足部稳定装置的制造方法
【专利摘要】本发明为一种足部稳定装置，其可以为鞋垫本体或鞋底本体，并且鞋垫本体上或是鞋底本体的足底接触面上自前端向后端依序具有脚趾对应部、脚掌对应部、足弓对应部及足跟对应部，用以分别与使用者足部的脚趾、脚掌、足弓及足跟对应。本发明的特征在于：在脚趾对应部的后端中央处至脚掌对应部的中间处纵向形成减少受力结构，可用以减少使用者足部在减少受力结构处的接触力量，并且稳定足部以避免足部向前或是左右滑动。
【专利说明】
足部稳疋装置
技术领域
[0001]本发明为一种足部稳定装置，特别为一种利用减少受力结构减少足部接触力量的足部稳走装置。
【背景技术】
[0002]人体的足部是由26跟骨头及33个关节所组成，在这些骨头及关节周围更是由超过100条肌肉、肌腱、韧带、血管、神经、肌肤与软组织所包覆。无论是站立或是行走时，整个足部的运作工程都非常浩大。
[0003]由于足部主要是用来支撑人体骨骼、肌肉整体重量的结构，并且人体身上的肌肉与骨骼又是彼此相互交错作用，当足部结构出现问题时，会同时连带影响到膝盖、骨盘，严重时甚至会使脊椎也跟着产生歪斜，更可能从骨骼结构而影响到脏器的功能。为解决并避免上述问题，足部医学已开始逐渐被受到重视。
[0004]在国际足部医学中，常利用鞋垫作为足部辅具，来矫正并处理足部发生的问题。然而现有的辅助鞋垫大都是根据人体足弓三点力学作为设计原理，使得足部足弓的横足弓、内侧足弓及外侧足弓达到三点受力的平衡。虽然现有鞋垫有各式各样的设计，但是即便在三点力学的三个支撑点-即第一跖骨处、第五跖骨处及足跟处进行凸起或凹陷的设计，又或是使用足跟杯的设计试图包覆并稳定足部。然而在长时间行走后，足部仍旧会因为肌肉疲累，使得足部与鞋垫的接触位置会产生位移，使得足部会在鞋垫上滑动，反而使得足部发生不稳定的现象。
[0005]再加上足部的第二趾骨与第二跖骨及第三趾骨与第三跖骨附近的部份一般来说较其余跖骨更为凸出，若是在鞋垫上相对于此部位仍是平坦面，在步行时，其每一次与鞋垫接触时都会使得足部产生向前或左右滑动，并且破坏理想步态时的足部稳定度。
【发明内容】
[0006]本发明为一种足部稳定装置，借由在鞋垫本体或是鞋底本体的足部接触面上形成减少受力结构，可以减少使用者的足部对应于减少受力结构处的接触力量，并且稳定足部以避免足部向前或是左右滑动。
[0007]本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。本发明为一种足部稳定装置，其为鞋垫本体，鞋垫本体由鞋垫前端至鞋垫后端依序具有脚趾对应部、脚掌对应部、足弓对应部及足跟对应部，其特征在于鞋垫本体具有减少受力结构，且减少受力结构是由脚趾对应部的后端中央处纵向延伸至脚掌对应部的中间处。
[0008]本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
[0009]前述的足部稳定装置，其中该减少受力结构的宽度为该鞋垫本体宽度的三分之一，且该减少受力结构的形状为卵圆形，该卵圆形邻近该脚趾对应部处具有渐细端部。
[0010]前述的足部稳定装置，其进一步包括辅助减少受力结构，其是位于该足弓对应部的侧端，并且沿着该鞋垫本体的边缘设置，其形状为弯月形，用以减少使用者的外侧足弓受力。
[0011 ]前述的足部稳定装置，其进一步包括第一平衡凸点，该第一平衡凸点位于该减少受力结构之区域内，并且位于该减少受力结构的对称线上。
[0012]前述的足部稳定装置，其进一步包括第二平衡凸点，该第二平衡凸点位于该减少受力结构区域的外侧并位于该对称线的延长线上。
