生物摄取物微粒子及其制造方法、分散体、医药组成物的制作方法

专利名称：：生物摄取物微粒子及其制造方法、分散体、医药组成物的制作方法
技术领域：
：本发明涉及可制作均匀的粒子、能量效率良好地容易制造并可大量生产、再分散性良好的生物摄取物微粒子的制造方法。并且，本发明涉及由上述制造方法所制造的生物摄取物微粒子以及含有该微粒子的分散体、医药组成物。
背景技术：
：专利文献1日本特开平4-295420号公报专利文献2日本特开2006-104193号公报专利文献3日本特开平7-277729号公报专利文献4日本特开2005-270745号公报[OOOS]专利文献5日本特开2003-159696号公报专利文献6日本特开2003-210957号公报专利文献7日本特开平6-227967号公报专利文献8日本特开2007-77061号公报非专利文献1"纳米技术手册-I编创造"(株式会社0HMSHA/东京都千代田区神田锦町3-1)2003年第一版第一次印刷纳米技术作为引起新的产业革命的科学技术受到极大的关注。由于通过将以往的物质微粒子化，可发现该物质的新的功能，物质的纳米粒子化已成为整体产业界的重要课题，随着纳米技术的发展，对纳米微粒子化技术的关心也越来越高。(非专利文献1)特别是有关食品及食品添加物、化妆品、医药品的药物等以生物摄取为目的物质(生物摄取物)的微粒子化技术的关心也越来越高，特别是普遍知道医药品的药物的微粒子化可以提高其溶解性即大幅度改善生物内吸收率，更寄予了很大期望。另一方面，新药候补品物质的创出需要很长的开发时间，而且候选物质的枯竭成为问题，其原因之一为，也有由于候补化合物为难水溶性而有必要变更化合物的构造的场合等，使开发延迟、挫折的情况增多。另外，因为作为开发候补的化合物的溶解度低，存在不仅制剂化不能进行、而且毒性试验或动态评价也不能进行的问题。但是，即使是对水的溶解度低的化合物，也有膜透过性高，口服后显示充分的吸收性的化合物，只以溶解性来筛选候补化合物时，即使是有希望的候补化合物也有可能遗漏掉。因而，期盼用于改善溶解性进而改善生物内吸收率的制剂化技术的开发。有许多例子报告，即使是难水溶性药物，通过细微化来增大其表面积，使其溶解速度变大，提高其生物内的吸收。例如，子宫内膜症治疗药的达那唑，其市贩物品(平均粒子直径10iim)作为悬浮液给狗服用场合的生物学的利用率(BA)为5.1%，相对于此，平均粒子直径为169nm的纳米悬浮液给狗服用场合的利用率(BA)为82.3%，BA急剧地增大(IntJ.Pharm125，1995，91-97)。将抗炎症剂的萘普生给老鼠投药的场合，通过将2030ym的原料粉末微细化为270nm，可让其吸收提高4倍(IntJ.Pharm125，1995，309-313)。因此，如果实现难水溶性药物的纳米微粒子化，就可能极大提高药物的吸收性。由于这样的背景，所以期盼微粒子化药物的制造技术，并且，为了工业性地活用这些的技术，确立稳定性且可大量生产的制造方法已成为医药品纳米技术的有效利用的最重要课题。—般来讲，作为微粒子的制造方法有，机械地破碎、微细化大块原料得到微粒子的Break-down法(粉碎法)，以及集合原子、分子使其成长为适当大小的微粒子的Bottom-up法(成长法)。作为粉碎法，有使用球磨机、超微磨碎机、振动磨机、砂磨机、滚筒辗粉机、磨机C0WLES式搅拌器等磨机的机械粉碎法、或激光消融那样的对固体粒子照射飞秒激光的方法。但是，在机械粉碎法的场合，基本上有粉碎的微粒化的限度，并且由于利用与媒体磨机的接触的粉碎力，不能避免珠粒本身的破断粒子的混入等问题，而使得产品中混入杂质，不能保障其纯度。并且，需要很大的能量，从能量成本方面现状也是个问题。关于激光消融法，因为其利用了通过强力的光的粉碎力的工序，不能否定在分子状态的光分解的可能性。并且，现状实质的生产量为0.lmg/h左右，也不能说其为产业性实用水平。并且，使用粉碎法制造的微粒子物理粉碎的结果，其破断面上容易产生活性部位，粉碎了的微粒子再次再凝集，容易形成比粉碎前还粗大的凝集体。为此，有作为产品的使用价值下降的场合，或分散系整体发生粘度增加等异常的场合，粉碎法本身也存在很多问题。另外，虽然在专利文献1中所述的获得药物微粒子的方法，具体为通过作为机械的粉碎手段的球磨机、超微磨碎机、振动磨机、砂磨机、滚筒辗粉机、磨机C0WLES式搅拌器等磨机，获得不足250nm的粒子的方法，但是，关于由于媒体的摩耗等所产生的异物混入，也只记述为不伴随不能容许的污染这样的程度，对经常被要求为高品质的医药品来说，异物混入的危险等有可能成为非常大的问题。其次，作为微粒子的作成方法被使用的成长法(Bottom-up法)为这样的方法，利用化学反应、晶析、升华等各种反应手段，且在反应的同时并用高分子分散法或热分解法、超临界法或超声波法等使原子、分子集合来制造微粒子。作为反应手段例如有，如专利文献3那样使用批量式反应器的反应法，或如专利文献4那样使用在高真空中的等离子的气相法。并且，可以使用如专利文献5或专利文献6那样的微小反应器，微小流路式反应器的微搅拌机或微反应器。批量式一般很难管理批量内的温度，进行均匀的反应困难。并且，因为不能进行在完全均匀状态的浓度管理，很难进行反应条件的管理。而且，需要很长的反应时间，管理全部的反应条件使其均匀地发生反应也很困难。对于气相法，因为其纳米粒子的单位时间的生成量很少，为了蒸发原料而需要电子束、等离子、激光、诱导加热等高能量装置，并且成品率也低，从生产成本上也不能说其适合大量生产。而且因为根据这些气相法所获得的纳米粒子为纯粹物质的微粒子，容易凝集、融合，并且有粒子的大小散乱这样的问题。虽然尝试作为上述微量的生物摄取物微粒子的制造工序使用被一般所知的微化学工序的微反应器或微搅拌机，但是，在通过这些方法生成微粒子时，由于反应所产生的泡或副生成物在流路堵塞而引起微流路的封闭的可能性非常高，或基本上仅利用分子的扩散来使之进行反应，故不能适应全部的反应。另外，虽然微化学工序中采用平行排列反应器的称为数增放大的模型扩大法，但是，一个反应器的制造能力很小，要进行很大的模型扩大是不现实的事，或存在很难使得各个反应器的性能都一样，不能获得均匀的生成物等问题。另外，在高粘度的反应液或伴随粘度上升的反应中，为了使其流过微小的流路，需要非常高的压力，存在能使用的泵有所限定，或由于高压而不能解决装置的泄漏的问题。特别是在医药品的场合，常常要求高度的品质。由于在医药品中对结晶形或结晶粒子直径等物理化学的品质、或对杂质、进而不溶性微粒子的混入等的品质的要求也非常高，为了适应这些品质的要求，必须要求高度的制造技术。可是，在化学工业或食品、医药品中所生产的物质，微结晶集合的物质或结晶中含母液或杂质的物质不少。另外，在使用采用媒体的粉碎机进行微细化时，来自媒体的异物混入不可避免。并且，今后必要考虑环境问题、省资源、节能等必须解决的很多课题。而且，对于制造生物摄取微粒子的工程，制造工程中的异物混入或菌的产生也会成为问题，考虑其制造时间的縮短化，也必须提案可提供更安全且廉价的生物摄取物微粒子的制造方法。难水溶性的药物在有机溶剂以外，有酸性或碱性溶液中溶解的药物，但是一般所知为，对于其多数的药物，溶解的水溶液中的化合物的稳定性低。例如，吡诺克辛如果溶解在pH大于6的水溶液中，就会被加水分解。由于该缘故，很多市贩的吡诺克辛点眼药，必须在使用时将吡诺克辛溶解在附带的溶剂中进行用时调制。另外，使难水溶性的药物悬浮的水性悬浮液剂已为众所周知。但是，市贩的水性悬浮点眼药剂的药物粒子的粒子直径为数ym至数十ym，这些水性悬浮点眼药剂难于进行过滤杀菌，为了保证制剂的无菌性，用最终高压蒸气杀菌或将主剂原料用干热杀菌等无菌化后，此后的制造工程全部都必须用无菌操作进行。然而，进行最终高压蒸气杀菌的场合，一般所知，在大小的粒子混合存在的状态下，会出现小粒子溶解消失，大粒子更加成长的现象(奥斯特瓦尔德熟成)，伴随激烈的温度变化的杀菌操作，更加使得粒子继续粗大化。并且，由于在杀菌中微粒子的表面改质剂/解粒剂析出，伴随此过程，粒子被粗大化，很难保持其分散性(日本特开平6-227967号公报/专利文献7)。另外，在进行主剂原料的干热杀菌的场合，由于主剂原料的热变性、熔着或强力的凝集，使得需要更长时间的机械粉碎或分散处理，其结果，必须长时间的无菌操作。在包含这样的杀菌操作的制造方法的场合，由于需要无菌设备或操作，存在成本高，作业性等制造方面及无菌维持的困难等质量保证方面的问题。作为吡诺克辛水性悬浮液剂，有通过机械粉碎将吡诺克辛超微细化来提供能过滤杀菌且廉价的点眼药的方法(日本特开2007-77061号公报/专利文献8)。然而，以往的机械的制造方法，因为微细化所需要的时间很长，生产率的问题或处理能量大，存在成本负担的增大、工序复杂化等问题。并且，微细化中使用的机械大多使用媒体，也存在由于媒体所引起的异物混入或很难获得均匀的粒子，容易凝集等问题。而且，也存在粗大粒子形成核，促进凝集的问题。另外，众所周知，通过将吡诺克辛微细化可提高其角膜渗透性，将其形成水性悬浮液剂可改善其对光的稳定性，对其他的点眼药也可期待同样的效果。调制医药组成物的方法，特别是难水溶性药物的场合，作为溶解度的改善方法，有pH调整法、有机溶媒法、胶束法、复合体法、微乳液法、微粒子化法等。微粒子化法以外的各方法由于依存各个的药物的物性，并不是能适用全部的药物的方法。另外，用机械的手段粉碎的微粒子化法，虽然可适用于广泛的药物，但是，存在容易凝集，很难获得均匀的粒子，来自粉碎工序的杂质混入等问题。作为微细化药物的方法，有干式粉碎法、湿式粉碎法、晶析法等。一般，医药品不耐热，干式粉碎法，会由于粉碎时的发热而引起非晶质化，产生粉尘的问题点。另外，湿式粉碎法，处理时间长，达成粒子直径的控制困难，并且由于使用媒体，不能避免起因于媒体的磨损的异物的混入，混入的异物的分离困难，有在需要高纯度的产品中不能使用的问题。上述所记载那样的湿式粉碎，大多处理时间很长，有可能会引起细菌的发生。另外，也有需要很大处理能量，工序的复杂化等造成成本负担大的问题。药物微粒子的制造方法，有将化合物溶解在溶媒中、通过与新的溶媒混合使之析出结晶的方法，或者通过pH调整在溶媒中溶解化合物、通过添加酸或碱使其pH变化从而使之析出结晶的方法等。在这样的反应方法中，两液的混合通常是通过在混合部具有可动部的动的混合装置，例如具有叶轮的搅拌混合装置来进行。在使用这样的混合装置的场合，处理结晶成长速度极快的化合物时会成为问题。这样的化合物，如果溶解液与新的溶媒的混合中花费时间的话，会在溶液浓度不均匀的状态开始结晶的析出，粒度分布/粒子直径分布宽广的粒子或由结晶成长而形成的粗大粒子混杂在一起，，而不能得到作为目的尖窄的粒度分布/粒子直径分布的结晶。另外，也有将其与在表面以100个/cm2以上的密度具有微差突起的基盘接触而使之析出微粒子的方法(日本特开2006-104193号公报/专利文献2)，但是，存在制造量的问题等很多课题。期盼提供可容易地控制粒子直径，不容易发生凝集沉淀或凝集，并且界面活性剂或稳定化剂等主药以外的添加剂极少，再分散性好的稳定的纳米大小的分散性药物粒子。并且，强烈希望提供没有由于机械摩耗等引起的杂物混入，安全性、稳定性高，生物利用效率高的医药组成物。
发明内容本发明提供通过晶析使结晶析出的粒子制造方法，特别是生物摄取物的微粒子制造方法以及通过微粒子化生物摄取物来改善其生物内吸收率。另外，由于菌的产生成为问题，故其目的在于将处理时间縮短化，提供更安全且廉价的生物摄取物(药剂)。另外，本发明是在可接近和分离的相互相向配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间形成的薄膜流体中，通过中和反应将生物摄取物微粒子析出的生物摄取物微粒子的制造方法，因为在该薄膜流体中的温度的均匀性高，反应容器的搅拌的均匀性高，可按照目的制造单分散的生物摄取物微粒子，并且，通过其自我排出性也没有生成物的堵塞，不需要大的压力，而且生产率也高，其目的在于提供这样的生物摄取物微粒子的制造方法。并且，本发明以通过稳定性的悬浮液的制作，提供安全且廉价的无菌的悬浮点眼药为目的。本申请的发明者发现了稳定且分散性良好的生物摄取物微粒子及结晶化度高的生物摄取物微粒子的制造方法。这些的粒子可制剂为显示很高的生物利用效率的医药组成物。通过将化合物的溶解液(第一溶媒)和新的溶媒(第二溶媒)在相向配设的可接近和分离且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间形成的薄膜流体中析出生物摄取物微粒子的方法，及在相向配置的处理用面之间形成的薄膜流体中扩散、搅拌、混合的装置，解决了上述的课题。而且，所谓上述的生物，不仅包括人体，也包括有其他的生物。7具体而言，通过下述的发明解决上述的课题。本申请的技术方案1所涉及的发明，提供一种生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，在使生物摄取物微粒子原料在流体中析出而制造生物摄取物微粒子时，将上述的流体设成为薄膜流体，该薄膜流体在以能够接近、分离的方式相互相向地配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间形成，在该薄膜流体中使生物摄取物微粒子析出。本申请的技术方案2所涉及的发明，提供技术方案1所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，至少使用两种流体；其中至少一种流体是将至少一种上述生物摄取物微粒子原料溶解在第一溶媒中的流体；此外的流体中的至少一种流体是能成为溶解度比上述第一溶媒低的第二溶媒的溶媒；在以能够接近、分离的方式相互相向地配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间的薄膜流体中，使上述的各流体合流，在该薄膜流体中使生物摄取物微粒子析出。本申请的技术方案3所涉及的发明，提供技术方案1所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，使用至少两种流体；其中至少一种流体是含有至少一种酸性物质或阳离子性物质的流体；此外的流体中的至少一种流体是含有至少一种碱性物质或阴离子性物质的流体；在以能够接近、分离的方式相互相向地配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间的薄膜流体中，使上述的各流体合流，在该薄膜流体中进行中和反应而使生物摄取物微粒子析出。本申请的技术方案4所涉及的发明，提供技术方案1至3中的任何一方所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，上述的析出反应具备流体压力施加机构，该流体压力施加机构给被处理流动体施加规定压力，第一处理用部、以及能够相对于该第一处理用部相对接近和分离的第二处理用部至少两个处理用部，和旋转驱动机构，该旋转驱动机构使上述第一处理用部和第二处理用部相对旋转；在上述各处理用部中相互相向的位置上，设有第一处理用面以及第二处理用面至少两个处理用面；上述的各处理用面构成上述规定压力的被处理流动体流过的被密封的流路的一部分；在上述的两个处理用面之间，均匀混合两种以上的被处理流动体并使其积极地发生反应，上述两种以上的被处理流动体中的至少任意一种含有反应物；上述第一处理用部和第二处理用部中至少第二处理用部具备受压面，并且，该受压面的至少一部分由上述第二处理用面构成；该受压面受到上述流体压力施加机构施加给被处理流动体的压力而产生使第二处理用面在从第一处理用面分离的方向移动的力；通过上述规定压力的被处理流动体在能够接近和分离且相对旋转的第一处理用面和第二处理用面之间通过，由此，上述被处理流动体一边形成规定膜厚的流体膜一边从两个处理用面之间通过；进而具备独立于上述规定压力的被处理流动体流过的流路的另外的导入路，上述第一处理用面和第二处理用面的至少任意一方中具备至少一个与上述导入路相通的开口部；将从上述导入路输送来的至少一种被处理流动体导入上述两个处理用面之间，至少上述的各被处理流动体的任意一方中含有上述的反应物与不同于上述被处理流动体的被处理流动体，通过在上述流体膜内的均匀搅拌形成的混合能够达到所希望的反应状态。本申请的技术方案5所涉及的发明，提供技术方案1至4中的任何一方所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，在上述生物摄取物微粒子的制造方法中，将处理8用面之间加热(加温)，或者对处理用面之间照射紫外线(UV)，或者对处理用面之间施加超声波能量。本申请的技术方案6所涉及的发明，提供技术方案1至5中的任何一方所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，在能够确保减压、真空状态的容器内进行上述中和反应，将处理后流体排出的二次侧形成为减压、真空状态，由此，进行在反应中产生气体以及从处理用部排出的气体的脱气或脱溶剂。本申请的技术方案7所涉及的发明，提供技术方案1至6中的任何一方所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，上述流体的至少一方中含有从分散剂、水溶性高分子、稳定剂、保存剂、pH调制剂、等渗压化剂中所选取的至少含一种。本申请的技术方案8所涉及的发明，提供技术方案1至7中的任何一方所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，对上述处理前或处理后的各流体进行无菌过滤。本申请的技术方案9所涉及的发明，提供技术方案1至8中的任何一方所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，上述对象物质是从由下列物质构成的群中选取的药物止痛药、抗炎症药、除虫药、抗脉律不齐药、抗生素、抗凝固药、抗降压药、抗糖尿病药、抗癫痫药、抗组胺药、抗恶性肿瘤药、食欲抑制药、抗肥胖药、降压药、抗蝇蕈碱药、抗分支杆菌药、抗新生物药、免疫抑制药、抗甲状腺药、抗菌药、抗病毒药、不安解除药、收敛性化妆水、肾上腺素性P容纳体隔断药、血液制剂、代用血桨、心肌变性力药、对比介质、皮质醇、咳嗽抑制药、诊断药、诊断像形成药、利尿药、多巴宁作用药、止血药、免疫药、脂类调节药、肌肉松弛药、副交感神经剌激兴奋药、副甲状腺降钙素、二膦酸酯类、前列腺素、放射性医药、性荷尔蒙、抗过敏药、兴奋药、食欲衰退物质、交感神经兴奋药、甲状腺药、血管扩张剂以及叶黄素类、白内障治疗剂、肾上腺皮质荷尔蒙剂。本申请的技术方案IO所涉及的发明，提供通过上述技术方案1至9中的任何一方所述的制造方法所获得的生物摄取物微粒子。本申请的技术方案11所涉及的发明，提供技术方案9中所述的生物摄取物微粒子，其特征在于，结晶化度以所获得的生物摄取物微粒子的合计质量为基准是50%以上，并且，含有该粒子的液体在其调制后两日以上通过目视不显示凝集沉淀或粒子凝集。