供液管;4、出液组件;41、出液管;42、液位调整套管;421、内套管;422、外套管;423、第一开口;424、第二开口;425、第三开口;426、第四开口。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

请参阅图1至图3,是本实用新型实施例提供的基质种植装置,包括:水培槽1以及基质种植盘2。

水培槽1沿其长度方向的第一端开设有进液口11,进液口11安装有进液组件3,水培槽1沿其长度方向的第二端开设有出液口12,出液口12安装有出液组件4。水培槽1内沿其长度方向设有至少一条培养液流道,培养液通过进液组件3流入水培槽1,流经培养液流道,并通过出液组件4流出水培槽1。

基质种植盘2盖设于水培槽1的顶部,放置在基质种植盘2中的基质种植植物可吸收到培养液流道中的培养液。

本实施例的培养液通过进液组件流入水培槽,流经培养液流道后,通过出液组件流出水培槽,本技术方案通过合理控制流入水培槽的培养液的浓度,使基质种植装置中的基质种植植物始终能吸收到足够的养分,解决了现有的基质种植方式,在基质种植植物培养一段时间后,培养液浓度降低,影响基质种植植物生长的问题,提高了基质种植的效率。

请参阅图4至图6,具体地,出液组件4包括出液管41及液位调整套管42。出液组件4设置在水培槽1中,出液管41的第一端与出液口12连接,出液管41的第二端与液位调整套管42的底端连接。液位调整套管42包括内套管421及外套管422,内套管421和外套管422可相对转动,内套管421侧壁的上部开设有第一开口423,内套管421侧壁的下部开设有第二开口424,外套管422侧壁的上部开设有第三开口425,外套管422侧壁的下部开设有第四开口426。

当需要水培槽1中的培养液处于高液位时,将内套管421和外套管422相对转动到第一相对位置,此时第一开口423与第三开口425对齐,且第二开口424与第四开口426不对齐,此时培养液可从第一开口423流入液位调整套管42,水培槽1中的培养液处于高液位;当需要水培槽1中的培养液处于低液位时,将内套管421和外套管422相对转动到第二相对位置,此时第二开口424与第四开口426对齐,且第一开口423与第三开口425不对齐,此时培养液可从第二开口424流入液位调整套管42,水培槽1中的培养液处于低液位。

请参阅图7和图8,具体地,进液组件3包括第一供液管31、混合室32及第二供液管33。进液组件3设置在水培槽1中,第一供液管31的第一端与进液口11连接,第一供液管31的第二端与混合室32的顶部开口连接,第二供液管33的第一端与混合室32的底部开口连接,第二供液管33的第二端位于水培槽1内。

混合室32的侧壁上开有至少一个进气孔321,混合室32的底部开口处安装有乱流扇322,培养液依次通过第一供液管31、混合室32及第二供液管33进入水培槽1,培养液在流经乱流扇322时推动乱流扇322的扇叶旋转,使流经乱流扇322的培养液形成乱流以增加培养液中的含氧量。混合室32中围绕底部开口设有环绕状的挡水板323,挡水板323用于防止培养液流经混合室32时从进气孔321流出。

进一步地,水培槽1的周缘上设有第一卡边13,基质种植盘2的周缘上设有第二卡边21,当基质种植盘2盖设于水培槽1的顶部时,第一卡边13与第二卡边21卡合。基质种植盘2的底部设置有透水筛孔22,基质种植盘2的底部内侧面铺设有无纺布,基质种植时,无纺布上铺设有基质,基质内混有基质种植植物的种子,培养液通过无纺布渗透进基质中供种子吸收。

进一步地,培养液流道内设置有至少一个支柱14。培养液流经培养液流道时,培养液撞击支柱14形成潮涌,以增加培养液中的含氧量。优选地,基质种植盘2可包括多个相互拼接的子基质种植盘,支柱14还用于支撑子基质种植盘。水培槽1的底板上设有导流凸位15,导流凸位15在水培槽1中隔出多条培养液流道。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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