[0013]前述的足部稳定装置，其中该减少受力结构进一步朝该足跟对应部延伸并延伸至该足弓对应部的前端，且该减少受力结构的宽度为该鞋垫本体宽度的三分之一，其形状为扁长椭圆形，该扁长椭圆形的两端分别具有渐细端部。
[0014]前述的足部稳定装置，其进一步包括第一平衡凸点及第二平衡凸点，该第一平衡凸点及该第二平衡凸点皆位于该减少受力结构区域内，且皆位于该减少受力结构的对称线上。
[0015]前述的足部稳定装置，其中该减少受力结构的长度介于8.5厘米至12厘米之间，且其宽度介于2.5厘米至4厘米之间。
[0016]前述的足部稳定装置，其进一步包括辅助减少受力结构，其是位于该足弓对应部的侧端，并且沿着该鞋垫本体的边缘设置，其形状为弯月形，用以减少使用者的外侧足弓受力。
[0017]前述的足部稳定装置，其中该减少受力结构或该辅助减少受力结构为上表面凹陷结构、下表面凹陷结构或上下表面同时凹陷结构。
[0018]前述的足部稳定装置，其中该减少受力结构或该辅助减少受力结构是由软物质所构成，该软物质的硬度小于该鞋垫本体的硬度。
[0019]本发明的目的及解决其技术问题还采用以下技术方案来实现。本发明又提供一种足部稳定装置，其为鞋底本体，鞋底本体具有足底接触面，足底接触面由鞋底前端至鞋底后端依序具有脚趾对应部、脚掌对应部、足弓对应部及足跟对应部，其特征在于足底接触面具有减少受力结构，且减少受力结构是由脚趾对应部的后端中央处纵向延伸至脚掌对应部的中间处。
[0020]本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
[0021]前述的足部稳定装置，其中该减少受力结构的宽度为该足底接触面宽度的三分之一，且该减少受力结构的形状为卵圆形，该卵圆形邻近该脚趾对应部处具有渐细端部。
[0022]前述的足部稳定装置，其进一步包括辅助减少受力结构，其是位于该足弓对应部的侧端，并且沿着该足底接触面的边缘设置，其形状为弯月形，用以减少使用者的外侧足弓受力。
[0023]前述的足部稳定装置，其进一步包括第一平衡凸点，该第一平衡凸点位于该减少受力结构之区域内，并且位于该减少受力结构的对称线上。
[0024]前述的足部稳定装置，其进一步包括第二平衡凸点，该第二平衡凸点位于该减少受力结构区域的外侧并位于该对称线的延长线上。
[0025]前述的足部稳定装置，其中该减少受力结构进一步朝该足跟对应部延伸并延伸至该足弓对应部的前端，且该减少受力结构的宽度为该足底接触面宽度的三分之一，其形状为扁长椭圆形，该扁长椭圆形的两端分别具有渐细端部。
[0026]前述的足部稳定装置，其进一步包括第一平衡凸点及第二平衡凸点，该第一平衡凸点及该第二平衡凸点皆位于该减少受力结构区域内，且皆位于该减少受力结构的对称线上。
[0027]前述的足部稳定装置，其中该减少受力结构的长度介于8.5厘米至12厘米之间，且其宽度介于2.5厘米至4厘米之间。
[0028]前述的足部稳定装置，其进一步包括辅助减少受力结构，其是位于该足弓对应部的侧端，并且沿着该足底接触面的边缘设置，其形状为弯月形，用以减少使用者的外侧足弓受力。
[0029]前述的足部稳定装置，其中该减少受力结构或该辅助减少受力结构为上表面凹陷结构。
[0030]前述的足部稳定装置，其中该减少受力结构或该辅助减少受力结构是由软物质所构成，该软物质的硬度小于该鞋底本体的硬度。
[0031 ]借由本发明的实施，至少可达到下列进步功效:
[0032]—、稳定足部的位置，避免足部向前或是左右滑动；以及
[0033]二、让使用者的步态趋近理想步态。
[0034]为了使任何熟习相关技艺者了解本发明的技术内容并据以实施，且根据本说明书所揭露的内容、专利所要求的保护范围及图式，任何熟习相关技艺者可轻易地理解本发明相关的目的及优点，因此将在实施方式中详细叙述本发明的详细特征以及优点。