本申请的技术方案12所涉及的发明，提供技术方案9中所述的生物摄取物微粒子，其特征在于，平均一次粒子直径为0.510000nm。本申请的技术方案13所涉及的发明，提供技术方案9中所述的生物摄取物微粒子，其特征在于，粒度分布/粒子直径分布的90%粒子直径为500nm以下。本申请的技术方案14所涉及的发明，提供含有技术方案9至13中的任何一方所述的生物摄取物微粒子的分散体。本申请的技术方案15所涉及的发明，提供含有技术方案14所述的分散体和药学上容许的载体所形成的医药组成物。本发明开拓了可制作不伴随不能容许的污染的多种多样的生物摄取物微粒子的可能性。并且，能获得稳定的单结晶，生产效率良好，能批量生产。另外，不会带来像以往的干式粉碎法那样的不能容许的粉尘，及没有湿式粉碎所引起的媒体的磨损，通过调整相向配置的处理用面的间隔，提供可自由控制药物粒子直径的技术。并且，处理时间的縮短化避免了菌的发生的问题，可提供更廉价的药剂。另外，本发明开拓了将含有生物利用效率预期不高的医药组成物及低水溶性的药物，可提供作为适合静脉注射的医药组成物的可能性。与使用以往的方法所获得的生物摄取物微粒子相比，利用本发明所获得的生物摄取物微粒子，再分散性出色，不凝集，可获得单分散的生物摄取物微粒子。并且，本发明可根据必要的生产量，采用一般的规模放大概念，进行机体的大型化。并且，与以往的方法相比，可提高能量效率。另外，本发明所涉及的制造方法也能无菌过滤。另外，在分散体为悬浮点眼药液的场合，角膜渗透性良好。因此，与将生物摄取物微粒子原料干热杀菌，进行机械的粉碎和分散的场合相比，能在很大程度上縮短向同一最终粒子直径的到达时间。图1(A)是表示用于实施本申请发明的装置的概念的简略纵剖视图，(B)是表示上述装置的其他实施方式的概念的简略纵剖视图，(C)是表示上述装置的另外的其他实施方式的概念的简略纵剖视图，(D)是表示上述装置的另一其他实施方式的概念的简略纵剖视图。图2(A)(D)分别是表示图1所示装置的另外的其他实施方式的概念的简略纵剖视图。图3(A)是图2(C)所示装置的主要部分的简略仰视图，(B)是上述装置的其他实施方式的主要部分的简略仰视图，(C)是另外的其他实施方式的主要部分的简略仰视图，(D)是表示上述装置的另一其他实施方式的概念的简略仰视图，(E)是表示上述装置的另一其他实施方式的概念的简略仰视图，(F)是表示上述装置的另一其他实施方式的概念的简略仰视图。图4(A)(D)剖视图。图5(A)(D)剖视图。图6(A)(D)剖视图。图7(A)(D)剖视图。图8(A)(D)剖视图。图9(A)(C)剖视图。图10(A)(D)分别是表示图1所示装置的另外其他的实施方式的概念的简略纵剖视图。图11(A)及(B)分别表示上述图1所示装置的另一其他实施方式的概念的简略纵剖视图，(C)为图1所示装置的主要部分的简略仰视图。图12(A)是关于图1(A)所示装置的受压面的、表示其他实施方式的主要部分的简分别是表示图1所示装置的另外的其他实施方式的概念的简略纵分别是表示图1所示装置的另外的其他实施方式的概念的简略纵分别是表示图1所示装置的另外的其他实施方式的概念的简略纵分别是表示图1所示装置的另外的其他实施方式的概念的简略纵分别是表示图1所示装置的另外其他的实施方式的概念的简略纵分别是表示图1所示装置的另外其他的实施方式的概念的简略纵10略纵剖视图，(B)是该装置的另一其他实施方式的主要部分的简略纵剖视图。图13是关于图12(A)所示装置的接触表面压力施加机构4的、其他实施方式的主要部分的简略纵剖视图。图14是关于图12(A)所示装置上的、设置了温度调节用封套的、其他实施方式的主要部分的简略纵剖视图。图15是关于图12(A)所示装置的接触表面压力施加机构4的，其他实施方式的主要部的简略纵剖视图。图16(A)是图12(A)所示装置的另一其他实施方式的主要部分的简略横剖视图，(B)(C)(E)(G)是该装置的另一其他实施方式的主要部分的简略横剖视图，(D)是该装置的另一其他实施方式的局部的主要部分的简略纵剖视图。图17是图12(A)所示装置的另一其他实施方式的主要部的简略纵剖视图。图18(A)是表示用于本申请发明的实施中的装置的另一其他实施方式的概念的简略纵剖视图，(B)是该装置的局部的主要部分说明图。图19(A)是图12所示上述装置的第一处理用构件1的俯视图，(B)是其主要部分的纵剖视图。图20(A)是图12所示装置的第一及第二处理用构件1、2的主要部分的纵剖视图，(B)是隔开微小间隔的上述第一及第二处理用构件1、2的主要部分的纵剖视图。图21(A)是上述第一处理用构件1的其他实施方式的俯视图，(B)是其主要部分的简略纵剖视图。图22(A)是上述第一处理用构件1的另一其他实施方式的俯视图，(B)是其主要部分的简略纵剖视图。图23(A)是上述第一处理用构件1的另一其他实施方式的俯视图，(B)是上述第一处理用构件1的再另一其他实施方式的俯视图。图24(A)(B)(C)分别是关于处理后的被处理物的分离方法的、表示上述以外的实施方式的说明图。图25是说明本申请发明装置的概要的纵剖面的概略图。图26(A)是图25所示装置的第一处理用面的简略俯视图，(B)是图25所示装置的第一处理用面的主要部分的放大图。图27(A)是第二导入通道的剖视图，(B)是用于说明第二导入通道的处理用面的主要部分的放大图。图28(A)及(B)分别是为了说明设置于处理用构件的倾斜面的主要部分放大剖视图。图29是用于说明设置于处理用构件的受压面的图，(A)是第二处理用构件的仰视图，(B)是主要部分的放大剖视图。具体实施例方式以下，对本发明进行详细说明。本发明的技术范围并不只限于下述实施方式及实施例，只要不改变其要旨，可进行各种各样的改变进行实施。本发明其特征在于，在使作为反应物的生物摄取物微粒子原料在流体中析出来制造生物摄取物微粒子时，将上述的流体设为在按可接近和分离的方式相向配置且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间形成的薄膜流体，在该薄膜流体中析出生物摄取物微粒子。作为本发明所使用的在薄膜流体中均匀搅拌和混合的方法，可以利用例如本发明申请人:所提出的日本特开2004-49957号公报中所记载的同一原理的装置，上述薄膜流体形成于可接近和分离地相向配置且至少一方可相对于另一方旋转的处理用面之间。以下，对适于实施该方法的流体处理装置进行说明。如图1(A)所示，该装置具有相对的第一及第二这二个处理用构件10、20，至少其中一方的处理用构件旋转。两处理用构件10、20的相向的面分别作为处理用面，在两处理用面之间进行被处理流体的处理。第一处理用构件10具有第一处理用面l，第二处理用构件20具有第二处理用面2。两处理用面1、2连接于被处理流体的流路，构成被处理流体的流路的一部分。更详细而言，该装置构成至少两个被处理流体的流路，同时，使各流路合流。S卩，该装置与第一被处理流体的流路相接，在形成该第一被处理流体的流路的一部分的同时，形成有别于第一被处理流体的第二被处理流体的流路的一部分。并且，该装置使两流路合流，在处理用面1、2之间，混合两流体而进行反应。图1(A)所示的实施方式中，上述各流路是液密(被处理流体为液体的场合)或气密(被处理流体为气体的场合)的密闭流路。具体地说明如下，如图1(A)所示，该装置具有上述第一处理用构件10、上述第二处理用构件20、保持第一处理用构件10的第一托架11、保持第二处理用构件20的第二托架21、接触表面压力施加机构4、旋转驱动部、第一导入部dl、第二导入部d2、流体压力施加机构Pl、第二流体供给部p2及壳体3。另外，图中省略了旋转驱动部的图示。第一处理用构件10和第二处理用构件20的至少其中任一方可相对于另一方接近和分离，从而使两处理用面1、2可接近和分离。在本实施方式中，第二处理用构件20可相对于第一处理用构件10接近和分离。但是，与之相反，也可以是第一处理用构件10相对于第二处理用构件20接近和分离，或者两处理用构件10、20相互接近和分离。第二处理用构件20配置在第一处理用构件10的上方，第二处理用构件20的朝向下方的面、即下表面，为上述第二处理用面2，第一处理用构件10的朝向上方的面、即上面，为上述的第一处理用面l。如图1(A)所示，在本实施方式中，第一处理用构件10及第二处理用构件20分别为环状体，即圆环。以下，根据需要，称第一处理用构件10为第一圆环IO，称第二处理用构件20为第二圆环20。在本实施方式中，两圆环10、20是金属制的一个端面被镜面研磨的构件，以该镜面作为第一处理用面1及第二处理用面2。S卩，第一圆环10的上端面作为第一处理用面1，被镜面研磨，第二圆环20的下端面作为第二处理用面2，被镜面研磨。至少一方的托架可通过旋转驱动部相对于另一方的托架相对地旋转。图1(A)的50表示旋转驱动部的旋转轴。在旋转驱动部中可采用电动机。通过旋转驱动部，可使一方的圆环的处理用面相对于另一方的圆环的处理用面相对地旋转。在本实施方式中，第一托架11通过旋转轴50接受来自旋转驱动部的驱动力，相对于第二托架21旋转，这样，和第一托架10形成一体的第一圆环10相对于第二圆环20旋转。在第一圆环10的内侧，旋转轴50以如下方式设置在第一托架11上，即，俯视时，其中心与圆形的第一圆环10的中心同心。第一圆环10的旋转以圆环10的轴心为中心。虽未图示，但是，轴心指圆环10的中心线，是假想线。如上所述，在本实施方式中，第一托架11使第一圆环10的第一处理用面1朝向上方，并保持第一圆环IO，第二托架21使第二圆环20的第二处理用面2朝向下方，并保持第二圆环20。具体而言，第一及第二托架11、21分别具有凹状的圆环收容部。在本实施方式中，第一圆环11嵌合于第一托架11的圆环收容部，并且，第一圆环10固定于圆环收容部，从而不能从第一托架11的圆环收容部出没。即，上述第一处理用面1从第一托架11露出，面向第二托架21侧。第一圆环10的材质除了金属以外，还可采用陶瓷、烧结金属、耐磨钢、实施过硬化处理的其他金属、或者涂敷、包覆、电镀有硬质材料的材料。特别是，因为旋转，最好用轻质的原料形成第一处理部10。关于第二圆环20的材质，也可以采用与第一圆环IO相同的材质。另一方面，第二托架21所具有的圆环收容部41可出没地收容第二圆环20的处理用构件2。该第二托架21所具有的圆环收容部41是收容第二圆环20的、主要是与处理用面2侧相反侧部位的凹部，在俯视时呈圆形，即形成环状的槽。圆环收容部41的尺寸比第二圆环20大，与第二圆环20之间有足够的间隔，收容第二圆环20。通过该间隔，在该圆环收容部41内，该第二圆环20可在环状的圆环收容部41的轴方向以及在与该轴方向交叉的方向位移。换言之，通过该间隔，该第二圆环20能够以改变与上述圆环收容部41的轴方向的平行关系的方式使圆环20的中心线相对于圆环收容部41位移。以下，将第二托架21的被第二圆环20围绕的部位称为中央部分22。对于上述说明，换言之，该第二圆环20以如下方式收容在圆环收容部41内，即，能够在圆环收容部41的推力方向即上述出没方向位移，另外，能够在相对于圆环收容部41的中心偏心的方向位移。并且，第二圆环20以如下方式被收容，即，相对于圆环收容部41，在圆环20的圆周方向的各位置，能够以从圆环收容部41出没的幅度分别不同的方式位移，即，能够中心振摆。虽然第二圆环20具有上述三个位移的自由度，即，与圆环收容部41相对的第二圆环20的轴方向、偏心方向、中心振摆方向的自由度，但第二圆环20以不随第一圆环10旋转的方式保持在第二托架21上。虽未图示，但有关这一点，只要在圆环收容部41和第二圆环20上分别相对于圆环收容部41设置适当的突出部即可，从而限制在其圆周方向的旋转。但是，该突出部不得破坏上述三个位移的自由度。上述接触表面压力施加机构4沿使第一处理用面1和第二处理用面2接近的方向对处理用构件施加力。在本实施方式中，接触表面压力施加机构4设置在第二托架21上，将第二圆环20向第一圆环10施力。接触表面压力施加机构4将第二圆环20的圆周方向的各位置、即处理用面2的各位置均等地向第一圆环10施力。接触表面压力施加机构4的具体结构在后面再进行详细叙述。如图1(A)所示，上述壳体3配置在两圆环10、20外周面的外侧，收容生成物，该生成物在处理用面1、2间生成并排出到两圆环10、20的外侧。如图1(A)所示，壳体3是收容第一托架10和第二托架20的液密的容器。第二托架20可以作为该壳体的一部分而与壳体3—体地形成。如上所述，不必说形成壳体3的一部分的情况，即使在与壳体3分体地形成的情况下，第二托架21也同样不可动，从而不会影响两圆环10、20间的间隔，即，两处理用面1、2间的间隔。换言之，第二托架21不会对两处理用面1、2间的间隔产生影响。在壳体3上，壳体3的外侧设有用于排出生成物的排出口32。第一导入部dl向两处理用面1、2间供给第一被处理流动物。上述流体压力施加机构pl直接或间接地与该第一导入部dl连接，对第一被处理流体施加流体压力。在流体压力施加机构pl中，可采用压縮机等其他泵。在该实施方式中，第一导入部dl是设置在第二托架21的上述中央部分22内部的流体通道，其一端在第二托架21的俯视为圆形的第二圆环20的中心位置开口。另外，第一导入部dl的另一端在第二托架21的外部、即壳体3的外部与上述流体压力施加机构pl相第二导入部d2向处理用面用l、2间供给与第一被处理流体反应的第二流体。在该实施方式中，第二导入部为设置在第二圆环内部的流体通道，其一端在第二处理用面2开口，其另一端与第二流体供给部P2相连接。在第二流体供给部p2中，可采用压縮机等其他泵。通过流体压力施加机构pl加压的第一被处理流体从第一导入部dl被导入两圆环10、20的内侧的空间，通过第一处理用面1和第二处理用面2之间，从两圆环10、20的外侧穿过。此时，承受第一被处理流体的输送压力的第二圆环20克服接触表面压力施加机构4的施力，远离第一圆环IO，使两处理用面之间分开微小的间隔。关于因两处理用面1、2的接近和分离而形成的两处理用面1、2间的间隔，后面再详细叙述。在两处理用面1、2间，从第二导入部d2供给第二被处理流体并与第一被处理流体合流，利用处理用面的旋转促进反应。然后，两流体的反应所生成的反应生成物从两处理用面1、2之间排出到两圆环10、20的外侧。在圆环10、20外侧排出的反应生成物最终通过壳体的排出口排出到壳体的外部。上述被处理流体的混合及反应通过与第二处理用构件20相对的第一处理用构件10的由驱动部5所产生的旋转，在第一处理用面1与第二处理用面2进行。在第一及第二处理用面1、2之间，第二导入部d2的开口部m2的下游侧形成反应室，该反应室使上述第一被处理流体和第二被处理流体反应。具体而言，在两处理用面1、2间，在表示第二圆环20的底面的图11(C)中以斜线表示的第二圆环20直径的内外方向rl上，第二导入部的开口部m2、即第二开口部m2的外侧区域H具有作为上述处理室、即反应室的功能。因此，该反应室在两处理用面1、2间位于第一导入部dl和第二导入部d2的两开口部ml、m2的下游侧。从第二开口部m2导入至两处理用面1、2之间的第二被处理流体，在上述形成反应室的区域H内，与从第一开口部ml经过圆环内侧的空间的导入至两处理用面1、2之间的第一被处理流体混合，两被处理流体反应。流体通过流体压力施加机构pl而受到输送压力，并在两处理用面1、2间的微小间隔中朝着圆环的外侧移动，但是，由于第一圆环IO旋转，所以，在上述反应区域H内，被混合的流体并不是在圆环直径的内外方向上从内侧向外侧直线地移动，而是在俯视处理用面的状态下，以圆环的旋转轴为中心，螺旋状地从圆环的内侧向外侧移动。这样，在进行混合反应的区域H，通过螺旋状地从圆环的内侧向外侧移动，从而可以确保在两处理用面1、2之间的微小间隔中具有充分反应所需要的区间，并可促进其均匀的反应。另外，反应产生的生成物在上述微小的第一及第二处理用面1、2间形成均质的反应物，特别是在结晶或析出的情况下形成微粒。至少，在上述流体压力施加机构pl负荷的输送压力、上述接触表面压力施加机构4的作用力、以及圆环的旋转所产生的离心力的均衡的基础上，可使两处理用面1、2间的间隔均衡并成为优选的微小间隔，并且，承受流体压力施加机构pl负荷的输送压力及圆环的旋转所产生的离心力的被处理流体，螺旋状地在上述处理用面1、2间的微小间隔中移动，促进反应。上述反应通过流体压力施加机构pl所负荷的输送压力及圆环的旋转而强制地进行。即，利用处理用面1、2，一边强制地均匀混合，一边引起反应，上述处理用面1、2可接近和分离的相互相对设置，并且至少有一方相对于另一方旋转。所以，特别是，通过流体压力施加机构pl所负荷的输送压力的调整及圆环的旋转速度、即圆环的转速的调整这种比较容易控制的方法，可控制反应的生成物的结晶或析出。这样，该处理装置通过输送压力及离心力的调整，进行影响生成物的大小的处理用面1、2间的间隔的控制，并且，在影响生成物的均匀生成的上述反应区域H内的移动距离的控制方面极为优异。另外，上述的反应处理的生成物并不局限于析出的物质，也包括液体。再者，旋转轴50并不限于垂直配置，也可以配置在水平方向，也可倾斜的配置。处理中，图示为两处理用面1、2间的微小间隔内进行反应的情况，实质上可以排除重力的影响。图1(A)中所表示的第一导入部dl表示如下机构，即，在第二托架21中，与第二圆环20的轴心一致，朝上下铅直延伸的机构。但是，第一导入部dl并不仅限于与第二圆环20的轴心一致的机构，只要是能够向两圆环10、20所围成的空间供给第一被处理流体的机构即可，也可以设置在第二托架21的中央部分22的其他位置，另外，也可以是非垂直的倾斜的延伸的装置。图12(A)表示上述装置的更优选的实施方式。如图所示，第二处理用构件20具有上述第二处理用面2，并且具有受压面23，该受压面23位于第二处理用面2的内侧并与该第二处理用面2邻接。以下，该受压面23又称为分离用调整面23。如图所示，该分离用调整面23为倾斜面。如前所述，在第二托架21的底部、即下部，形成圆环收容部41，该圆环收容部41内收容有第二处理用构件20。另外，虽没有图示，通过旋转阻止装置，使第二处理用构件20相对于第二托架21不旋转地被收容。上述第二处理用面2从第二托架21中露出。在该实施方式中，处理用面1、2间的、第一处理用构件10及第二处理用构件20的内侧为被处理物的流入部，第一处理用构件10及第二处理用构件20的外侧为被处理物的流出部。上述接触表面压力施加机构4推压第二处理用面2，使其相对于第一处理用面1处于压接或接近的状态，通过该接触表面压力与流体压力等使两处理用面1、2间分离的力的平衡，产生上述预定膜厚的流体膜。换言之，通过上述力的平衡，两处理用面1、2间的间隔保持为预定的微小间隔。具体而言，在该实施方式中，接触表面压力施加机构4由以下部分构成上述圆环收容部41;发条收容部42，该发条收容部42设置在圆环收容部41的内部即圆环收容部41的最深处；弹簧43;以及，空气导入部44。但是，接触表面压力施加机构4也可只具有上述圆环收容部41、上述发条收容部42、弹簧43以及空气导入部44中的至少任意一个。圆环收容部41与第二处理用构件20间隙配合，从而圆环收容部41内的第二处理用构件20的位置或深或浅地位移，即可上下位移。上述弹簧43的一端与发条收容部42的内部抵接，弹簧43的另一端与圆环收容部41内的第二处理用构件20的前部即上部抵接。在图1中，弹簧43虽仅显示l个，但是优选通过多个弹簧43来推压第二处理用构件20的各个部分。即，通过增加弹簧43的数目，可以赋予第二处理用构件20更加均等的推压力。所以，优选第二托架21为安装数个至数十个弹簧43的复合型。在该实施方式中，还可通过上述空气导入部44从其它地方向圆环收容部41内导入空气。通过这样的空气的导入，将圆环收容部41与第二处理用构件20之间作为加压室，将弹簧43与空气压力一起作为推压力施加于第二处理用构件20上。因此，通过调整从空气导入部44导入的空气压力，可调整运转中第二处理用面2相对于第一处理用面1的接触表面压力。并且，代替利用空气压力的空气导入部44，也可利用通过油压等其他的流体压力产生推压力的机构。接触表面压力施加机构4除了供给并调节上述推压力即接触表面压力的一部分之外，还兼作位移调整机构和缓冲机构。详细而言，接触表面压力施加机构4作为位移调整机构，通过空气压的调整而追随启动时及运转中轴方向的伸展或磨耗所引起的轴向位移，可维持初期的推压力。另外，如上所述，接触表面压力施加机构4由于采用可位移地保持第二处理用构件20的浮动机构，也具有作为微振动及旋转定位的缓冲机构的功能。接着，关于采用上述结构的处理装置的使用状态，根据图1(A)进行说明。首先，第一被处理流体承受来自流体压力施加机构pl的输送压力，通过第一导入部dl导入密闭壳体的内部空间。另一方面，通过由旋转驱动部所产生的旋转轴50的旋转，16第一处理用构件10旋转。由此，使第一处理用面1与第二处理用面2在保持微小间隔的状态下相对地旋转。第一被处理流体在保持微小间隔的两处理用面1、2间形成流体膜，从第二导入部d2导入的第二被处理流体在两处理用面1、2间与该流体膜合流，同样构成流体膜的一部分。通过该合流，第一及第二被处理流体混合，两流体发生反应，并促进均匀反应，形成其反应生成物。由此，在伴有析出的情况下，可较均匀地形成微小粒子，即使在不伴有析出的情况下，仍可实现均匀的反应。另外，析出的反应生成物由于第一处理用面1的旋转而在其与第二处理用面2间受到剪切，有时会被进一步微小化。在此，通过将第一处理用面1与第二处理用面2的间隔调整为1ym至lmm、特别是1ym至10ym的微小间隔，从而能够实现均匀的反应，同时，可生成数nm单位的超微粒子。生成物从两处理用面1、2间排出，通过壳体3的排出口33排出到壳体外部。排出后的生成物通过周知的减压装置在真空或减压后的环境内形成雾状，在碰到环境内的其他部分后成为流体流下，可以作为除气后的液态物被回收。此外，在该实施方式中，处理装置虽具有壳体，但也可以不设置这样的壳体。例如，可以设置除气用的减压槽，即真空槽，并在其内部配置处理装置。在该情况下，在处理装置上当然不具有上述排出口。如上所述，可将第一处理用面1与第二处理用面2的间隔调整为机械的间隔设定不可能达到的ym单位的微小间隔，其结构说明如下。第一处理用面1与第二处理用面2可相对地接近和分离，并且相对地旋转。在该例中，第一处理用面l旋转，第二处理用面2在轴方向滑动，相对于第一处理用面l接近和分离。因此，在该例中，第二处理用面2的轴方向位置通过力的平衡，即上述的接触表面压力与分离力的平衡，设定为ym单位的精度，从而进行处理用面1、2间的微小间隔的设定。如图12(A)所示，作为接触表面压力，可以举出以下例子在接触表面压力施加机构4中，从空气导入部44施加的空气压、即施加正压情况下的该压力；以及，弹簧43的推压力。此外，在图1315所示的实施方式中，为避免图面的繁杂，省略了第二导入部d2的描绘。关于这一点，也可以看成是未设置第二导入部d2的位置的剖面。另外，图中，U表示上方，S表示下方。另一方面，作为分离力，可以举出以下例子作用在分离侧的受压面、即第二处理用面2及分离用调整面23上的流体压力；第一处理用构件l的旋转所产生的离心力；以及，对空气导入部44施加负压的情况下的该负压。再者，在对装置进行清洗时，通过增大施加于上述空气导入部44的负压，可加大两处理用面1、2的分离，可容易地进行清洗。并且，通过这些力的平衡，使第二处理用面2稳定地处于相对于第一处理用面1隔开预定的微小间隔的位置，从而实现Pm单位精度的设定。对分离力进一步详细地说明如下。首先，关于流体压力，密封流路中的第二处理用构件20承受来自于流体压力施加机构P的被处理流体的送入压力，即流体压力。此时，与流路中的第一处理用面相对的面、即第二处理用面2和分离用调整面23成为分离侧的受压面，流体压力作用在该受压面上，产生因流体压所引起的分离力。其次，关于离心力，如果第一处理用构件10高速旋转，则离心力作用于流体，该离心力的一部分成为分离力，该分离力作用在两处理用面1、2相互远离的方向上。此外，当从上述空气导入部44向第二处理用构件20施加负压时，该负压作为分离力起作用。以上，在本申请发明的说明中，将使第一与第二处理用面1、2相互分离的力作为分离力进行说明，并非将上述表示的力从分离力中排除。如上所述，在密封的被处理流体的流路中，经由处理用面1、2间的被处理流体，形成分离力与接触表面压力施加机构4所赋予的接触表面压力达到平衡的状态，从而，在两处理用面1、2间实现均匀反应，同时，形成适合进行微小反应生成物的结晶或析出的流体膜。这样，该装置通过在两处理用面1、2间强制地介入流体膜，可维持两处理用面1、2之间的间隔为以往的机械的装置中不可能实现的微小间隔，从而实现高精度地生成作为反应生成物的微粒子。换言之，处理用面1、2间的流体膜的膜厚通过上述分离力与接触表面压力的调整而调整至预定的厚度，能够实现所需的均匀反应并进行微小的生成物的生成处理。所以，在要形成小的流体膜厚度的情况下，只要调整接触表面压力或分离力，从而使接触表面压力相对于分离力增大即可，相反地，在要形成大的流体膜厚度的情况下，只要调整接触表面压力或分离力，从而使分离力相对于接触表面压力增大即可。在增加接触表面压力的情况下，在接触表面压力施加机构4中，从空气导入部44赋予空气压、即正压，或者，将弹簧43变更为推压力大的弹簧或增加其个数即可。在增加分离力的情况下，可以增加流体压力施加机构pl的送入压力，或者增加第二处理用面2、分离用调整面23的面积，除此之外，还可以调整第二处理用构件20的旋转从而增大离心力，或者减低来自空气导入部44的压力。或者，可以赋予负压。弹簧43是作为在伸长方向产生推压力的推力发条，但是，也可以是作为在收縮方向产生力的拉力发条，可形成接触表面压力施加机构4的结构的一部分或全部。在减小分离力的情况下，可以减少流体压力施加机构pl的送入压力，或者减少第二处理用面2或分离用调整面23的面积，除此之外，还可以调整第二处理用构件20的旋转从而减少离心力，或者增大来自空气导入部44的压力。或者也可以赋予负压。另外，作为接触表面压力以及分离力的增加减少的要素，除上述以外，还可加入粘度等被处理流体的特性，这样的被处理流体的特性的调整也可作为上述要素的调整来进行。再者，分离力之中，作用于分离侧的受压面即第二处理用面2以及分离用调整面23上的流体压力可理解为构成机械密封的开启的力。在机械密封中，第二处理用构件20相当于密封环，在对该第二处理用构件20施加流体压力的情况下，当作用使第二处理用构件20与第一处理用构件IO分离的力作用时，该力为开启力。更详细而言，如上述的第一实施方式那样，当在第二处理用构件20中仅设置分离侧的受压面、即第二处理用面2以及分离用调整面23的情况下，送入压力的全部构成开启力。并且，当在第二处理用构件20的背面侧也设置受压面时，具体而言，在后述的图12(B)及图17的情况下，在送入压力之中，作为分离力作用的力与作为接触表面压力作用的力的差形成开启力。在此，使用图12(B)对第二处理用构件20的其他实施方式进行说明。如图12(B)所示，在从该第二处理用构件20的圆环收容部41露出的部位并且在内周面侧，设置面向第二处理用面2的相反侧即上方侧的接近用调整面24。即，在该实施方式中，接触表面压力施加机构4由圆环收容部41、空气导入部44以及上述接近用调整面24构成。但是，接触表面压力施加机构4也可以只具备上述圆环收容部41、上述发条收容部42、弹簧43、空气导入部44以及上述接近用调整面24中的至少任意一个。该接近用调整面24承受施加在被处理流体上的预定的压力，产生使第二处理用面2朝与第一处理用面1接近的方向移动的力，作为接近用接触表面压力施加机构4的一部分，担当接触表面压力的供给侧的作用。另一方面，第二处理用面2与上述的分离用调整面23承受施加在被处理流体上的预定的压力，产生使第二处理用面2朝与第一处理用面1分离的方向移动的力，担当分离力的一部分的供给侧的作用。接近用调整面24、第二处理用面2以及分离用调整面23均为承受上述被处理流体的输送压力的受压面，根据其方向，实现产生上述接触表面压力与产生分离力的不同的作用。接近用调整面24的投影面积Al与合计面积A2的面积比Al/A2称为平衡比K，对上述的开启力的调整非常重要，其中，接近用调整面24的投影面积A1是在与处理用面的接近、分离的方向、即第二圆环20的出没方向正交的假想平面上投影的接近用调整面24的投影面积，合计面积A2是在该假想平面上投影的第二处理用构件20的第二处理用面2及分离侧受压面23的投影面积的合计面积。接近用调整面24的前端与分离侧受压面23的前端一同被限定在环状的第二调整用部20的内周面25即前端线Ll上。因此，通过决定接近用调整面24的基端线L2的位置，可进行平衡比的调整。S卩，在该实施方式中，在利用被处理用流体的送出压力作为开启力的情况下，通过使第二处理用面2以及分离用调整面23的合计投影面积大于接近用调整面24的投影面积，可产生与其面积比率相对应的开启力。对于上述开启力，变更上述平衡线，即变更接近用调整面24的面积A1，由此，能够通过被处理流体的压力、即流体压力进行调整。滑动面实际表面压力P、即接触表面压力中的流体压力所产生的表面压力可用下式计算。P=P1X(K-k)+Ps式中，Pl表示被处理流体的压力、即流体压力，K表示上述平衡比，k表示开启力系数，Ps表示弹簧及背压力。通过该平衡线的调整来调整滑动面实际表面压力P，由此使处理用面1、2间形成所希望的微小间隔量，形成被处理流体所产生的流体膜，使生成物变微小，进行均匀的反应处理。通常，如果两处理用面1、2间流体膜的厚度变小，则可使生成物更微小。相反，如果流体膜的厚度变大，处理变得粗糙，单位时间的处理量增加。所以，通过上述滑动面实际表面压力P的调整，能够调整两处理用面1、2间的间隔，可以在实现所期望的均匀反应的同时获得微小的生成物。以下，称滑动面实际表面压力P为表面压力P。归纳该关系，在上述生成物较粗的情况下，可以减小平衡比，减小表面压力P，增大间隔，增大上述膜厚。相反，在上述生成物较小的情况下，可以增大平衡比，增大表面压力P，减小上述间隔，减小上述膜厚。这样，作为接触表面压力施加机构4的一部分，形成接近用调整面24，通过其平衡线的位置，可以实施接触表面压力的调整，即可调整处理用面之间的间隔。在上述间隔的调整中，如上所述，还可以考虑通过改变上述弹簧43的推压力及空气导入部44的空气压力来进行。并且，流体压力即被处理流体的输送压力的调整、及成为离心力的调整的第一处理用构件10即第一托架11的旋转的调整，也是重要的调整要素。如上所述，该装置以如下方式构成，即，对于第二处理用构件20及相对于第二处理用构件20旋转的第一处理用构件10，通过取得被处理流体的送入压力、该旋转离心力以及接触表面压力的压力平衡，在两处理用面上形成预定的流体膜。并且，圆环的至少一方为浮动构造，从而吸收芯振动等的定位，排除接触所引起的磨耗等的危险性。该图12(B)的实施方式中，对于具备上述调整用面以外的结构，与图1(A)所示的实施方式一样。另外，在图12(B)所示的实施方式中，如图17所示，可以不设置上述分离侧受压面23地加以实施。如图12(B)或图17所示的实施方式那样，在设置接近用调整面24的情况下，通过使接近用调整面24的面积A1大于上述面积A2，从而不产生开启力，相反，施加在被处理流体上的预定的压力全部作为接触表面压力而起作用。也可进行这样的设定，在该情况下，通过增大其他的分离力，可使两处理用面1、2均衡。通过上述的面积比决定了作用在使第二处理用面2从第一处理用面1分离方向的力，该力作为从流体所受到的力的合力。上述实施方式中，如上所述，弹簧43为了对滑动面即处理用面赋予均匀的应力，安装个数越多越好。但是，该弹簧43也可如图13所示那样，采用单巻型弹簧。其为如图所示的、中心与环状的第二处理用构件20同心的一个螺旋式弹簧。第二处理用构件20与第二托架21之间以成为气密的方式密封，该密封可采用众所周知的机构。如图14所示，第二托架21中设有温度调整用封套46，该温度调整用封套46冷却或加热第二处理用构件20，可调节其温度。并且，图14的3表示上述的壳体，在该壳体3中，也设有同样目的的温度调节用封套35。第二托架21的温度调节用封套46是水循环用空间，该水循环用空间形成于在第二托架21内的圆环收容部41的侧面，并与连通至第二托架21外部的通道47、48相连接。通道47、48的其中一方向温度调整用封套46导入冷却或加热用的介质，其中另一方排出该介质。20另外，壳体3的温度调整用封套35是通过加热用水或冷却水的通道，其通过设置在覆盖壳体3的外周的覆盖部34而设置在壳体3的外周面与该覆盖部34之间。在该实施方式中，第二托架21及壳体3具备上述温度调整用封套，但是，第一托架11中也可设置这样的封套。作为接触表面压力施加机构4的一部分，除上述以外，也可设置如图15所示的汽缸机构7。该汽缸机构7具有汽缸空间部70，该汽缸空间部70设置在第二托架21内；连接部71，该连接部71连接汽缸空间部70与圆环收容部41;活塞体72，该活塞体72收容在汽缸空间部70内且通过连接部71与第二处理用构件20相连接；第一喷嘴73，该第一喷嘴73与汽缸空间部70的上部相连接；第二喷嘴74，该第二喷嘴74位于汽缸空间部70的下部；推压体75，该推压体75为介于汽缸空间部70上部与活塞体72之间的发条等。活塞体72可在汽缸空间部70内上下滑动，通过活塞体72的该滑动，第二处理用构件20上下滑动，从而可变更第一处理用面1与第二处理用面2之间的间隔。虽未图示，具体而言，将压縮机等压力源与第一喷嘴73相连接，通过从第一喷嘴73向汽缸空间部70内的活塞体72的上方施加空气压力，即正压，使活塞体72向下方滑动，从而，第二处理用构件20可使第一与第二处理用面1、2间的间隔变窄。另外，虽未图示，将压縮机等压力源与第二喷嘴74相连接，通过从第二喷嘴74向汽缸空间部70内的活塞体72的下方施加空气压力，即正压，使活塞体72向上方滑动，从而可使第二处理用构件20朝着放大第一与第二处理用面1、2间的间隔的方向即打开的方向移动。这样，利用从喷嘴73、74获得的空气压，可调整接触表面压力。即使圆环收容部41内的第二处理用构件20的上部与圆环收容部41的最上部之间有足够的空间，通过与汽缸空间部70的最上部70a抵接地设定活塞体72，该汽缸空间部70的最上部70a也限定了两处理用面1、2间的间隔的宽度的上限。即，活塞体72与汽缸空间部70的最上部70a作为抑制两处理用面1、2分离的分离抑制部而发挥作用，换言之，作为限制两处理用面1、2间的间隔的最大分开量的机构发挥作用。另外，即使两处理用面1、2彼此未抵接，通过与汽缸空间部70的最下部70b抵接地设定活塞体72，该汽缸空间部70的最下部70b限定了两处理用面1、2间的间隔宽度的下限。即，活塞体72与汽缸空间部70的最下部70b作为抑制两处理用面1、2接近的接近抑制部而发挥作用，更换言之，作为限制两处理用面1、2间的间隔的最小分开量的机构而发挥作用。这样，一边限定上述间隔的最大及最小的分开量，一边可通过上述喷嘴73、74的空气压来调整汽缸体7与汽缸空间部70的最上部70a的间隔zl，换言之，调整汽缸体7与汽缸空间部70的最下部70b的间隔z2。喷嘴73、74可以与另一个压力源连接，也可以通过切换或转接连接于一个压力源。并且，压力源可以是供给正压或供给负压的任一种装置。在真空等负压源与喷嘴73、74相连接的情况下，形成与上述动作相反的动作。取代上述的其他接触表面压力施加机构4或者作为上述的接触表面压力施加机构4的一部分，设置这样的汽缸机构7，根据被处理流体的粘度及其特性，进行与喷嘴73、7421相连接的压力源的压力及间隔zl、z2的设定，使流体液膜的厚度达到所期望的值，施以剪切力，实现均匀的反应，可生成微小的粒子。特别是，通过这样的汽缸机构7，可以在清洗及蒸汽灭菌等时候进行滑动部的强制开闭，可提高清洗及灭菌的可靠性。如图16(A)(C)所示，可以在第一处理用构件10的第一处理用面1上形成槽状凹部13...13，该槽状凹部13...13从第一处理用构件10的中心侧朝向外侧延伸，即在径向上延伸。在该情况下，如图16(A)所示，凹部13...13可作为在第一处理用面1上弯曲或螺旋状延伸的部分来实施，如图16(B)所示，也可以实施为各个凹部13弯曲为L字型的槽，并且，如图16(C)所示，凹部13...13也可实施为呈直线放射状延伸的槽。另外，如图16(D)所示，优选图16(A)(C)的凹部13以成为朝向第一处理用面1的中心侧逐渐加深的凹部的方式倾斜而形成。并且，槽状的凹部13除了可以是连续的槽之外，也可是间断的槽。通过形成这样的凹部13，具有应对被处理流体的排出量的增加或发热量的减少、空蚀控制以及流体轴承等效果。在上述图16所示的各实施方式中，凹部13虽然形成在第一处理用面1上，但也可实施为形成在第二处理用面2上，并且，也可实施为形成在第一及第二处理用面1、2双方上。在处理用面上未设置上述凹部13或锥度的情况下，或者，在使它们偏置于处理用面的一部分的情况下，处理用面1、2的表面粗糙度对被处理流体施加的影响比形成上述凹部13的装置大。所以，在这样的情况下，如果要使被处理流体的粒子变小，就必须降低表面粗糙度，即形成光滑的面。特别是，在以均匀反应为目的的情况下，对于其处理用面的表面粗糙度，在以实现均匀的反应并获得微粒子为目的的情况下，前述镜面、即施加了镜面加工的面有利于实现微小的单分散的反应物的结晶或析出。在图13至图17所示的实施方式中，特别明示以外的结构与图1(A)或图11(C)所示实施方式相同。另外，在上述各实施方式中，壳体内全部密封，但是，除此以外，也可实施为，仅第一处理用构件10及第二处理用构件20的内侧被密封，其外侧开放。即，直到通过第一处理用面1及第二处理用面2之间为止，流路被密封，被处理流体承受全部输送压力，但是，在通过后，流路被打开，处理后的被处理流体不承受输送压力。