【附图说明】
[0035]图1为本发明实施例的一种减少受力结构为卵圆形的足部稳定装置示意图。
[0036]图2为本发明实施例的另一种减少受力结构为卵圆形的足部稳定装置示意图。
[0037]图3为使用者足部踏放于图1或图2所示的足部稳定装置的示意图。
[0038]图4为本发明实施例的一种减少受力结构为扁长椭圆形的足部稳定装置示意图。
[0039]图5为本发明实施例的另一种减少受力结构为扁长椭圆形的足部稳定装置示意图。
[0040]图6为使用者足部踏放于图4或图5所示的足部稳定装置的示意图。
[0041 ]图7为图4所示的足部稳定装置进一步包括辅助减少受力结构的示意图。
[0042]图8为图5所示的足部稳定装置进一步包括辅助减少受力结构的示意图。
[0043]图9为使用者足部踏放于图7或图8所示的足部稳定装置的示意图。
[0044]图10为本发明实施例的一种减少受力结构为下表面凹陷结构的剖面示意图。
[0045]图11为本发明实施例的一种减少受力结构为上下表面同时凹陷结构的剖面示意图。
[0046]图12为本发明实施例的一种以软物质构成减少受力结构及辅助减少受力结构的足部稳走装置。
[0047 ]图13为沿图12中A-A剖线的剖视示意图。
[0048]图14为本发明实施例的另一种以软物质构成减少受力结构及辅助减少受力结构的足部稳定装置。
[0049 ]图15为沿图14中B-B剖线的剖视示意图。
[0050]图16为本发明实施例的一种进一步包括平衡凸点的足部稳定装置示意图。
[0051]图17为本发明实施例的另一种进一步包括平衡凸点的足部稳定装置示意图。
[0052]【主要元件符号说明】
[0053]10:鞋垫本体11:鞋底本体
[0054]111:足底接触面12a:鞋垫前端
[0055]12b:鞋底前端13a:鞋垫后端
[0056]13b:鞋底后端21:脚趾对应部
[0057]22:脚掌对应部23:足弓对应部
[0058]24:足跟对应部30、30a:减少受力结构
[0059]31:辅助减少受力结构32a、32b:渐细端部
[0060]33:对称线40:软物质
[0061 ]51:第一平衡凸点52:第二平衡凸点
【具体实施方式】
[0062]如图1及图2所示，本实施例为一种足部稳定装置，其可以为鞋垫本体10或鞋底本体110
[0063]如图1所示，由鞋垫本体10的鞋垫前端12a至鞋垫后端13a依序具有脚趾对应部21、脚掌对应部22、足弓对应部23及足跟对应部24。而如图2所示，鞋底本体11具有足底接触面111，鞋体可以沿着鞋底本体11轮廓的边缘设置以建构鞋体结构;在足底接触面111的鞋底前端12b至鞋底后端13b亦依序具有脚趾对应部21、脚掌对应部22、足弓对应部23及足跟对应部24。
[0064]如图3所示，足部可以分为前足、中足及后足三个主要部份，前述的脚趾对应部21与脚掌对应部22即对应于使用者的前足，前足由五支脚趾趾骨及连接脚趾趾骨的跖骨所组成，其中趾骨是由许多小骨头所组成，跖骨与趾骨连接以构成前脚掌。后足有七块足跟骨，这些足跟骨由韧带联系在一起，并且与五根并列的跖骨连接，主要适用来支撑使用者的体重及保持身体平衡的作用。足部的中足部份则是由具有拱型结构的足弓所组成，而足弓包括横向足弓、内侧足弓及外侧足弓，这些足弓可以吸收来自地面的反作用力、分散重量，以维持正常足部的行进时的功能。
[0065]当使用者的足部踏于鞋垫本体1或是鞋底本体11时，其脚趾便是位于脚趾对应部21上，并且使用者的跖骨则会位于脚掌对应部22上，足弓位于足弓对应部23上，而足跟便位于足跟对应部24上。