在流体压力施加机构pl中，作为加压装置，如上所述，优选使用压縮机实施，但是，只要能一直对被处理流体施加预定的压力，也可使用其他的装置实施。例如，可以通过如下装置实施，即，利用被处理流体的自重，一直对被处理流体施加一定的压力的装置。概括上述各实施方式中的处理装置，其特征为，对被处理流体施加预定的压力，在承受该预定压力的被处理流体所流动的被密封的流体流路中，连接第一处理用面1及第二处理用面2至少2个可接近和分离的处理用面，施加使两处理用面1、2接近的接触表面压力，通过使第一处理用面1与第二处理用面2相对地旋转，利用被处理流体产生机械密封中用于密封的流体膜，与机械密封相反(不是将流体膜用于密封)，使该流体膜从第一处理用面1及第二处理用面2之间漏出，在两面1、2间成为膜的被处理流体间，实现反应处理并回收。通过上述划时代的方法，可将两处理用面1、2间的间隔调整为1y至lmm，尤其是可进行1lOii的调整。在上述实施方式中，装置内构成被密封的流体的流路，利用在处理装置的(第一被处理流体的)导入部侧设置的流体压力施加机构P，对被处理流体加压。另外，也可以不用这样的流体压力施加机构p进行加压，而是通过被处理流体的流路被打开的装置来实施。图18至图20表示这样的处理装置的一个实施方式。另外，在该实施方式中，示例有作为处理装置的、具有除气功能的装置，即，具有从作为处理物而生成的物质中除去液体，最终仅确保作为目的的固体(结晶)的机能的装置。图18(A)为处理装置的简略纵剖视图，图18(B)是其局部放大剖视图。图19是备有图18所示的处理装置的第一处理用构件1的俯视图。图20是上述处理装置的第一及第二处理用构件1、2的主要部分的局部纵剖视图。该图18至图20中所示的装置如上所述，在大气压下，投入作为处理对象的流体，即被处理流体或搬送这样处理对象物的流体。另外，图18(B)及图20中，为避免图面的繁杂，省略了第二导入部d2的描画(也可看成剖面处于不设有第二导入部d2位置)。如图18(A)所示，该处理装置具备反应装置G及减压泵Q。该反应装置G具备作为旋转构件的第一处理用构件101;保持该处理用构件101的第一托架111;作为相对于壳体被固定的构件的第二处理用构件102;固定该第二处理用构件102的第二托架121;施力机构103;动压发生机构104(图19(A));使第一处理用构件101与第一托架111一同旋转的驱动部；壳体106;供给(投入)第一被处理流体的第一导入部dl;向减压泵Q排出流体的排出部108。关于驱动部省略其图示。上述第一处理用构件101及第二处理用构件102分别是具有挖空圆柱中心的形状的环状体。两处理用构件101U02是分别把两处理用构件101U02所呈圆柱的一个底面作为处理用面110、120的构件。上述处理用面110、120具有被镜面研磨的平坦部。在该实施方式中，第二处理用构件102的处理用面120是整个面都实施了镜面研磨的平坦面。另外，虽然使第一处理用构件101的处理用面110的整个面成为与第二处理用构件102相同的平坦面，但是，如图19(A)所示，在平坦面中，有多个沟槽112...112。该沟槽112...112以第一处理用构件IOI所呈圆柱的中心为中心侧，向圆柱的外周方向放射状地延伸。有关上述第一及第二处理用构件101、102的处理用面110、120的镜面研磨，优选表面粗糙度为RaO.011.0iim。更优选该镜面研磨达到RaO.030.3ym。有关处理用构件101U02的材质，采用硬质且可以镜面研磨的材料。有关处理用构件101U02的该硬度，优选为至少维式硬度1500以上。并且，优选采用线膨胀系数小的原料或热传导高的原料。这是由于，在处理时产生热量的部分与其他部分之间，如果膨胀率的差较大，就会发生变形，从而影响适当间隔的确保。作为上述处理用构件101U02的原料，尤其优选采用以下物质等SIC即碳化硅，其维式硬度为20002500;表面以DLC即类钻碳涂层的SIC，其中类钻碳的维式硬度为30004000;WC即碳化钨，其维式硬度为1800;表面施加了DLC涂层的WC、ZrB2或以BTC、B4C为代表的硼系陶瓷，维式硬度为40005000。23图18所示的壳体106虽省略了底部的图示，但是为有底的筒状体，上方被上述第二托架121覆盖。第二托架121在其下表面固定上述第二处理用构件102，在其上方设有上述导入部dl。导入部dl备有料斗170，该料斗170用于从外部投入流体或被处理物。虽未图示，上述的驱动部具备电动机等动力源以及从该动力源接受动力供给而旋转的轴50。如图18(A)所示，轴50配置于壳体106的内部朝上下延伸。并且，轴50的上端部设有上述第一托架111。第一托架111是保持第一处理用构件101的装置，通过设置在上述轴50上，使第一处理用构件101的处理用面110与第二处理用构件102的处理用面120相对应。第一托架111为圆柱状体，在其上表面中央固定有第一处理用构件101。第一处理用构件101与第一托架111成为一体地被固定，相对于第一托架111不改变其位置。另一方面，在第二托架121的上表面中央形成有收容第二处理用构件102的收容凹部124。上述收容凹部124具有环状的横剖面。第二处理用构件102以与收容凹部124同心的方式收容在圆柱状的收容凹部124内。该收容凹部124的结构与图1(A)所示的实施方式相同(第一处理用构件101对应第一圆环IO，第一托架111对应第一托架ll，第二处理用构件102对应第二圆环20，第二托架121对应第二托架21)。并且，该第二托架121具备上述施力机构103。优选施力机构103使用弹簧等弹性体。施力机构103与图1(A)的接触表面压力施加机构4对应，采用同样结构。S卩，施力机构103推压与第二处理用构件102的处理用面120相反侧的面、即底面，对位于第一处理用构件101侦U、即下方的第二处理用构件102的各位置均等地施力。另一方面，收容凹部124的内径大于第二处理用构件102的外径，由此，当如上所述同心地配置时，在第二处理用构件102的外周面102b与收容凹部124的内周面之间，如图18(B)所示那样，设定间隔tl。同样，在第二处理用构件102的内周面102a与收容凹部124的中心部分22的外周面之间，如图18(B)所示那样，设定间隔t2。上述间隔tl、t2分别用于吸收振动及偏心举动，其大小以如下方式设定，即，大于等于能够确保动作的尺寸并且可以形成密封。例如，在第一处理用构件IOI的直径为100mm至400mm的情况下，优选该间隔tl、t2分别为0.050.3mm。第一托架111被一体地固定在轴50上，与轴50—起旋转。另外，虽未图示，利用制动器，第二处理用构件102不会相对于第二托架121旋转。但是，在两处理用面110U20间，为了确保处理所必需的0.110微米的间隔，即如图20(B)所示的微小间隔t，在收容凹部124的底面、即顶部以及面向第二处理用构件102的顶部124a的面、即上面之间，设有间隔t3。对于该间隔t3，与上述间隔一起，考虑轴150振动及伸长而设定。如上所述，通过间隔tlt3的设定，第一处理用构件101不仅在相对于第二处理用构件102接近和分离的方向上可变，其处理用面110的中心及朝向即方向zl、z2也为可变。S卩，在该实施方式中，施力机构103和上述间隔tlt3构成浮动机构，通过该浮24理用构件102的中心及倾斜可以在从数微米至数毫米左右的很小量的范围内变动。由此，吸收旋转轴的芯振动、轴膨胀、第一处理用构件101的面振动和振动。对第一处理用构件101的研磨用面110所备有的上述沟槽112，进一步详细地说明如下。沟槽112的后端到达第一处理用构件101的内周面101a，其前端朝着第一处理用构件101的外侧y即外周面侧延伸。该沟槽112如图19(A)所示，其横截面积从环状的第一处理用构件101的中心x侧朝着第一处理用构件101的外侧y即外周面侧逐渐减少。沟槽112的左右两侧面112a、112b的间隔wl从第一处理用构件101的中心x侧朝着第一处理用构件101的外侧y即外周面侧逐渐减小。并且，沟槽112的深度w2如图19(B)所示，从第一处理用构件101的中心x侧朝着第一处理用构件101的外侧y即外周面侧逐渐减小。即，沟槽112的底112c从第一处理用构件101的中心x侧朝着第一处理用构件101的外侧y即外周面侧逐渐变浅。这样，沟槽112的宽度及深度都朝着外侧y即外周面侧逐渐减小，从而使其横截面积朝着外侧y逐渐减小。并且，沟槽112的前端即y侧成为终点。即，沟槽112的前端即y侧不到达第一处理用构件101的外周面101b，在沟槽112的前端与外周面101b之间，隔着外侧平坦面113。该外侧平坦面113为处理用面110的一部分。在该图19所示的实施方式中，上述沟槽112的左右两侧面112a、112b及底112c构成流路限制部。该流路限制部、第一处理用构件101的沟槽112周围的平坦部以及第二处理用构件102的平坦部构成动压发生机构104。但是，也可仅对沟槽112的宽度及深度的其中任一方采用上述结构，减小其截面积。上述的动压发生机构104通过在第一处理用构件101旋转时穿过两处理用构件101、102间的流体，在两处理用构件101、102间可确保所希望的微小间隔，在使两处理用构件101、102分离的方向上产生作用力。通过上述动压的发生，可在两处理用面110、120间产生O.110iim的微小间隔。这样的微小间隔，虽可以根据处理的对象进行调整选择，但是，优选16iim，更优选12iim。在该装置中，通过上述微小间隔，可以实现以往不可能的均匀反应，并生成微粒子。沟槽112...112能够以如下方式实施，S卩，笔直地从中心x侧朝向外侧y延伸。但是，在该实施方式中，如图19(A)所示，对于第一处理用构件101的旋转方向r，沟槽112的中心x侧以比沟槽112的外侧y先行的方式、即位于前方的方式弯曲，使沟槽112延伸。通过上述沟槽112...112弯曲地延伸，可更有效地通过动压发生机构104产生分离力。下面，对该装置的动作进行说明。从料斗17投入的、通过第一导入部dl的第一被处理流体R通过环状的第二处理用构件102的中空部，受到第一处理用构件101的旋转所产生的离心力作用的流体进入两处理用构件101、102之间，在旋转的第一处理用构件101的处理用面110与第二处理用构件102的处理用面120之间，进行均匀的反应及微小粒子的生成处理，随后，来到两处理用构件101U02的外侧，通过排出部108排出至减压泵Q侧。以下，根据需要将第一被处理流体R仅称为流体R。在上述中，进入到环状第二处理用构件102的中空部的流体R如图20(A)所示，首25先，进入旋转的第一处理用构件101的沟槽112。另一方面，被镜面研磨的、作为平坦部的两处理用面110U20即使通过空气或氮气等气体也维持其气密性。所以，即使受到旋转所产生的离心力的作用，在该状态下，流体也不能够从沟槽112进入由施力机构103压合的两处理用面110、120之间。但是，流体R与作为流路限制部而形成的沟槽112的上述两侧面112a、112b及底112c慢慢地碰撞，产生作用于使分离两处理用面110、120分离的方向上的动压。如图20(B)所示，由此，流体R从沟槽112渗出到平坦面上，可确保两处理用面110、120间的微小间隔t即间隙。另外，在上述镜面研磨后的平坦面间，进行均匀的反应及微小粒子的生成处理。并且，上述沟槽112的弯曲更为切实地对流体作用离心力，更有效地产生上述的动压。如上所述，该处理装置通过动压与施力机构103所产生的施力力的平衡，能够在两镜面即处理用面110、120之间确保微小且均匀的间隔即间隙。而且，通过上述结构，该微小间隔可形成为1Pm以下的超微小间隔。另外，通过采用上述浮动机构，处理用面110U20间的定位的自动调整成为可能，对于因旋转及发热所引起的各部分的物理变形，能够抑制处理用面110U20间的各个位置的间隔的偏差，可维持该各个位置的上述微小间隔。再者，在上述实施方式中，浮动机构是仅在第二托架121上设置的机构。除此以外，还可以取代第二托架121，在第一托架111上也设置浮动机构，或者在第一托架111与第二托架121上都设置浮动机构。图21至图23表示上述的沟槽112的其他实施方式。如图21(A)(B)所示，沟槽112作为流路限制部的一部分，可在其前端具备平坦的壁面112d。并且，在该图14所示的实施方式中，在底112c上，在第一壁面112d与内周面101a之间设有台阶112e，该台阶112e也构成流路限制部的一部分。如图22(A)(B)所示，沟槽112可实施为，具有多个分叉的枝部112f...112f，各枝部112f通过縮小其宽度而具有流路限制部。在图14及图15的实施方式中，特别是对于没有示出的结构，与图1(A)、图ll(C)、图18至图20中所示的实施方式相同。并且，在上述各实施方式中，对于沟槽112的宽度及深度的至少其中一方，从第一处理用构件101的内侧朝向外侧，逐渐减小其尺寸，由此构成流路限制部。此外，如图23(A)及图23(B)所示，通过不变化沟槽112的宽度及深度在沟槽112中设置终端面112f，该沟槽112的终端面112f也可以形成流路限制部。如图19、图21及图22表示的实施方式所示，动压产生以如下方式进行，即，通过沟槽112的宽度及深度如前述那样变化，使沟槽112的底及两侧面成为倾斜面，由此，该倾斜面成为相对于流体的受压部，产生动压。另一方面，在图23(A)(B)所示实施方式中，沟槽112的终端面成为相对于流体的受压部，产生动压。另外，在该图23(A)(B)所示的情况下，也可同时使沟槽112的宽度及深度的至少其中一方的尺寸逐渐减小。再者，关于沟槽112的结构，并不限定于上述图19、图21至图23所示的结构，也可实施为具有其他形状的流路限制部的结构。例如，在图19、图21至图23所示结构中，沟槽112并不穿透到第一处理用构件101的外侧。即，在第一处理用构件101的外周面与沟槽112之间，存在外侧平坦面113。但是，26并不限定于上述实施方式，只要能产生上述的动压，沟槽112也可到达第一处理用构件101的外周面侧。例如，在图23(B)所示的第一处理用构件101的情况下，如虚线所示，可实施为，使剖面面积小于沟槽112的其他部位的部分形成于外侧平坦面113上。另外，如上所述，以从内侧向外侧逐渐减小截面积的方式形成沟槽112，使沟槽112的到达第一处理用构件101外周的部分(终端)形成最小截面积即可(未图示)。但是，为有效地产生动压，如图19、图21至图23所示，优选沟槽112不穿透第一处理用构件101的外周面侧。在此，对上述图18至图23所示的各种实施方式进行总结。该处理装置使具有平坦处理用面的旋转构件与同样具有平坦处理用面的固定构件的平坦处理用面同心地相对，在旋转构件的旋转下，一边从固定构件各自的开口部供给被反应原料，一边从两构件的相对的平面处理用面之间进行反应处理，在该处理装置中，不是机械地调整间隔，而是在旋转构件中设置增压机构，能够通过其产生的压力来保持间隔，并且形成机械的间隔调整所不可能达到的16iim的微小间隔，使生成粒子的微小化能力及反应的均匀化能力得到显著提高。S卩，在该处理装置中，旋转构件与固定构件在其外周部具有平坦处理用面，该平坦处理用面具有面上的密封机能，能够提供高速旋转式处理装置，该高速旋转式处理装置产生流体静力学的力即流体静力、流体动力学的力即流体动力、或者空气静力学_空气动力学的力。上述的力使上述密封面之间产生微小的间隔，并可提供具有如下功能的反应处理装置，即，非接触、机械安全、高度微小化及反应均匀化。能形成该微小间隔的要因，一个是旋转构件的转速，另一个是被处理物(流体)的投入侧与排出侧的压力差。在投入侧设置压力施加机构的情况下，在投入侧未设置压力施加机构的情况即在大气压下投入被处理物(流体)的情况下，由于无压力差，必须只依靠旋转构件的转速来产生密封面间的分离。这就是为人熟知的流体动力学的力或空气动力学的力。在图18(A)所示的装置中，虽表示为将减压泵Q连接在上述反应装置G的排出部，但也可如前面所述那样实施为，不设置壳体106，且不设置减压泵Q，而是如图24(A)所示，将处理装置作为减压用的容器T，在该容器T中配设反应装置G。在该情况下，通过使容器T内减压至真空或接近真空的状态，反应装置G中生成的被处理物成雾状地喷射到容器T内，通过回收碰到容器T的内壁而流下的被处理物，或，回收相对于上述流下的被处理物作为气体(蒸汽)被分离的、充满容器T上部的物质，可获得处理后的目的物。另外，在使用减压泵Q的情况下，如图24(B)所示，处理装置G经由减压泵Q连接气密的容器T，在该容器T内，处理后的被处理物形成雾状，可进行目的物的分离或抽出。此外，如图24(C)所示，减压泵Q直接连接于处理装置G，在该容器T内，连接减压泵Q以及与减压泵Q分开的流体R的排出部，可进行目的物的分离。在该情况下，对于气化部，液体R(液状部)被减压泵Q吸引聚集，通过排出部排出，从而不从汽化部排出。在上述各实施方式中，示出了如下装置，即，将第一及第二两种被处理流体分别从第二托架21、121及第二圆环20、102导入，使之混合并反应的装置。下面，对被处理流体向装置导入的其他实施方式按顺序进行说明。27如图1(B)所示，可实施为，在图1(A)所示的处理装置中，设置第三导入部d3，将第三被处理流体导入两处理用面1、2之间，使其与第二被处理流体同样地与第一被处理流体混合并反应。第三导入部d3向处理用面1、2供给与第一被处理流体混合的第三流体。在该实施方式中，第三导入部d3是设在第二圆环20内部的流体通道，其一端在第二处理用面2上开口，其另一端连接第三流体供给部P3。在第三流体供给部p3中，可采用压縮机、其他的泵。第三导入部d3在第二处理用面2上的开口部与第二导入部d2的开口部相比位于第一处理用面1的旋转中心的外侧。即，在第二处理用面2上，第三导入部d3的开口部较第二导入部d2的开口部位于下游侧。在第三导入部d3的开口部与第二导入部d2的开口之间，在第二圆环20的直径的内外方向上隔开间隔。该图1(B)所示的装置中，第三导入部d3以外的构成与图1(A)所示的实施方式相同。并且，在该图1(B)及下面说明的图1(C)、图1(D)、图2图11中，为避免图面的繁杂，省略了壳体3。并且，在图9(B)(C)、图10、图11(A)(B)中，描绘了壳体3的一部分。另外，如图1(C)所示，可实施为，在图1(B)所示处理装置中，设置第四导入部d4，将第四被处理流体导入两处理用面1、2之间，使其与第二及第三被处理流体同样地与第一被处理流体混合并反应。第四导入部d4向处理用面1、2供给与第一被处理流体混合的第四流体。在该实施方式中，第四导入部d4是设在第二圆环20内部的流体通道，其一端在第二处理用面2上开口，其另一端连接第四流体供给部p4。在第四流体供给部p4中，可采用压縮机、其他的泵。第四导入部d4在第二处理用面2上的开口部较第三导入部d3开口部位于第一处理用面l的旋转中心的外侧。即，在第二处理用面2上，第四导入部d4的开口部较第三导入部d3的开口部位于下游侧。对于图1(C)所示装置的第四导入部d4以外的结构，与图1(B)所示的实施方式相同。并且，虽未图示，也可实施为，另外设置第五导入部、第六导入部等五个以上的导入部，分别使五种以上的被处理流体混合并反应。另外，如图1(D)所示，可实施为，在图1(A)的装置中，将设置在第二托架21上的第一导入部dl与第二导入部d2同样地设置在第二处理用面2上，以取代将其设置在第二托架21上。在该情况下，在第二处理用面2上，第一导入部dl的开口部也较第二导入部d2位于旋转的中心侧即上游侧。在上述图1(D)所示的装置中，第二导入部d2的开口部与第三导入部d3的开口部一起配置在第二圆环20的第二处理用面2上。但是，导入部的开口部并不限于上述相对于处理用面进行的配置。特别是，可实施为，如图2(A)所示，将第二导入部d2的开口部设置在第二圆环20的内周面的、与第二处理用面邻接的位置。在该图2(A)所示的装置中，第三导入部d3的开口部虽与图1(B)所示装置同样地配置在第二处理用面2上，但是，也可通过将第二导入部d2的开口部配置在上述第二处理用面2的内侧，即与第二处理用面2邻接的位置，从而将第二被处理流体直接导入到处理用面上。28如上所述，通过将第一导入部dl的开口部设置在第二托架21上，将第二导入部d2的开口部配置在第二处理用面2的内侧，即与第二处理用面2邻接的位置(在该情况下，设置上述第三导入部d3不是必须的)，从而，特别是在使多个被处理流体反应的情况下，能够将从第一导入部dl导入的被处理流体与从第二导入部d2导入的被处理流体在不反应的状态下导入两处理用面1、2之间，并且可使两者在两处理用面1、2间初次发生反应。因此，上述结构特别适合于使用反应性高的被处理流体的情况。再者，上述的"邻接"并不仅限于以下情况，S卩，将第二导入部d2的开口部如图2(A)所示地以与第二圆环20的内侧侧面接触的方式设置。从第二圆环20至第二导入部d2的开口部为止的距离为以下程度即可，即，在多个的被处理流体被导入两处理用面1、2之间以往，不被完全混合或反应的程度，例如，也可以设置在接近第二托架21的第二圆环20的位置。并且，也可以将第二导入部d2的开口部设置在第一圆环10或第一托架11侧。另外，在上述的图1(B)所示的装置中，在第三导入部d3的开口部与第二导入部d2的开口之间，在第二圆环20的直径的内外方向隔开间隔，但也可实施为，如图2(A)所示，不设置上述间隔，将第二及第三被处理流体导入两处理用面1、2间，立刻使两流体合流。根据处理的对象选择上述图2(A)所示装置即可。另外，在上述的图1(D)所示的装置中，第一导入部dl的开口部与第二导入部d2的开口之间，在第二圆环20直径的内外方向隔开了间隔，但也可实施为，不设置该间隔，而将第一及第二被处理流体导入两处理用面1、2间，立刻使两流体合流。根据处理的对象选择这样的开口部的配置即可。在上述的图1(B)及图1(C)所示实施方式中，在第二处理用面2上，将第三导入部d3的开口部配置在第二导入部d2的开口部的下游侧，换言之，在第二圆环20的直径的内外方向上，配置在第二导入部d2的开口部的外侧。此外，如图2(C)及图3(A)所示，可实施为，在第二处理用面2上，将第三导入部d3的开口部配置于在第二圆环20的周方向rO上与第二导入部d2开口部不同的位置。在图3中，ml表示第一导入部dl的开口部即第一开口部，m2表示第二导入部d2的开口部即第二开口部，m3表示第三导入部d3的开口部(第三开口部)，rl为圆环直径的内外方向。并且，第一导入部dl设置在第二圆环上的情况也可实施为，如图2(D)所示，在第二处理用面2上，将第一导入部dl的开口部配置于在第二圆环20的周方向与第二导入部d2的开口部不同的位置。在上述图2(B)所示的装置中，在第二圆环20的处理用面2上，两个导入部的开口部被配置在周方向r0的不同位置，但是，也可实施为，如图3(B)所示，在圆环的周方向r0的不同位置配置3个导入部的开口部，或如图3(C)所示，在圆环的周方向rO的不同位置配置4个导入部的开口部。另外，在图3(B)(C)中，m4表示第四导入部的开口部，在图3(C)中，m5表示第五导入部的开口部。并且，虽未图示，也可实施为，在圆环的周方向rO的不同位置配置五个以上的导入部的开口部。在上述图2(B)(D)以及图3(A)(C)所示的装置中，第二导入部至第五导入部分别可导入不同的被处理流体，即第二、第三、第四、第五被处理流体。另一方面，可实施为，从第二第五的开口部m2m5，将全部同类的、即第二被处理流体导入处理用面之间。虽未图示，在该情况下，可实施为，第二导入部至第五导入部在圆环内部连通，并连接到一个流29体供给部，即第二流体供给部P2。另外，可以通过组合以下装置来实施，S卩，在圆环的周方向rO的不同位置设置多个导入部的开口部的装置，以及，在圆环直径方向即直径的内外方向rl的不同位置设置多个导入部的开口部的装置。例如，如图3(D)所示，在第二处理用面2上设有八个导入部的开口部m2m9，其中的四个m2m5设置在圆环的周方向r0的不同位置并且设置在直径方向rl上的相同位置，其他四个m5m8设置在圆环的周方向r0的不同位置并且设置在直径方向rl上的相同位置。并且，该其他的开口部m5m8在直径方向r上配置在上述四个开口部m2m5的直径方向的外侧。并且，该外侧的开口部虽可分别设置于在圆环的圆周方向rO上与内侧的开口部相同的位置，但是，考虑圆环的旋转，也可实施为，如图3(D)所示，设置在圆环的周方向rO的不同位置。另外，在该情况下，开口部可为图3(D)所示的配置及数量。例如，如图3(E)所示，也可将径方向外侧的开口部配置在多边形的顶点位置，即该情况下的四边形的顶点位置，将径方向内侧的开口部配置在该多边形的边上。当然，也可采用其他的配置。另外，在第一开口部ml以外的开口部都将第二被处理流体导入处理用面之间的情况下，可以实施为，各导入第二被处理流体的该开口部不是在处理用面的周方向r0上散布，而是如图3(F)所示，在周方向r0上形成连续的开口部。再者，根据处理的对象，如图4(A)所示，可实施为，在图1(A)所示的装置中，将设置在第二圆环20上的第二导入部d2与第一导入部dl同样地设置在第二托架21的中央部分22。在该情况下，相对于位于第二圆环20的中心的第一导入部dl的开口部，第二导入部d2的开口部位于其外侧，并隔开间隔。并且，如图4(B)所示，可实施为，在图4(A)所示的装置中，将第三导入部d3设置于第二圆环20。如图4(C)所示，可实施为，在图3(A)所示的装置中，第一导入部dl的开口部与第二导入部d2的开口部之间不设置间隔，将第二及第三被处理流体导入第二圆环20内侧的空间后，立即使两流体合流。另外，根据处理的对象，可实施为，如图4(D)所示，在图3(A)所示的装置中，和第二导入部d2相同，第三导入部d3也设置在第二托架21上。虽未图示，但是，也可实施为，在第二托架21上设置四个以上的导入部。并且，根据处理的对象，如图5(A)所示，可实施为，在图4(D)所示的装置中，在第二圆环20上设置第四导入部d4，将第四被处理流体导入两处理用面1、2之间。如图5(B)所示，可实施为，在图1(A)所示的装置中，将第二导入部d2设置于第一圆环IO，在第一处理用面1上备有第二导入部d2的开口部。如图5(C)所示，可实施为，在图5(B)所示的装置中，第一圆环10上设有第三导入部d3，在第一处理用面1上，第三导入部d3的开口部配置在与第二导入部d2的开口部在第一圆环10的周方向上不同的位置。如图5(D)所示，可实施为，在图5(B)所示的装置中，取代在第二托架21上设置第一导入部dl，在第二圆环20上设置第一导入部dl，在第二处理用面2上配置第一导入部dl的开口部。在该情况下，第一及第二导入部dl、d2的两开口部在圆环直径的内外方向上配置在相同位置。另外，如图6(A)所示，也可实施为，在图1(A)所示的装置中，第三导入部d3设置30于第一圆环IO，第三导入部d3的开口部设置在第一处理用面1上。在该情况下，第二及第三导入部d2、d3的两开口部在圆环直径的内外方向上配置在相同位置。但是，也可以将上述两开口部在圆环的直径的内外方向上配置于不同的位置。图5(C)所示的装置中，虽然在第一圆环10的直径的内外方向上设置在相同的位置，同时在第一圆环IO的周方向即旋转方向上设置在不同的位置，但是，也可实施为，在该装置中，如图6(B)所示，将第二及第三导入部d2、d3的两开口部在第一圆环10的直径的内外方向上设置在不同的位置。在该情况下，可实施为，如图6(B)所示，在第二及第三导入部d2、d3的两开口部之间，在第一圆环10的直径的内外方向上预先隔开间隔，另夕卜，虽未图示，也可实施为，不隔开该间隔，立即使第二被处理流体与第三被处理流体合流。另外，可实施为，如图6(C)所示，取代在第二托架21上设置第一导入部dl，而是与第二导入部d2—起，将第一导入部dl设置在第一圆环10上。在该情况下，在第一处理用面1中，第一导入部dl的开口部设置在第二导入部d2的开口部的上游侧(第一圆环11的直径的内外方向的内侧)。在第一导入部dl的开口部与第二导入部d2的开口部之间，在第一圆环11的直径的内外方向上预先隔开间隔。但是，虽未图示，也可不隔开该间隔地实施。另外，可实施为，如图6(D)所示，在图6(C)所示装置的第一处理用面1中，在第一圆环10的周方向的不同位置，分别配置第一导入部dl及第二导入部d2的开口部。另外，虽未图示，在图6(C)(D)所示的实施方式中，可实施为，在第一圆环10上设置3个以上的导入部，在第二处理用面2上的周方向的不同位置，或者，在圆环直径的内外方向的不同位置，配置各开口部。例如，也可在第一处理用面1中采用第二处理用面2中所采用的图3(B)图3(F)所示开口部的配置。如图7(A)所示，可实施为，在图1(A)所示的装置中，取代在第二圆环20上设置第二导入部d2，在第一托架11上设置第二导入部。在该情况下，在被第一托架11上面的第一圆环IO所包围的部位中，优选在第一圆环10的旋转的中心轴的中心配置第二导入部d2的开口部。如图7(B)所示，在图7(A)所示的实施方式中，可将第三导入部d3设置于第二圆环20，将第三导入部d3的开口部配置在第二处理用面2上。另外，如图7(C)所示，可实施为，取代在第二托架21上设置第一导入部dl，在第一托架11上设置第一导入部dl。在该情况下，在被第一托架11上面的第一圆环10所包围的部位中，优选在第一圆环10的旋转的中心轴上配置第一导入部dl的开口部。另外，在该情况下，如图所示，可将第二导入部d2设置于第一圆环10，将其开口部配置在第一处理用面1上。另外，虽未图示，在该情况下，可将第二导入部d2设置于第二圆环20，在第二处理用面2上配置其开口部。并且，如图7(D)所示，可实施为，将图7(C)所示的第二导入部d2与第一导入部dl一起设置在第一托架11上。在该情况下，在被第一托架11上面的第一圆环io所包围的部位中，配置第二导入部d2的开口部。另外，在该情况下，在图7(C)中，也可把第二圆环20上设置的第二导入部d2作为第三导入部d3。在上述图1图7所示的各实施方式中，第一托架11及第一圆环10相对于第二托架21及第二圆环20旋转。此外，如图8(A)所示，可实施为，在图1(A)所示的装置中，在第二托架2上设置接受来自旋转驱动部的旋转力而旋转的旋转轴51，使第二托架21在与第一托架11相反的方向上旋转。旋转驱动部也可以与使第一托架11的旋转轴50旋转的装置分开设置，或者作为如下装置实施，即，该装置通过齿轮等动力传递机构，从使第一托架11的旋转轴50旋转的驱动部接受动力。在该情况下，第二托架2与上述壳体分体地形成，并与第一托架11同样地可旋转地收容在该壳体内。并且，如图8(B)所示，可实施为，在图8(A)所示的装置中，与图7(B)的装置同样，在第一托架11上设置第二导入部d2，以取代在第二圆环20上设置第二导入部d2。另外，虽未图示，也可实施为，图8(B)所示的装置中，在第二托架21上设置第二导入部d2，以取代在第一托架11上设置第二导入部d2。在该情况下，第二导入部d2与图7(A)的装置相同。如图8(C)所示，也可实施为，在图8(B)所示的装置中，在第二圆环20上设置第三导入部d3，将该导入部d3的开口部设置在第二处理用面2上。并且，如图8(D)所示，也可实施为，不使第一托架11旋转，仅旋转第二托架21。虽未图示，也可实施为，在图1(B)图7所示的装置中，第二托架21与第一托架11都旋转，或仅第二托架21单独旋转。如图9(A)所示，第二处理用构件20为圆环，第一处理用构件10不是圆环，而是与其他的实施方式的第一托架11同样的、直接具有旋转轴50并旋转的构件。在该情况下，将第一处理用构件IO的上表面作为第一处理用面l，该处理用面不是环状，即不具备中空部分，形成一样的平坦面。并且，在图9(A)所示的装置中，与图1(A)的装置同样，第二圆环20上设有第二导入部d2，其开口部配置在第二处理用面2上。如图9(B)所示，可实施为，在图9(A)所示的装置中，第二托架21与壳体3独立，在壳体3与该第二托架21之间，设置接触表面压力施加机构4，该接触表面压力施加机构4是使第二托架21向设有第二圆环20的第一处理用构件10接近和分离的弹性体等。在该情况下，如图9(C)所示，第二处理用构件20不形成圆环，作为相当于上述第二托架21的构件，可将该构件的下表面作为第二处理用面2。并且，如图10(A)所示，可实施为，在图9(C)所示的装置中，第一处理用构件10也不形成圆环，与图9(A)(B)所示装置一样，在其他的实施方式中，将相当于第一托架11的部位作为第一处理用构件IO，将其上表面作为第一处理用面1。在上述各实施方式中，至少第一被处理流体是从第一处理用构件10与第二处理用构件20即第一圆环10与第二圆环20的中心部供给的，通过利用其他的被处理流体所进行的处理，即混合及反应后，被排出至其直径的内外方向的外侧。此外，如图10(B)所示，也可实施为，从第一圆环10及第二圆环20的外侧朝向内侧供给第一被处理流体。在该情况下，如图所示，以壳体3密封第一托架11及第二托架21的外侧，将第一导入部dl直接设置于该壳体3，在壳体的内侧，该导入部的开口部配置在与两圆环10、20的对接位置相对应的部位。并且，图1(A)的装置中，在设有第一导入部dl的位置，即成为第一托架11的圆环1的中心的位置，设有排出部36。另外，夹着托架的旋转的中心轴，在壳体的该开口部的相反侧配置第二导入部d2的开口部。但是，第二导入部d2的开口部与第一导入部dl的开口部相同，只要是在壳体的内侧并且配置在与两圆环10、20的对接位置相对应的部位即可，而不限定为上述那样的形成在第一导入部dl的开口部的相反侧。预先设置处理后的生成物的排出部36。在该情况下，两圆环10、20的直径的外侧成为上游侧，两圆环10、20的内侧成为下游侧。如图10(C)所示，可实施为，在图10(B)所示的装置中，改变设置于壳体3的侧部的第二导入部d2的位置，将其设置于第一圆环ll，并将其开口部配置在第一处理用面1上。在该情况下，如图10(D)所示，可实施为，第一处理用构件10不形成圆环，与图9(B)、图9(C)及图10(A)所示装置相同，在其他的实施方式中，将相当于第一托架11的部位作为第一处理用构件10，将其上表面作为第一处理用面1，并且，将第二导入部d2设置于该第一处理用构件10内，将其开口部设置在第一处理用面1上。如图11(A)所示，可实施为，在图10(D)所示的装置中，第二处理用构件20不形成圆环，在其他的实施方式中，将相当于第二托架21的构件作为第二处理用构件20，将其下表面作为第二处理用面2。而且，可以实施为，将第二处理用构件20作为与壳体3独立的构件，在壳体3与第二处理用构件20之间，与图9(C)(D)以及图10(A)所示装置相同，设有接触表面压力施加机构4。另外，如图11(B)所示，也可实施为，将图11(A)所示装置的第二导入部d2作为第三导入部d3，另外设置第二导入部d2。在该情况下，在第二处理用面2中，将第二导入部d2的开口部相比第三导入部d3的开口部配置在上游侧。上述图4所示的各装置、图5(A)、图7(A)(B)(D)、图8(B)(C)所示装置是其他被处理流体在到达处理用面1、2间之前与第一被处理流体合流的装置，不适合结晶及析出的反应快速的物质。但是，对于反应速度慢的物质则可采用这样的装置。关于适合本申请所涉及的方法发明的实施的处理装置，归纳如下。如上所述，该处理装置具有流体压力施加机构，该流体压力施加机构对被处理流体施加预定压力；第一处理用构件10和第二处理用构件20至少2个处理用构件，该第一处理用构件10设置在该预定压力的被处理流体流动的被密封的流体流路中，该第二处理用构件20相对于第一处理部10能够相对地接近和分离；该第一处理用面1及第二处理用面2至少2个处理用面，第一处理用面1及第二处理用面2至少2个处理用面在上述处理用构件10、20中设置在相互面对的位置；旋转驱动机构，该旋转驱动机构使第一处理用构件10与第二处理用构件20相对地旋转；在两处理用面1、2间，进行至少2种被处理流体的混合及反应的处理。在第一处理用构件10和第二处理用构件20中，至少第二处理用构件20具有受压面，并且该受压面的至少一部分由第二处理用面2构成，受压面承受流体压力施加机构赋予被处理流体的至少一方的压力，在第二处理用面2从第一处理用面1分离的方向上，产生使其移动的力。而且，在该装置中，在可接近和分离且相对地旋转的第一处理用面1与第二处理用面2之间，流过受上述压力作用的被处理流体，由此，各被处理流体一边形成预定膜厚的流体膜一边通过两处理用面1、2之间，从而，在该被处理流体间产生所希望的反应。另外，在该处理装置中，优选采用具备缓冲机构的装置，该缓冲机构调整第一处理用面1及第二处理用面2的至少一方的微振动或定位。另外，在该处理装置中，优选采用具备位移调整机构的结构，该位移调整机构调整第一处理用面1及第二处理用面2的一方或双方的、由磨耗等导致的轴方向的位移，可维持两处理用面1、2间的流体膜的膜厚。并且，在该处理装置中，作为上述的流体压力施加机构，可采用对被处理流体施加一定的送入压力的压縮机等加压装置。而且，上述加压装置采用能进行送入压力的增减的调整的装置。该加压装置需能将设定的压力保持一定，但是，作为调整处理用面之间的间隔的参数，也有必要能进行调整。另外，在该处理装置中，可以采用具有分离抑制部的结构，该分离抑制部规定上述第一处理用面1与第二处理用面2之间的最大间隔，抑制最大间隔以上的两处理用面1、2分离。此外，在该处理装置中，可以采用具有接近抑制部的结构，接近抑制部规定上述第一处理用面1与第二处理用面2之间的最小间隔，抑制最小间隔以下的两处理用面1、2的接近。并且，在该处理装置中，可以采用以下结构，即，第一处理用面1与第二处理用面2双方朝着相互相反的方向旋转。另外，在该处理装置中，可以采用具有温度调整用的封套的结构，该温度调整用的封套调整上述第一处理用面1与第二处理用面2的一方或双方的温度。