[0066]如图1至图3所示，本实施例的特征在于鞋垫本体10或鞋底本体11的接触面上形成有减少受力结构30，且减少受力结构30的位置是位于脚掌对应部22上，由脚趾对应部21的后端中央处纵向延伸至脚掌对应部22的中间处。脚趾对应部21的后端中央处即为当足部踏于鞋垫本体10或鞋底本体11时，对应于足部第二脚趾及第三脚趾之间的位置;脚掌对应部22的中间处即为当足部踏于鞋垫本体10或鞋底本体11时，对应于足部第二跖骨及第三跖骨之间的位置。
[0067]减少受力结构30的宽度为鞋垫本体10或足底接触面111宽度的三分之一，也就是将鞋垫本体10或足底接触面111在横向方向分为三等分，而减少受力结构30便是位于鞋垫本体1或足底接触面111横向方向上的中间处。减少受力结构30的形状可以为卵圆形(亦可看作三个角皆为圆角的三角形)，并且卵圆形邻近于脚趾对应部21处具有渐细端部32a，以配合人体的脚底由跖骨朝趾骨逐渐渐细的形状。借由将减少受力结构30设置于脚趾对应部21的后端中央处纵向延伸至脚掌对应部22的中间处，可以让使用者在行走落下步伐及抬起步伐时，减少第二跖骨与第三跖骨与鞋垫本体10及鞋底本体11的接触面积及接触力量，进而改善足部向前或左右滑动的干扰。
[0068]如图4至图6所示，减少受力结构30a还可进一步朝足跟对应部24延伸并延伸至足弓对应部23的前端，使其形状由卵圆形改为更为理想的扁长椭圆形，以扩大减少受力结构30a的面积；同样地，扁长椭圆形的两端分别具有渐细端部32b，且减少受力结构30a的宽度为鞋垫本体10或足底接触面111宽度的三分之一。借由减少受力结构30a的设置，可以让使用者的步态更为稳定，并降低使用者足部的第二跖骨与第三跖骨朝向趾沟位置处以及朝向足跟位置处与减少受力结构30a间的接触力量，并解决在走路时足部向前滑动的困扰。
[0069]无论是卵圆形(亦可看作三个角皆为圆角的三角形)或是扁长椭圆形都是一种细长的形状，可以配合足部骨骼长形的型态，相较于传统圆形辅助结构，可以更为有效地达到稳定足部的功效。
[0070]配合不同的鞋垫本体10或鞋底本体11的尺码，形状为扁长椭圆形的减少受力结构30的长度可以介于8.5厘米至12厘米之间或是介于8.8厘米至11.7厘米之间，且其宽度可以介于2.5厘米至4厘米之间，或是介于2.8厘米至3.7厘米之间。
[0071]如图7至图9所示，为了进一步减少使用者的外侧足弓的受力，在鞋垫本体10或鞋底本体11的足底接触面111上还可以进一步包括辅助减少受力结构31。辅助减少受力结构31位于足弓对应部23的侧端，也就是设置于相对于外侧足弓的位置。辅助减少受力结构31的形状为弯月形，并且沿着鞋垫本体10或足底接触面111的边缘设置，也就是让弯月形的短弧边沿着边缘设置。虽然图并未全部绘制出，但辅助减少受力结构31可以与卵圆形或是扁长圆形的减少受力结构30、30a任意相互选用配合。辅助减少受力结构31同样可以减少使用者足部外侧足弓与鞋垫本体10或与鞋底本体11的接触力量，并且稳定足部避免足部左右摇晃。
[0072]如之前各图式所示，前述减少受力结构30、30a或辅助减少受力结构31可以是上表面凹陷结构，而如图10及图11所示，当足部稳定装置是鞋垫本体10时，以减少受力结构30a为例，其也可为下表面凹陷结构或上下表面同时凹陷结构。虽然图未示，但是辅助减少受力结构31同样也可以是下表面凹陷结构或上下表面同时凹陷结构。主要是要减弱于减少受力结构30、30a或辅助减少受力结构31处的鞋垫本体10的结构强度，借此使足部踏放于鞋垫本体10上时，减少足部第二跖骨及第三跖骨周围的接触力量。