此外，在该处理装置中，优选采用以下结构，S卩，上述第一处理用面1与第二处理用面2的一方或双方的至少一部分进行了镜面加工。在该处理装置中，可以采用以下结构，S卩，上述第一处理用面1与第二处理用面2的一方或双方具有凹部。并且，在该处理装置中，优选采用以下结构，S卩，作为使一方的被处理流体反应的另一方的被处理流体的供给手段，具有与一方的被处理流体的通道独立的另外的导入路，在上述第一处理用面1与第二处理用面2的至少任意一方上，具有与上述另外的导入路相通的开口部，可以将从该另外的导入路送来的另一方的被处理流体导入上述一方的被处理流体。另外，实施本申请发明的处理装置具有流体压力施加机构，该流体压力施加机构对被处理流体施加预定的压力；第一处理用面1及第二处理用面2至少两个可相对的接近和分离的处理用面，第一处理用面1及第二处理用面2与该预定压力的被处理流体流动的被密封的流体流路连接；接触表面压力施加机构，该接触表面压力施加机构对两处理用面1、2施加接触表面压力；旋转驱动机构，该旋转驱动机构使第一处理用面l及第二处理用面2相对旋转；由于具有上述结构，在两处理用面1、2之间，进行至少两种的被处理流体的反应处理，实施本申请发明的处理装置可以采用以下结构，即，在被施加接触表面压力的同时相对旋转的第一处理用面1及第二处理用面2之间，流过从流体压力施加机构施加压力的至少一种被处理流体，并且，通过流过另一种被处理流体，从流体压力施加机构被施加压力的上述1种被处理流体一边形成预定膜厚的流体膜，一边通过两处理用面1、2之间，此时，该另一种被处理流体被混合，在被处理流体间，发生所希望的反应。该接触表面压力施加机构可以构成上述装置的调整微振动及定位的缓冲机构或位移调整机构。并且，作为实施本申请发明的处理装置，可以采用以下装置，S卩，该装置具有第一导入部，该第一导入部将反应的2种被处理流体中的至少一方的被处理流体导入该装置；流体压力施加机构P，该流体压力施加机构P连接于第一导入部并向该一方的被处理流体施加压力；第二导入部，该第二导入部将反应的2种被处理流体中的至少其他一方的被处理流体导入该装置；至少2个处理用构件，该至少2个处理用构件为设置于该一方的被处理流体流动的被密封的流体流路的第一处理用构件10和相对于第一处理用构件10可相对接近和分离的第二处理用构件；第一处理用面1及第二处理用面2至少2个处理用面，第一处理用面1及第二处理用面2在这些处理用构件10、20中设置在相互相向的位置；托架21，该托架21以第二处理用面2露出的方式收容第二处理用构件20;旋转驱动机构，该旋转驱动机构使第一处理用构件10与第二处理用构件20相对旋转；接触表面压力施加机构4，该接触表面压力施加机构4推压第二处理用面2，使第二处理用面2相对于第一处理用面1处于压接或接近的状态；在两处理用面1、2之间，进行被处理流体间的反应处理，上述托架21是不可动体，在具有上述第一导入部的开口部的同时，对处理用面1、2间的间隔施加影响，第一处理用构件10与第二导入部20的至少一方具有上述第二导入部的开口部，第二处理用构件20为环状体，第二处理用面2相对于托架21滑动，与第一处理用面1接近和分离，第二处理用构件20具有受压面，受压面受到流体压力施加机构p施加于被处理流体的压力的作用，在使第二处理用面2从第一处理用面1分离的方向上产生使其移动的力，上述受压面的至少一部分由第二处理用面2构成，在可接近和分离且相对旋转的第一处理用面1与第二处理用面2之间，被施加了压力的一方的被处理流体通过，同时，通过将另外一方的被处理流体供给到两处理用面1、2之间，两被处理流体一边形成预定膜厚的流体膜一边从两处理用面1、2间通过，通过中的被处理流体混合，从而促进被处理流体间的所希望的反应，通过接触表面压力施加机构4的接触表面压力与流体压力施加机构p所施加的流体压力的使两处理用面1、2之间分离的力的平衡，在两处理用面1、2间保持产生上述预定膜厚的流体膜的微小间隔。该处理装置也可实施为，第二导入部也与连接于第一导入部一样地连接于另外的流体压力施加机构，从而被加压。并且，也可实施为，从第二导入部导入的被处理流体不是被另外的流体压力施加机构加压，而是被第二导入部中产生的负压吸引并供给到两处理用面1、2间，上述负压是由第一导入部所导入的被处理流体的流体压力所产生的。并且，也可实施为，该另一方的被处理流体在第二导入部内通过其自重移动，即从上方流向下方，从而被供给至处理用面1、2之间。如上所述，不仅限于将第一导入部的开口部设置在第二托架上，也可将第一导入部的该开口部设置在第一托架上，上述第一导入部的开口部成为一方的被处理流体的向装置内的供给口。另外，也可实施为，将第一导入部的该开口部形成在两处理用面的至少一方。但是，在以下情况下，即，根据反应，有必要从第一导入部供给必须先导入处理用面1、2间的被处理流体的情况下，形成另一方的被处理流体的装置内的供给口的第二导入部的开口部无论位于哪一个处理用面，相比上述第一导入部的开口部都必须配置在下游侧的位置。并且，作为用于实施本申请发明的处理装置，可采用以下的装置。该处理装置具有多个的导入部，该多个的导入部分别导入反应的2种以上的被处理流体；流体压力施加机构P，该流体压力施加机构对该2种以上的被处理流体的至少一种施加压力；至少2个处理用构件，该至少2个处理用构件是设置在该被处理流体流动的被密封的流体流路中的第一处理用构件10与可相对于第一处理用构件10接近和分离的第二35处理用构件20;第一处理用面1及第二处理用面2至少2个处理用面1、2，该第一处理用面1及第二处理用面2设置在这些处理用构件10、20中相互面对的位置；旋转驱动机构，该旋转驱动机构使第一处理用构件10与第二处理用构件20相对旋转；在两处理用面1、2间，进行被处理流体间的反应处理，在第一处理用构件10与第二处理用构件20中，至少第二处理用构件20具有受压面，并且，该受压面的至少一部分由第二处理用面2构成，受压面受到流体压力施加机构施加于被处理流体的压力，在使第二处理用面2从第一处理用面1分离方向上产生使其移动的力，并且，第二处理用构件20具有朝向与第二处理用面2相反侧的接近用调整面24，接近用调整方面24受到施加在被处理流体上的预定的压力，在使第二处理用面2向第一处理用面1接近的方向上产生使其移动的力，通过上述接近用调整面24的接近和分离方向的投影面积与上述受压面的接近和分离方向的投影面积的面积比，决定第二处理用面2相对于第一处理用面1向分离方向移动的力，该力作为从被处理流体所受到的全压力的合力，被赋予了压力的被处理流体在可接近和分离且相对旋转的第一处理用面l与第二处理用面2之间通过，在该被处理流体中反应的其他被处理流体在两处理用面之间混合，混合的被处理流体一边形成预定膜厚的流体膜一边通过两处理用面1、2之间，从而在通过处理用面之间的过程中获得希望的反应生成物。另外，对本申请发明的处理方法归纳如下。该处理方法为赋予第一被处理流体预定的压力，将第一处理用面1及第二处理用面2至少2个可相对接近和分离的处理用面连接于接受上述预定压力的被处理流体所流动且被密封的流体流路，施加使两处理用面1、2接近的接触表面压力，使第一处理用面1与第二处理用面2相对地旋转，且将被处理流体导入该处理用面1、2之间，通过与上述分开的流路，将与该被处理流体反应的第二被处理流体导入上述处理用面1、2之间，使两被处理流体反应，至少将施加于第一被处理流体的上述预定的压力作为使两处理用面1、2分离的分离力，通过使该分离力与上述接触表面压力经由处理用面1、2间的被处理流体达到平衡，从而在两处理用面1、2之间维持预定的微小间隔，被处理流体成为预定厚度的流体膜并通过两处理用面1、2之间，在该通过过程中均匀地进行两被处理流体的反应，在伴有析出的反应的情况下，可结晶或析出希望的反应生成物。以下，对本申请发明的其他实施方式进行说明。图25是在可接近和分离的、至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间使反应物反应的反应装置的简略化剖视图。图26的(A)为图25所示装置的第一处理用面的简略化俯视图，(B)为图25所示装置的处理用面的主要部分的放大图。图27的(A)为第二导入通道的剖视图，(B)是用于说明第二导入通道的处理用面的主要部分的放大图。在图25中，U表示上方，S表示下方。图26(A)、图27(B)中，R表示旋转方向。在图27(B)中，C表示离心力的方向(半径方向)。该装置使用至少两种流体，其中至少一种流体含有至少一种反应物，在可接近和分离的相互面对地配设并且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间，使上述各流体合流并形成薄膜流体，在该薄膜流体中使上述反应物反应。如图25所示，该装置具有第一托架11、在第一托架11上方配置的第二托架21、流体压力施加机构P、及接触表面压力施加机构。接触表面压力施加机构由弹簧43及空气导入部44构成。在第一托架11上设有第一处理用构件10及旋转轴50。第一处理用构件10是称为配合环的环状体，具有被镜面加工的第一处理用面1。旋转轴50以螺栓等固定件81固定在第一托架11的中心，其后端与电动机等旋转驱动装置82(旋转驱动机构)连接，将旋转驱动装置82的驱动力传递给第一托架ll，从而使该第一托架11旋转。第一处理用构件10与上述第一托架11一体地旋转。在第一托架11的上部，设有可以收容第一处理用构件10的收容部，通过嵌入该收容部内，第一处理用构件10安装在第一托架11上。并且，第一处理用构件10通过止转销83固定，从而不相对于第一托架11旋转。但是，也可以取代止转销83，以热压配合等方法固定，从而使其不旋转。上述第一处理用面1从第一托架11露出，朝向第二托架21。第一处理用面的材质采用陶瓷或烧成金属；耐磨钢；对其他金属实施了硬化处理的材料；或者，涂敷、包覆、电镀有硬质材料的材料。在第二托架21上设有第二处理用构件20;从处理用构件内侧导入流体的第一导入部dl;作为接触表面压力施加机构的弹簧43;以及，空气导入部44。第二处理用构件20是称为压縮环的环状体，具有被镜面加工过的第二处理用面2以及受压面23(以下称其为分离用调整面23)，该受压面23位于第二处理用面2的内侧并与该第二处理用面2邻接。如图所示，该分离用调整面23为倾斜面。对第二处理用面2所施加的镜面加工采用与第一处理用面1相同的方法。另外，第二处理用构件20的材质采用与第一处理用构件10相同的材质。分离用调整面23与环状的第二处理用构件20的内周面25邻接。在第二托架21的底部(下部)，形成圆环收容部41，O形圆环与第二处理用构件20同时被收容在该圆环收容部41内。并且，通过止转销84，第二处理用构件20相对于第二托架21不旋转地被收容。上述第二处理用面2从第二托架21露出。在该状态下，第二处理用面2与第一处理用构件10的第一处理用面1面对。该第二托架21所具有的圆环收容部41是收容第二圆环20的、主要是处理用面2侧的相反侧的部位的凹部，在俯视时，为形成环状的沟槽。圆环收容部41以大于第二圆环20的尺寸的方式形成，在其与第二圆环20之间具有充分的间隔，收容第二圆环20。通过该间隔，该第二处理用构件20以能够在收容部41的轴向以及在与该轴向交叉的方向位移的方式收容在该圆环收容部41内。并且，该第二处理用构件20以能够以如下方式位移的方式被收容，即，相对于圆环收容部41，使第二处理用构件20的中心线(轴方向)与上述圆环收容部41的轴方向不平行。至少在第二托架21的圆环收容部41中设有作为处理用构件施力部的弹簧43。弹簧43将第二处理用构件20朝着第一处理用构件10施力。并且，作为其他的施力方法，也可使用空气导入部44等供给空气压或其他流体压力的加压机构，将第二托架21保持的第二处理用构件20朝着接近第一处理用构件10的方向施力。弹簧43及空气导入部44等接触表面压力施加机构将第二处理用构件20的周方向的各位置(处理用面的各位置)均等地朝着第一处理用构件10施力。在该第二托架21的中央设有上述第一导入部dl，从第一导入部dl朝着处理用构件外周侧被压送的流体首先被导入以下空间内，即，该第二托架21保持的第二处理用构件20、第一处理用构件10及保持该第一处理用构件10的第一托架11所围的空间内。并且，在使第二处理用构件20克服施力部的施力而从第一处理用构件10分离的方向上，在第二处理用构件20中设置的受压面23上，受到来自流体压力施加机构P所产生的上述流体的输送压力(供给压力)。在其他位置，为简略说明，虽仅对受压面23加以说明，但是，正确而言，如图29(A)(B)所示，与上述受压面23—起，在与后述沟槽状凹部13的第二处理用构件20相对应的轴方向投影面中，将未设有上述受压面23的部分23X也作为受压面，受到流体压力施加机构P所产生的上述流体的输送压力(供给压力)。也可实施为，不设置上述受压面23。在该情况下，如图26(A)所示，也可使用通过第一处理用面1旋转而获得的处理用面之间的被处理流体的导入效果(微泵效果)，上述第一处理用面1具有沟槽状凹部13，该沟槽状凹部13具有接触表面压力施加机构的功能。这里的微泵效果是指，通过第一处理用面1的旋转，凹部内的流体具有速度地向凹部的外周方向前端前进，接着，送入凹部13的前端的流体另外受到来自凹部13的内周方向的压力，最终形成使处理用面分离的方向上的压力，同时具有将流体导入处理用面之间的效果。并且，即使在不旋转的情况下，设置于第一处理用面1的凹部13内的流体所受压力最终作用在第二处理用面2上，该第二处理用面2作为作用于分离侧的受压面。对于设置于处理用面的凹部13，可对应于含有反应物及生成物的流体的物理性能实施其深度、相对于处理用面在水平方向的总面积、条数、及形状。并且，可实施为，将上述受压面23与上述凹部13—同设置在一个装置内。该凹部13的深度是1iim50iim，优选为3ym至20ym，并且为设置在上述处理用面上的凹部，相对于处理用面在水平方向的总面积占处理用面整体为5%50%，优选为15%25%，并且，设置在上述处理用面上的凹部的条数为350条，优选为824条，形状为在处理用面上的弯曲或螺旋状延伸的形状，或者为呈L字形弯折的形状，并且，其深度具有坡度，从高粘度区域到低粘度区域，即使在利用微泵效果导入的流体含有固体的情况下，也可将流体稳定地导入处理用面之间。并且，在导入侧即处理用面内侧，设置在处理用面上的各凹部可以彼此连接，也可以彼此断开。如上所述，受压面23为倾斜面。该倾斜面(受压面23)以如下方式形成，即，以被处理流体的流动方向为基准的上游侧端部的、与设有凹部13的处理用构件的处理用面相对的轴方向的距离，比下游侧端部的同一距离大。而且，优选该倾斜面的以被处理流体的流动方向为基准的下游侧端部设置在上述凹部13的轴方向投影面上。具体来说，如图28(A)所示，使上述倾斜面(受压面23)的下游侧端部60设置在上述凹部13的轴方向投影面上。优选上述倾斜面相对于第二处理用面2的角度e1在0.r至85°的范围内，更优选在IO。至55°的范围内，进一步优选在15。至45°的范围内。该角度9l可根据被处理物处理前的特性予以适当变更。并且，上述倾斜面的下游侧端部60设置在以下区域内，即，从向下游侧与第一处理用面1上设置的凹部13的上游侧端部13-b离开0.Olmm的位置开始，到向上游侧与下游侧端部13-c离开0.5mm的位置为止的区域内。更优选的是，设置在以下区域内，即，从向下游侧与上游侧端部13-b离开0.05mm的位置开38始，到向上游侧与下游侧端部13-c离开l.Omm的位置为止的区域内。与上述倾斜面的角度相同，对于该下游侧端部60的位置，可对应被处理物的特性予以适当变更。并且，如图28(B)所示，倾斜面(受压面23)可实施为弧形面。由此，可更均匀地进行被处理物的导入。凹部13除如上述那样连接之外，也可实施为间断的形式。在间断的情况下，间断的凹部13的、第一处理用面1的最内周侧的上游侧端部形成上述13-b;同样，第一处理用面1的最外周侧的上游侧端部形成上述13-c。另外，虽然在上述说明中将凹部13形成在第一处理用面1上，将受压面23形成在第二处理用面2上，但是，相反地，也可实施为，将凹部13形成在第二处理用面2上，将受压面23形成在第一处理用面1上。另外，通过将凹部13形成在第一处理用面1与第二处理用面2两方，并将凹部13与受压面23交替地设置在各处理用面1、2的周方向上，从而，第一处理用面1上形成的凹部13与第二处理用面2上形成的受压面23能够相向，同时，第一处理用面1上形成的受压面23与第二处理用面2上形成的凹部13能够相向。在处理用面中，也可实施与凹部13不同的沟槽。具体的例子为，如图16(F)及图16(G)所示，在较凹部13的径向外侧(图16(F))或径向内侧(图16(G))，可实施放射状延伸的新的凹部14。其有利于想延长在处理用面之间的停留时间的情况，以及处理高粘稠物的流体的情况。再者，关于与凹部13不同的沟槽，并不对形状、面积、条数、深度作特别限定。可根据目的实施该沟槽。在上述第二处理用构件20中，与被导入上述处理用面的流体的流路相独立，形成具有通至处理用面之间的开口部d20的第二导入部d2。具体而言，第二导入部d2如图27(A)所示，从上述第二处理用面2的开口部d20开始的导入方向相对于第二处理用面2以预定的仰角(91)倾斜。该仰角(91)被设定为大于0度小于90度，并且，在反应速度为迅速反应的情况下，优选设置为1度以上45度以下。另外，如图27(B)所示，从上述第二处理用面2的开口部d20开始的导入方向在沿上述第二处理用面2的平面内具有方向性。该第二流体的导入方向的处理用面的半径方向的成分为从中心远离的外方向，并且，与旋转的处理用面之间的流体的旋转方向相对的成分为正向。换言之，以通过开口部d20的半径方向、即外方向的线段作为基准线g，从该基准线g向旋转方向R具有预定的角度(92)。该仰角(91)被设定为大于0度小于90度，并且，在反应速度快的反应的情况下，优选设置为l度以上45度以下。另外，角度(92)也设定为大于0度小于90度，朝向图27(B)的网线部分，从开口部d20排出。并且，在反应速度快的反应的情况下，优选该角度(92)设定为较小角度，在反应速度慢的反应的情况下，优选该角度(92)设定为较大角度。另外，该角度可根据流体的种类、反应速度、粘度、处理用面的旋转速度等各种条件变更实施。开口部d20的口径优选为0.2iim3000iim，更优选为10iim1000iim。并且，开口部d20口径较大时，第二导入部d2的直径为0.2iim3000iim，最优选为10ym1000iim，实质上，在开口部d20的直径不影响流体的流动的情况下，第二导入部d2的直径39设置在该范围内即可。另外，在要求直线传播性的情况下，及要求扩散性的情况下，优选使开口部d20的形状等变化，可根据流体的种类、反应速度、粘度、处理用面的旋转速度等各种条件变更实施。并且，上述另外的流路的开口部d20可设置在以下点的外径侧，即，利用设置在第一处理用面1的凹部的微泵效果导入时的流动方向变换为在处理用面之间形成的螺旋状层流的流动方向的点。即，图26(B)中，优选从第一处理用面l上设置的凹部的处理用面径向最外侧开始的、向径向外侧的距离n为0.5mm以上。并且，在对相同流体设置多个开口部的情况下，优选设置在同心圆上。另外，在对不同流体设置多个开口部的情况下，优选设置在半径不同的同心圆上。如以(1)A+B—C(2)C+D—E的顺序进行反应，有效地使A+B+C—F这样本来不应该同时反应的反应及反应物不接触，从而有效地避免反应不进行的问题。另外，可实施为，将上述处理用构件浸入流体中，将在上述处理用面之间反应得到的流体直接投入到处理用构件外部的液体或空气以外的气体中。并且，也可将超声波能施加在刚刚从处理用面之间或处理用面排出的被处理物上。接着，为了在上述第一处理用面1与第二处理用面2之间，即在处理用面之间产生温度差，第一处理用构件10及第二处理用构件20的至少其中之一设置调温机构(温度调节机构)Jl、J2，下面对此进行说明。虽然该调温机构没有特别的限定，但是，在以冷却为目的的情况下，将冷却部设置于处理用构件10、20。具体而言，将作为调温用介质的冰水或各种冷媒所通过的配管或者珀尔帖元件等能够电气或化学地进行冷却作用的冷却元件安装于处理用构件10、20。在以加热为目的的情况下，在处理用构件10、20中设有加热部。具体而言，将作为调温用介质的蒸汽或各种热媒所通过的配管或电气加热器等能够电气或化学地进行加热作用的发热元件安装于处理用构件10、20。另外，也可在圆环收容部设置可与处理用构件直接接触的新的调温用介质用的收容部。由此，利用处理用构件的热传导，可以进行处理用面的调温。并且，将冷却元件或发热元件埋入处理用构件10、20中并通电，或埋入冷热媒通过用通道并使调温用介质(冷热媒)通过该通道，从而能够从内侧对处理用面进行调温。而且，图25所示的调温机构Jl、J2为其一例，是设置在各处理用构件10、20内部的调温用介质通过的配管(封套)。利用上述调温机构J1、J2，使一方的处理用面的温度高于另一方的处理用面温度，在处理用面之间产生温度差。例如，第一处理用构件IO以上述任意的方法加温至6(TC，第二处理用构件20以上述任意的方法加温至15°C。此时，导入处理用面之间的流体的温度从第一处理用面1朝向第二处理用面2从6(TC变化至15°C。即，该处理用面之间的流体产生温度梯度。而且，处理用面之间的流体由于该温度梯度开始对流，产生相对于处理用面垂直的方向的流动。并且，上述"垂直的方向的流动"是指流动的方向成分中，至少含有垂直上述处理用面的成分。即使在第一处理用面1或第二处理用面2旋转的情况下，由于相对于该处理用面垂直的方向的流动持续，因此，可对处理用面旋转所产生的处理用面之间的螺旋状层流的流动附加垂直方向的流动。该处理用面之间的温度差可实施为1°C40(TC，优选为5°C40100°C。而且，本装置的旋转轴50并不限定为铅直地配置。例如，也可为倾斜地配置。在处理中，通过在两处理用面1、2间形成的流体的薄膜，实质上可排除重力的影响。如图25(A)所示，第一导入部dl在第二托架21中与第二圆环20的轴心一致，并上下垂直地延伸。但是，第一导入部dl并不限于与第二圆环20的轴心一致，只要能向两圆环10、20所围空间供给第一被处理流体，在第二托架21的中央部分22中，也可设置在上述轴心以外的位置，并且，也可为非铅直而是斜向延伸。无论在哪个配置角度的情况下，通过处理用面之间的温度梯度，可产生相对于处理用面垂直的流动。上述处理用面之间的流体的温度梯度中，如果该温度梯度小，则仅对流体进行热传导，但是，温度梯度一旦超过某临界值，流体中会产生所谓的贝纳德对流现象。在处理用面之间的距离为L、重力加速度为g、流体的体积热膨胀率为13、流体的动粘度系数为v、流体的温度传导率为a、处理用面之间的温度差为AT时，该现象被以下式定义的作为无量纲数的瑞利数Ra所支配。Ra=L3gPAT/(av)开始产生贝纳德对流的临界瑞利数根据处理用面与被处理物流体的分界面的性质而不同，但大约为1700。大于该临界值时产生贝纳德对流。并且，当该瑞利数Ra满足大于1(T附近的值的条件时，流体为紊流状态。S卩，通过调节该处理用面之间的温度差AT或处理用面的距离L，并且以使瑞利数Ra为1700以上的方式调节本装置，可在处理用面之间产生相对于处理用面垂直的方向的流动，可实施上述反应操作。但是，上述贝纳德对流在110iim左右的处理用面之间的距离中不容易产生。严密来说，上述瑞利数适用于lOym以下的间隔中的流体，当研究贝纳德对流的发生条件时，如果为水，则其温度差必须为数千t:以上，现实中很难实现。贝纳德对流是由流体的温度梯度的密度差所形成的对流，即与重力相关的对流。10ym以下的处理用面之间为微重力场的可能性高，在这样的场合，浮力对流被抑制。即，在该装置中现实地产生贝纳德对流的场合是处理用面之间的距离超过10iim的场合。当处理用面之间的距离为l10iim左右时，并非通过密度差产生对流，而是通过温度梯度所产生的流体的表面张力差来产生对流。这样的对流为马兰哥尼对流，在处理用面之间的距离为L、流体的动粘度系数为v、流体的温度传导率为a、处理用面之间的温度差为AT、流体的密度为P、表面张力的温度系数(表面张力的温度梯度)为o时，被以下式定义的无量纲数的马兰哥尼数Ma所支配。Ma=oAT*L/(P*v*a)开始产生马兰哥尼对流的临界马兰哥尼数为80左右，大于该临界值时则产生马兰哥尼对流。即，通过调节该处理用面之间的温度差AT或处理用面的距离L，并且以使马兰哥尼数Ma为80以上的方式调节本装置，即使在10i！m以下的微小流路中，也能够在处理用面之间相对于处理用面产生垂直方向的流动，可实施上述反应操作。瑞利数Ra的计算使用以下的公式。公式1^=丄.々'gAr，g:重力加速度[m/S2]v:动粘度系数[m7s]，a:温度传导率[(m2/s)]，AT:处理用面之间的温度差[K]P:密度[kg/m3]，Cp:定压比热[J/kgK]，k:热传导率[W/mK]1\:处理用面的高温侧的温度[K]，T。处理用面的低温侧的温度[K]在以开始产生贝纳德对流时的瑞利数为临界瑞利数Ra。的情况下，此时的温度差可以如下方式求得。公式2=一."马兰哥尼数Ra的计算使用以下的公式。公式3AT=(T「T。)L:处理用面之间的距离[m]，V:动粘度系数[m2/s]，a:温度传导率[(m2/s)]AT:处理用面之间的温度差[K]，P:密度[kg/m3]，Cp:定压比热[J/kgK]k:热传导率[W/mK]，ot:表面张力温度系数[N/mK]1\:处理用面的高温侧的温度[K]，T。处理用面的低温侧的温度[K]在开始产生马兰哥尼对流时的马兰哥尼数为临界马兰哥尼数Ma。的情况下，此时的温度差AT^可以如下方式求得。公式4并且，可将处理用面之间加热(加温)，或对处理用面之间照射紫外线(UV)。特别是，在第一处理用面1和第二处理用面2设置了温度差的场合，因为可在薄膜流体中发生对流，由此具有促进反应的优点。另外，为了在混合各流体前不因液温降低而产生结晶的析出，最好对从化合物的溶解槽至混合装置内的液体喷出口的输送液管的温度进行控制，将化合物溶解液保持在始终不形成过饱和的温度以上。另外，通过将上述中和反应在能确保减压、真空状态的容器内进行，将处理后流体排出的二次侧形成为减压、真空状态，可进行在反应中产生的气体以及从处理用部排出的气体的脱气或脱溶剂。由此，即使在与中和反应处理几乎同时地进行脱溶剂处理的场合，由于含有在处理用面之间通过中和反应所析出的生物摄取物微粒子的流体从处理用面以喷雾状态排出，所以该流体的表面积增大，具有脱溶剂效率非常高的优点。以下，对使用上述装置进行的生物摄取物微粒子的制造方法的具体形态进行说明。首先，说明通过溶解度的变化使生物摄取物微粒子析出的方法。在上述说明了的装置的处理用面之间形成的薄膜中，将含有溶解至少一种作为微粒子化的对象物质的生物摄取物微粒子原料的第一溶媒的溶液、与成为相对前述生物摄取物微粒子原料溶解度比第一溶媒低的第二溶媒的溶媒混合，析出生物摄取物微粒子。上述的生物摄取物中包含药物。本发明可用多种多样的药物实施。药物，最好为实质上纯净状态存在的有机物质。药物需要在至少一种溶媒中可以低溶解性分散，并且有在至少一种溶媒中可溶。所谓低溶解性，意味着药物在处理温度(例如，室温)下在溶媒(例如，水)中具有不足约10mg/mL、最好为不足约lmg/mL的溶解性。并且，这里的可溶意味着溶解10mg/mL以上。而且，必要时也可将溶媒加温或冷却。并且，根据需要，可将分散剂(界面活性剂)或水溶性高分子、稳定齐U、保存齐U、PH调制齐IJ、等渗压化剂等预先添加到第一溶媒或第二溶媒、或者双方。适当的药物可从各种既知药物类中选取，包括例如止痛药、抗炎症药、除虫药、抗脉律不齐药、抗生素(包含青霉素类)、抗凝固药、抗降压药、抗糖尿病药、抗癫痫药、抗组胺药、抗恶性肿瘤药、抗肥胖药、食欲抑制药、降压药、抗蝇蕈碱药、抗分支杆菌药、抗新生物药、免疫抑制药、抗甲状腺药、抗菌药、抗病毒药、不安解除药(催眠药及神经松弛药)、收敛性化妆水、肾上腺素性P容纳体隔断药、血液制剂及代用血浆、心肌变性力药、对比介质、皮质醇、咳嗽抑制药(祛痰药及粘液破坏药)、诊断药、诊断像形成药、利尿药、多巴宁作用药(抗帕金森氏病药)、止血药、免疫药、脂类调节药、肌肉松弛药、副交感神经剌激兴奋药、副甲状腺降钙素及二膦酸酯类、前列腺素、放射性医药、性荷尔蒙(包含甾族化合物类)、抗过敏药、兴奋药及食欲衰退物质、交感神经兴奋药、甲状腺药、血管扩张剂及叶黄素类、白内障治疗剂、肾上腺皮质荷尔蒙剂。作为最佳的药物，可列举在水中为低溶解度用以口服及注射剂的药物。包含记载这些等级的药物类及备等级的清单，可参见「Martindale，TheExtraPharmacopoeia,第二9版，ThePh,ceuticalPress,London,1989」。这些药物都已经被市贩，或在该
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可以既知的方法制造。作为在实施本发明方面有用的药物的具体例，有代表性的可举出如下药物17-a-pregna-2，4-二烯(diene)-20-炔(ino)-(2，3_d)-异恶唑(isoxazole)-17-醇(ol)(达那唑)，他克莫司水合物，孕甾酮(progesterone),曲尼司特(tranilast)，苯、7臭马隆(benzbromarone)，甲灭酸(mefenamicacid)，(6_甲氧基(methoxy)_4_(1_甲乙基(methylethyl))-3-氧代(oxo)-1，2_苯并异噻唑(benzisothiazole)_2(3H)-甲酰胺基(yl))甲基(methyl)2，6-二氯苯甲酸甲酯(dichlorobenzoate)1，1_二氧化物(dioxide)(WIN63，394)，3-氨基(amino)-1，2，4-苯三嗪(benzotriazine)-1，4-二氧化物(dioxide)(WIN59，075)，hyposulfam，hyposulfan，喜树碱(Camptotecin)，乙酰氨基苯酚(acetylaminophenol)，乙酰水杨酸(acetylsalicylicacid)，乙胺碘呋酮(amiodarone)，考来條胺(colestyramine)，考来替拔(colestipol)，色甘酸納(Cromolynsodium)，albuterol,硫糖铝(sucralfate)，磺胺水杨嗪(sulfasalazine)，米诺地尔(minoxidil)，替马西泮(temaz印am)，阿普唑仓(alprazolam)，丙氧芬(propoxyphene)，金诺芬(auranofin)，红霉素(erythromycin),环抱霉素(cyclosporine)，无环鸟苷(Acyclovir)，Ganciclovir,卩比卩南葡糖苷(Etoposide)，mefaran，氨甲口十酸(methotrexate)，minoxanthrone，柔红霉素(da皿orubicin)，阿霉素(doxorubicin)，megesterol，三苯氧胺(tamoxifen),甲羟基孕酮(medroxyprogesterone),制霉菌素(nystatin)，间羟叔丁肾上腺素(terbutaline)，两性霉素B(amphotericinB)，阿斯匹林(aspirin)，布洛芬(ibuprofen)，甲氧萘丙酸(naproxen),indomethacin，双氯芬酸(Diclofenac),ketoprofen，flurbiprofen,diflomisal，ethyl_3，5_二乙酉先基胺(Diacetamide)-2，4，6-triiodobenzoate(WIN8883)，乙基(ethyl)(3，5_双(bis)(乙酰氨基(acetylamino))-2，4，6-triiodobenzoyloxy)醋酸(acetate)(WIN12,901)以及乙基(ethyl)-2-(3，5-双(bis)(乙酰氨基(acetylamino))-2，4，6-triiodobenzoyloxy)醋酸(acetate)(WIN16，318)。在该发明的理想形态中，药物为像达那唑(Danazol)或他克莫司水合物那样的免疫抑制药、像曲尼司特那样的抗过敏药、像孕甾酮那样的甾族化合物、抗病毒药、抗恶性肿瘤药或抗炎症药。作为特别理想的稳定化剂和分散剂(界面活性剂)，可列举十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠、十四烷硫酸钠、十五基硫酸钠、辛烷基硫酸钠、油酸钠、月桂酸酯钠、硬脂酸钠、硬脂酸钙、Tween20及Tween80(这些是可从ICISpecialtyChemicals得到的聚氧乙烯山梨糖醇酐脂肪酸酯类)、聚乙烯吡咯烷酮、泰洛沙泊、聚醚(Pluronic)F68及F108(这些是可从BASF得到的氧化乙烯与聚环氧丙烷的嵌段共聚物)、季酮(Tetronic)908(T908)(这个是可从BASF得到的对乙二胺的氧化乙烯及聚环氧丙烷的连续附加物由来的四官能嵌段共聚物)、葡萄聚糖、卵磷脂、气溶胶(Aerosol)oT(这个是可从AmericanCyanamid得到的琥珀磺酸二辛钠的二辛酯)、乳化剂(Duponol)P(这个是可从DuPont得到的硫酸月桂酯钠)、氚核(Triton)X-200(这个是可从RohmandHaas得到的烷基芳基聚醚磺酸盐)、聚乙二醇(Carbowax)3350及934(这些是可从UnionCarbide得到的聚乙烯二醇类)、CrodestaF-110(这个是可从CrockInc.得到的蔗糖硬脂酸盐及蔗糖二硬脂酸盐的混合物)、CR0DESTA5L-40(这个可从CrodaInc.得到)、以及SA90HC0(这个是C18H37CH2_(C0N(CH3)CH2(CH0H)4CH20H)2)，另外还有苄索氯铵、苯扎氯铵等4级胺系界面活性剂或聚氧乙烯高级酒精乙醚类、甘油脂肪酸酯类、聚氧乙烯硬化蓖麻油、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚氧乙烯辛烷基苯基醚、山梨糖醇酐脂肪酸酯、丙烯二醇脂肪酸酯、脂肪酸聚乙烯二醇、多甘油脂肪酸酯、蔗糖脂肪酸酯等非离子性界面活性剂类。也可根据目的的生物摄取物微粒子及析出反应而分开使用。作为水溶性高分子，可列举甲基纤维素、乙基纤维素、丙基甲基纤维素、丙基纤维素、羧基甲基纤维素、多乙烯树脂酒精、聚乙烯吡咯烷酮等。本发明中对该药物的含有量并不作特别限制。可制作高浓度的悬浮液，可与使用浓度对应地进行稀释作为制剂。作为稳定剂，可列举乙二胺四乙酸钠、亚硫酸钠、亚硫酸氢钠、硫代硫酸钠、二丁基羟基甲苯、抗不育维生素等。作为保存剂，可列举对羟基苯甲酸酯、氯丁醇、苯基乙醇、苯扎氯铵、苄索氯铵、双氯苯双胍己烷葡糖酸盐、烷基聚氨基乙基甘氨酸类、山梨酸等。作为pH调整剂，可列举盐酸、硫酸、醋酸、乳酸、柠檬酸、酒石酸、苹果酸、磷酸、硼酸、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钙、单乙醇胺、二乙醇胺、二乙胺、氨及它们的盐类等。作为等渗压化剂，可列举氯化钠、氯化钾、氯化钙、甘露醇等。本发明中，为使用在至少含有一种上述生物摄取物微粒子原料的流体中的溶媒，可根据目的适宜地选择为超纯水或离子交换水等的水，以及根据目的如甲醇、乙醇、丙酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亚砜那样的水混合性有机溶剂，如辛烷、环己烷、苯、二甲苯、二乙醚、醋酸乙酯那样的非水混合性有机溶剂。而且，本发明的生物摄取物微粒子，只要其把生物摄取作为目的，并不对其作特别限定，例如可为，像医药品的药物那样吸收到生物内以发现其在生物内的效果为目的的物质、像作为造影剂的硫酸钡那样通过体内的物质或者药物分配系统中的药物成分的搬运用物质、或者像化妆品那样涂在生物皮肤上的物质、以及食品和上述物质的中间体等。微粒子的析出反应，在图1(A)所示装置的可接近和分离的相互相向配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面1、2之间，一边强制地均匀混合一边发生。首先，从作为第一流路的第一导入部dl，将含有上述第一溶媒的溶液，导入可接近和分离且相互相向配置的至少一方相对于另一方旋转的处理用面1、2之间，在该处理用面之间生成第一流体膜。然后，从作为另一个流路的第二导入部d2，将形成比第一溶媒溶解度低的第二溶媒的溶液，直接导入在上述处理用面1、2之间所生成的上述第一流体膜中。如上所述，可在通过流体的供给压力与施加在旋转的处理用面之间的压力的压力平衡而固定了距离的处理用面1、2之间，将含有第一溶媒的溶液与第二溶媒混合，进行微粒子的析出反应。并且，因为只要在处理用面1、2之间进行上述反应即可，与上述相反，也可从第一导入部dl导入第二溶媒，从第二导入部d2导入含有第一溶媒的溶液(下述例中也相同)。即，各溶媒中所谓第一、第二的表现，只不过是为了表示复数存在的溶媒的第n种进行识别的记号而已，也能存在第三以上的溶媒。如上所述，除第一导入部dl、第二导入部d2以外，也可在处理装置上设置第三导入部d3，该场合，例如从各导入部，可将含有第一溶媒的溶液、第二溶媒、含有稳定化剂、分散剂的溶液分别导入至处理装置中。这样，可分别管理各溶液的浓度或压力，能更精密控制析出反应。在设置了第四以上的导入部的场合，也同样可以这样将导入到处理装置的流体细分化。其次，对通过中和反应或pH变化来析出生物摄取物微粒子的方法进行说明。以下的方法其特征为，在在流体中通过中和反应或pH变化使生物摄取物微粒子原料进行析出来制造生物摄取物微粒子时，将上述的流体设为在可接近和分离的相互相向配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间形成的薄膜流体，在该薄膜流体中，通过中和反应或pH变化使生物摄取物微粒子析出。