[0073]又如图12及图13所示，减少受力结构30a或辅助减少受力结构31也可以由软物质40所构成，并且软物质40的硬度小于鞋垫本体10或鞋底本体11的硬度。举例来说，以剖视图来看可以在减少受力结构30a或辅助减少受力结构31处移除部份鞋垫本体10后，再将软物质40填充固定于鞋垫本体10上。虽然仅以减少受力结构30a为例，但减少受力结构30同样也可由软物质所构成，以达到降低结构强度并减少接触力量的目的。
[0074]如图14及图15所示，欲在鞋底本体11上使用软物质40制作减少受力结构30、30a或辅助减少受力结构31时，可以仅移除足底接触面111上对应于减少受力结构30、30a或辅助减少受力结构31部份的鞋底本体11，再将软物质40填充固定于鞋底本体11上。
[0075]如图16所示，当减少受力结构的形状为卵圆形时，为了进一步提高足部踩踏于减少受力结构30上的稳定性，在减少受力结构30的区域内进一步设置有第一平衡凸点51。该第一平衡凸点51位于减少受力结构30的对称线33上，该对称线33即为减少受力结构30的中心线，并且减少受力结构30相对于对称线33的左右两侧大致彼此对称。其中，第一平衡凸点51的高度仍旧低于鞋垫本体10或鞋底本体11的表面高度，借此使得在减少使用者足底与鞋垫本体10或鞋底本体11的接触面积及接触力量的同时，还可以利用第一平衡凸点51达到支撑并平衡使用者足部的目的。
[0076]为了再进一步提高支撑及平衡的效果，可在减少受力结构30的区域外侧，并在脚掌对应部22内再增设第二平衡凸点52，第二平衡凸点52乃是位于对称线33的延长线上，同样地第二平衡凸点52的高度也低于鞋垫本体10或鞋底本体11的表面高度。
[0077]如图17所示，当减少受力结构30a的形状为扁长椭圆形时，也可以在减少受力结构30a的区域内设置第一平衡凸点51及第二平衡凸点52，并且第一平衡凸点51及第二平衡凸点52皆位于减少受力结构30a的对称线33上，而且第一平衡凸点51及第二平衡凸点52的高度也都低于鞋垫本体10或鞋底本体11的表面高度。同样可达到支撑并平衡使用者足部的目的。
[0078]借由本发明各实施例的实施，可以达到减少使用者足部与鞋垫本体10或鞋底本体11的接触力量，改善第二跖骨及第三跖骨周围的足部摩擦鞋垫本体10与鞋底本体11的问题，进而提高足部的稳定度。
[0079]以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明做任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种足部稳定装置，其为鞋垫本体，该鞋垫本体由鞋垫前端至鞋垫后端依序具有脚趾对应部、脚掌对应部、足弓对应部及足跟对应部，其特征在于该鞋垫本体具有减少受力结构，且该减少受力结构是由该脚趾对应部的后端中央处纵向延伸至该脚掌对应部的中间处。2.根据权利要求1所述的足部稳定装置，其特征在于:其中该减少受力结构的宽度为该鞋垫本体宽度的三分之一，且该减少受力结构的形状为卵圆形，该卵圆形邻近该脚趾对应部处具有渐细端部。3.根据权利要求2所述的足部稳定装置，其特征在于:其进一步包括辅助减少受力结构，其是位于该足弓对应部的侧端，并且沿着该鞋垫本体的边缘设置，其形状为弯月形，用以减少使用者的外侧足弓受力。4.根据权利要求2所述的足部稳定装置，其特征在于:其进一步包括第一平衡凸点，该第一平衡凸点位于该减少受力结构之区域内，并且位于该减少受力结构的对称线上。5.根据权利要求4所述的足部稳定装置，其特征在于:其进一步包括第二平衡凸点，该第二平衡凸点位于该减少受力结构区域的外侧并位于该对称线的延长线上。6.根据权利要求1所述的足部稳定装置，其特征在于:其中该减少受力结构进一步朝该足跟对应部延伸并延伸至该足弓对应部的前端，且该减少受力结构的宽度为该鞋垫本体宽度的三分之一，其形状为扁长椭圆形，该扁长椭圆形的两端分别具有渐细端部。7.根据权利要求6所述的足部稳定装置，其特征在于:其进一步包括第一平衡凸点及第二平衡凸点，该第一平衡凸点及该第二平衡凸点皆位于该减少受力结构区域内，且皆位于该减少受力结构的对称线上。8.根据权利要求6所述的足部稳定装置，其特征在于:其中该减少受力结构的长度介于8.5厘米至12厘米之间，且其宽度介于2.5厘米至4厘米之间。9.根据权利要求6所述的足部稳定装置，其特征在于:其进一步包括辅助减少受力结构，其是位于该足弓对应部的侧端，并且沿着该鞋垫本体的边缘设置，其形状为弯月形，用以减少使用者的外侧足弓受力。10.根据权利要求1至9中任一权利要求所述的足部稳定装置，其特征在于:其中该减少受力结构或该辅助减少受力结构为上表面凹陷结构、下表面凹陷结构或上下表面同时凹陷结构。11.根据权利要求1至9中任一权利要求所述的足部稳定装置，其特征在于:其中该减少受力结构或该辅助减少受力结构是由软物质所构成，该软物质的硬度小于该鞋垫本体的硬度。12.一种足部稳定装置，其为鞋底本体，该鞋底本体具有足底接触面，该足底接触面由鞋底前端至鞋底后端依序具有脚趾对应部、脚掌对应部、足弓对应部及足跟对应部，其特征在于该足底接触面具有减少受力结构，且该减少受力结构是由该脚趾对应部的后端中央处纵向延伸至该脚掌对应部的中间处。13.根据权利要求12所述的足部稳定装置，其特征在于:其中该减少受力结构的宽度为该足底接触面宽度的三分之一，且该减少受力结构的形状为卵圆形，该卵圆形邻近该脚趾对应部处具有渐细端部。14.根据权利要求13所述的足部稳定装置，其特征在于:其进一步包括辅助减少受力结构，其是位于该足弓对应部的侧端，并且沿着该足底接触面的边缘设置，其形状为弯月形，用以减少使用者的外侧足弓受力。15.根据权利要求13所述的足部稳定装置，其特征在于:其进一步包括第一平衡凸点，该第一平衡凸点位于该减少受力结构之区域内，并且位于该减少受力结构的对称线上。16.根据权利要求15所述的足部稳定装置，其特征在于:其进一步包括第二平衡凸点，该第二平衡凸点位于该减少受力结构区域的外侧并位于该对称线的延长线上。17.根据权利要求12所述的足部稳定装置，其特征在于:其中该减少受力结构进一步朝该足跟对应部延伸并延伸至该足弓对应部的前端，且该减少受力结构的宽度为该足底接触面宽度的三分之一，其形状为扁长椭圆形，该扁长椭圆形的两端分别具有渐细端部。18.根据权利要求17所述的足部稳定装置，其特征在于:其进一步包括第一平衡凸点及第二平衡凸点，该第一平衡凸点及该第二平衡凸点皆位于该减少受力结构区域内，且皆位于该减少受力结构的对称线上。19.根据权利要求17所述的足部稳定装置，其特征在于:其中该减少受力结构的长度介于8.5厘米至12厘米之间，且其宽度介于2.5厘米至4厘米之间。20.根据权利要求17所述的足部稳定装置，其特征在于:其进一步包括辅助减少受力结构，其是位于该足弓对应部的侧端，并且沿着该足底接触面的边缘设置，其形状为弯月形，用以减少使用者的外侧足弓受力。21.根据权利要求12至20中任一权利要求所述的足部稳定装置，其特征在于:其中该减少受力结构或该辅助减少受力结构为上表面凹陷结构。22.根据权利要求12至20中任一权利要求所述的足部稳定装置，其特征在于:其中该减少受力结构或该辅助减少受力结构是由软物质所构成，该软物质的硬度小于该鞋底本体的硬度。
【文档编号】A43B17/00GK105852316SQ201610069932
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年2月1日
【发明人】曾赞育
【申请人】亚适足企业有限公司