以下，作为本发明的具体例，以作为造影剂在生物内摄取的硫酸钡生物摄取物微粒子为例进行更详细说明。但是，本发明不是拘束于这个例子。在图i(A)所示装置的可接近和分离的相互相向配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面1、2之间一边强制地均匀混合，一边进行该反应。首先，从作为一个流路的第一导入部dl，将作为第一流体含有氯化钡、氢氧化钡或醋酸钡等水溶性钡盐的溶液中至少一种的第一流体，导入可接近和分离且相互相向配置的至少一方相对于另一方旋转的处理用面1、2之间，在该处理用面之间生成第一流体膜。然后，从作为另一个流路的第二导入部d2，将作为第二流体含有硫酸或硫酸铵等水溶性硫酸化合物溶液中至少一种的第二流体，直接导入在上述处理用面1、2之间所生成的上述第一流体膜中。如上所述，在通过流体的供给压力与施加在旋转的处理用面之间的压力的压力平衡而固定了距离的处理用面1、2之间，在薄膜流体中使第一流体与第二流体合流。在该薄膜流体中，第一流体与第二流体被混合，使上述两种物质反应。更具体为，通过中和反应或pH变化，可进行生成硫酸钡生物摄取物微粒子的反应。其次，说明获得硫酸钡以外的生物摄取物微粒子的方法的场合。这里，与上述示例了的硫酸钡的析出有关系的最单纯的化学反应式(离子反应式)如下。(离子反应式)Ba2++S042——BaS04本发明的中和反应，包括作为一般所说的最基本的酸碱反应的中和反应、即酸碱双方的性质相互抵消的同时生成水和盐的中和反应、和上述离子反应式中作为阳离子性物质的Ba2+与作为阴离子性物质的S042—发生反应生成BaS04那样的物质的反应。并且，该场合的酸和碱的定义，可为阿伦尼乌斯的定义，也可为布朗斯特-劳里的定义，还可以为路易斯的定义。这里，通过变更所用的阳离子性物质或阴离子性物质，可以变更目的物质。阳离子性物质或阴离子性物质并不作特别限定，可为像Na+和Cl-那样的单原子离子，也可为像NH4+或CH3C00-那样的多原子离子。并且，也可为复离子。另外，特别是即使对于像医药用药物等中常见的那样的将有机物构造的一部分在溶液中离子化的形态也可实施。而且，第一流体和第二流体的双方中可含有同样的离子。另夕卜，进行上述的中和反应时，可以伴随溶媒pH的变化。用本发明所获得的生物摄取物微粒子的粒子直径或单分散度、或结晶型的控制，可通过改变处理用面1、2的转速或处理用面1、2之间的距离以及薄膜流体的流速或温度、或者原料浓度等，可进行调节。用本发明所获得的生物摄取物微粒子，可形成希望的粒度分布/粒子直径分布，以所获得该粒子的合计质量为基准，其结晶化度为50%以上，并且，含有该粒子的溶液是调制后长时间放置也不显示凝集沉淀或粒子凝集的稳定的分散体。另外，由于相向配设的处理用面的间隔可自由调整，可以控制粒子直径，通过处理用面的至少一方相对于另一方旋转，可以自由控制结晶形。另外，用该发明获得的分散体是稳定的，该分散体由液体分散介质和上述生物摄取物微粒子组成。因此，可对本发明的生物摄取物微粒子或含有该粒子的分散体混合药学上容许的载体，得到医药组成物。再者，如下列实施例那样，将该分散体用作为悬浮点眼药液的场合，通过药物的物性，以不溶解为前提，pH39为佳，更佳为pH3.06.5。这个范围以外，由于对眼睛的剌激变大，故而不理想。上述获得的生物摄取物微粒子的粒度分布/粒子直径分布的90%粒子直径最好为500nm以下(即，粒子直径大于500nm的粒子在粒子整体中所占比例不足10%)。由于粒度分布/粒子直径分布的90%粒子直径为500nm以下，防止了粗大粒子形成核而凝集的现象，表面积增大，由于其外观溶解度被提高，从而提高了悬浮点眼药液的有效成分的角膜透过性。从过滤杀菌的观点来看，悬浮点眼液剂的粒度分布/粒子直径分布的90%粒子直径最好为220nm以下，使过滤杀菌成为可能，可比以往技术廉价地进行无菌化。过滤杀菌过滤器，只要其为市贩的无菌保证的过滤器，各种材质的过滤器均可使用。作为材质，可举例为醋酸纤维素、聚碳酸脂、聚偏二氟乙烯(PVDF)等。过滤器的细孔的大小，0.45iim以下为佳，更佳为0.22iim以下。在大于上述范围的粒度分布/粒子直径分布的场合，会引起过滤用过滤器的网眼堵塞或降低收获率，故而并不理想。本发明中的悬浮点眼药液，添加界面活性剂及/或水溶性高分子，将该药物粒子的泽塔电位的绝对值形成在20mV150mV的范围，可得到良好的分散稳定性。泽塔电位调整中所用的界面活性剂、水溶性高分子的量，虽然根据其PH的不同而不同，但是在悬浮点眼药液中最好为0.05%3%的范围。这样，可制造平均一次粒子直径为0.510000nm、1500nm为佳、30200nm更佳的生物摄取物微粒子分散的水系分散液(悬浮液)。并且，在含有生物摄取物微粒子原料的溶液中添加上述分散剂的场合，可制造在表面上分散剂被配位了的生物摄取物微粒子分散的水系分散液(悬浮液)，所得到的生物摄取物微粒子的再分散性变得非常良好。另外，由于在制造工程中混入杂质很少，结晶析出的场合可以控制为很高的结晶化度，所以在像医药品或化妆品那样的生物摄取为目的获得生物摄取物微粒子的场合，其为特别理想的制造方法。而且，本说明书中使用的"粒子大小"是指，利用在该
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周知的通常的粒子直径测量法、例如动光散乱法、激光回折方式等所测定的平均粒子直径。处理用药物的有效用量水准是，为了对投药的特定的组成物及方法得到所希望的治疗应答的有效量。因此，所选的用量水准依存于，特定的药物、希望的治疗效果、投药路径、希望的处理持续的时间及其他的因素。如所记载的那样，该发明的医药组成物如下述实施例中具体说明的那样，显示了惊人的高生物内吸收率，非常有益。认为该发明的医药组成物在口服及静脉注射的非口服投药法中特别有用。以往不能静脉注射的难水溶性药物也可期待利用本发明来安全地投药。并且，缺乏生物利用效率而不能口服的药物也可利用本发明来有效地投药。实施例以下，举出有关本发明的实施例更加详细地说明，但是本发明并不是限定于这些实施例。并且，在以下的实施例中，所谓"从中央"其意思为，前述的图1(A)所示的处理装置的"从第一导入部dl"，第一流体是指前述的第一被处理流动体，第二流体是指上述的图1(A)所示的处理装置的"从第二导入部d2"导入的前述的第二被处理流动体。(实施例1)达那唑粒子的制造如图1(A)所示，利用在可接近和分离地互相相向配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面1、2之间所形成的薄膜流体中均匀地扩散、搅拌、混合的反应装置，将溶解药物的水溶液、对该药物溶度低的溶液和高分子分散剂或稳定化剂的混合液，在薄膜流体中进行晶析反应。从中央将作为第一流体的0.1%Tween80水溶液，以供给压力/背压力=0.02MPa/0.01MPa、转速1000rpm、送液温度35。C进行送液，将用乙醇溶解了粉末达那唑的液体作为第二流体，以10mL/min导入处理用面之间。第一流体和第二流体在薄膜内被混合，达那唑分散溶液以30g/min从处理用面被排出。对回收的达那唑分散溶液，使用以动光散乱法作为测量原理的粒度分布测定装置(日机装公司制品的商品名microtracUPA150)测定，平均粒子直径(体积)为65nm，其粒度分布/粒子直径分布的CV值为17%。另外，在回收的达那唑分散溶液里添加乙醇使其溶解，利用粒子计数器(Rion公司制品的商品名粒子计数器KS65)对异物混入进行确认，在lmL中10iim以上的粒子有13个，25iim以上的粒子有1个(0.05%达那唑溶液)。其次，将回收的达那唑分散溶液干燥，利用X射线回折'示差扫描热量计DSC及傅立叶变换红外光谱光度计FT-IR进行了物质的相同认定，结果为其与达那唑原料粉末一致，获得结晶化度80%。上述将本发明微粒子(平均粒子直径65nm)作为悬浮液给狗投药的场合的生物学的利用率(BA)为92.9%。由于将市贩药品(平均粒子直径10i!m)作为悬浮液投药的场合的生物学的利用率(BA)为5.1%，可以说其生物内吸收率达到了大幅度上升。微细化中所需的能量，与使用本发明申请人制造的粉碎机SS5-100所进行的粉碎相比，为其32000分之一。其次，改变条件，从中央作为第一流体将0.1%Tween80水溶液以供给压力/背压力=0.10MPa/0.02Mpa、转速1000rpm、送液温度35。C进行送液，将用乙醇溶解了粉末达那唑的溶液作为第二流体，以10mL/min导入处理用面之间。第一流体和第二流体在薄膜内被混合，达那唑分散溶液以70g/min从处理用面被排出。将回收的达那唑分散溶液，使用以动光散乱法作为测量原理的粒度分布测定装置(日机装公司制品的商品名microtracUPA150)测定，平均粒子直径(体积)为135nm，其粒度分布/粒子直径分布的CV值为19%。其次，使回收的达那唑分散溶液干燥，利用X射线回折，示差扫描热量计DSC及傅立叶变换红外光谱光度计FT-IR进行了物质的相同认定，结果为其与达那唑原料粉末一致，获得结晶化度75%。再改变条件，从中央作为第一流体将水以供给压力/背压力=0.02MPa/0.OlMPa、转速1000rpm、送液温度35t:进行送液，将用Tween80混合乙醇溶解了粉末达那唑的溶液作为第二流体，以10mL/min导入处理用面之间。第一流体和第二流体在薄膜内被混合，达那唑分散液以30g/min从处理用面被排出。将回收的达那唑分散溶液，使用以动光散乱法作为测量原理的粒度分布测定装置(日机装公司制品的商品名microtracUPA150)测定，平均粒子直径(体积)为78nm，其粒度分布/粒子直径分布的CV值为18%。其次，使回收的达那唑分散溶液干燥，利用X射线回折，示差扫描热量计DSC及傅立叶变换红外光谱光度计FT-IR进行了物质的相同认定，结果为其与达那唑原料粉末一致，获得结晶化度82%。(实施例2)他克莫司(tacrolimus)水合物粒子的制造从中央作为第一流体将0.1%Tween80水溶液，以供给压力/背压力=0.02MPa/0.01MPa、转速2000rpm、送液温度3(TC进行送液，将用乙醇溶解了他克莫司水合物的液体作为第二流体，以10mL/min导入处理用面之间。第一流体和第二流体在薄膜内被混合，他克莫司水合物分散溶液以30g/min从处理用面被排出。将回收的他克莫司水合物分散溶液，使用以动光散乱法作为测量原理的粒度分布测定装置(日机装公司制品的商品名microtracUPA150)测定，平均粒子直径(体积)为116nm，其粒度分布/粒子直径分布的CV值为16%。其次，使回收的他克莫司水合物分散溶液干燥，利用X射线回折，示差扫描热量计DSC及傅立叶变换红外光谱光度计FT-IR进行了物质的相同认定，结果为其与他克莫司水合物原料粉末一致，获得结晶化度90%。其次改变条件，从中央作为第一流体将0.1%Tween80水溶液，以供给压力/背压力=0.02MPa/0.01Mpa、转速1000rpm、送液温度3(TC进行送液，将用乙醇溶解了他克莫司水合物的液体作为第二流体，以10mL/min导入处理用面之间。第一流体和第二流体在薄膜内被混合，他克莫司水合物分散液以20g/min从处理用面被排出。将回收的他克莫司水合物分散溶液，使用以动光散乱法作为测量原理的粒度分布测定装置(日机装公司制品的商品名microtracUPA150)测定，平均粒子直径(体积)为98nm，其粒度分布/粒子直径分布的CV值为13%。其次，使回收的他克莫司水合物分散溶液干燥，利用X射线回折*示差扫描热量计DSC及傅立叶变换红外光谱光度计FT-IR进行了物质的相同认定，结果为其与他克莫司水合物原料粉末一致，得到结晶化度95%。(实施例3)曲尼司特(tranilast)粒子的制造从中央作为第一流体将水以供给压力/背压力=0.02MPa/0.OlMPa、转速1000rpm、送液温度27t:进行送液，将在添加了Tween80的pH值13的氢氧化钾溶液中溶解了曲尼司特的液体作为第二流体，以10mL/min导入处理用面之间。第一流体和第二流体在薄膜内被混合，曲尼司特分散溶液以30g/min从处理用面被排出。将回收的曲尼司特水合物分散溶液，使用以动光散乱法作为测量原理的粒度分布测定装置(日机装公司制品的商品名microtracUPA150)测定，平均粒子直径(体积)为120nm，其粒度分布/粒子直径分布的CV值为15%。其次，将回收的曲尼司特分散溶液，利用纤维素透析管用纯水进行透析除去盐后，干燥，利用X射线回折示差扫描热量计DSC及傅立叶变换红外光谱光度计FT-IR进行了物质的相同认定，结果为其与曲尼司特原料粉末一致，得到结晶化度86%。上述将本发明微粒子(平均粒子直径120nm)作为0/W乳脂制剂，使用试验用皮肤(LSE-high)进行8小时的皮肤透过性试验，表明与原料粉末(平均粒子直径45iim)相比具有5倍的透过性。(实施例47)硫酸钡的析出如图1(A)所示，利用在可接近和分离地互相相向配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面1、2之间所形成的薄膜流体中均匀地扩散、搅拌、混合的反应装置，将氯化钡水溶液和硫酸钠水溶液在薄膜流体中进行中和反应，析出硫酸钡。(实施例4)从中央作为第一流体将25%硫酸钠水溶液，以供给压力/背压力=0.02MPa/0.01MPa、转速500rpm、送液温度25。C进行送液，将17%氯化钡水溶液作为第二流体，以10mL/min导入处理用面之间。第一流体和第二流体在薄膜内被混合，硫酸钡分散溶液以20mL/min从处理用面被排出。其次，利用透析管从该分散体中除去杂质，采用透过型电子显微镜(TEM)，观察了该分散液中的硫酸钡微粒子。从其中任意选取ioo个粒子，测定其平均一次粒子直径，结果为50歷。并且，将该硫酸钡分散体真空冻结干燥，得到的粉末状硫酸钡微粒子，将该粉末状硫酸钡微粒子再次投到离子交换水中，用高速搅拌式分散机(商品名ClearMix，M技术株式会社制品)搅拌，确认了再次得到硫酸钡微粒子分散物，其平均一次粒子直径与真空冻结干燥前相同，平均一次粒子直径为50nm，所获得的硫酸钡微粒子粉状体具有良好的再分散性。关于实施例57，使用与实施例1相同的硫酸钠水溶液和氯化钡水溶液，改变转速、供给压力、背压力来得到硫酸钡粒子分散体及硫酸钡粉状体。(比较例1)采用ClearMix(M技术株式会社制品)一边搅拌上述硫酸钠水溶液，一边添加上述氯化钡水溶液形成硫酸钡微粒子分散体。此时，ClearMix以转速20000rpm进行了30分钟的搅拌。获得了平均一次粒子直径900nm的硫酸钡微粒子分散液。另外，虽与上述实施例同样地确认了再分散性，但是，其再分散后粒子直径为1700nm，比真空冻结干燥前具有更强的凝集。表l表示上述结果。[表1]50<table>tableseeoriginaldocumentpage51</column></row><table>(实施例810)氟米龙(Fluorometholone)悬浮点眼液的制造从中央作为第一流体将0.05%Tween80溶液，以转速1001000rpm、送液温度25t:进行送液，将吡啶中溶解了氟米龙的液体作为第二流体导入处理用面之间。第一流体和第二流体在薄膜内被混合，氟米龙悬浮液从处理用面被排出。将回收的氟米龙悬浮液，使用以动光散乱法作为测量原理的粒度分布测定装置(日机装公司制品的商品名microtracUPA150)进行了测定。干燥所回收的氟米龙悬浮液，利用X射线回折，示差扫描热量计DSC及傅立叶变换红外光谱光度计FT-IR进行了物质的相同认定，结果表明其与氟米龙原料粉末一致。另外，比较例2及3使用高速搅拌机(M技术株式会社制品ClearMix2.2S)，以转速20000rpm将氟米龙原料粉末进行了30分钟预备粉碎分散。比较例1在此后进一步用超薄膜式高速旋转粉碎机(M技术株式会社制品SS5-100)，进行了细微化处理及粉碎分散。比较例4中不进行上述任何处理，只进行了原料粉末的pH调制。因此，制作了溶解了进行了上述处理原料粉末的悬浮液。上述的处理条件及粒度分布/粒子直径分布测量结果表示在表2中。[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage51</column></row><table>〈过滤杀菌适应性的确认>关于上述实施例810及比较例24这六个例子的各试验液，使用具有0.22ym细孔的PVDF过滤器，进行了过滤杀菌处理。用HPLC测定了过滤杀菌前后的氟米龙浓度，求出了过滤杀菌处理时的收获率。其结果如表3所示。[表3]<table>tableseeoriginaldocumentpage52</column></row><table>另外，采用了具有0.45iim细孔的PVDF过滤器时的收获率如表4所示。[表4]<table>tableseeoriginaldocumentpage52</column></row><table>其次，将作为第一流体的0.05%Tween80溶液和作为第二流体的溶解了氟米龙的溶液(溶媒为丙酮)，用0.22m的过滤器无菌过滤后，再以转速lOOrpm，第一流体与第二流体的混合比4:1，排出流量150mL/min处理后，得到平均粒子直径2.2ym的粒子。作为比较例，将原料粉末干热杀菌后，使用高速搅拌机(M技术株式会社制品ClearMix2.2S:转速18000rpm，处理时间30分钟)及超薄膜式高速旋转粉碎机(M技术株式会社制品SS5-100)进行了细微化处理，其平均粒子直径为2.lym。并且，本发明所涉及方法的实施中所需要的能量投入量，与上述比较例相比约为其30000分之一左右。(实施例1113)吡诺克辛悬浮点眼液的制造从中央作为第一流体将0.05mol/L硝酸水溶液，以转速100lOOOrpm，送液温度25t:进行送液，将0.lmol/L的氢氧化钠中溶解了吡诺克辛的液体作为第二流体导入处理用面之间。第一流体和第二流体在薄膜内被混合，吡诺克辛悬浮液从处理用面被排出。将回收的吡诺克辛悬浮液用透析管以纯水透析除去副生成物，使用以动光散乱法作为测量原理的粒度分布测定装置(日机装公司制品的商品名microtracUPA150)进行了测定。干燥回收的吡诺克辛悬浮液，利用X射线回折示差扫描热量计DSC及傅立叶变换红外光谱光度计FT-IR进行了物质的相同认定，结果表明其与吡诺克辛原料粉末一致。另外，比较例5及6使用高速搅拌机(M技术株式会社制品ClearMix2.2S)，以转速18000rpm将吡诺克辛原料粉末进行了30分钟预备粉碎分散。比较例1在此后进一步用超薄膜式高速旋转粉碎机(M技术株式会社制品SS5-100)，进行了细微化处理及粉碎分散。比较例7中，不进行上述任何处理，只进行了原料粉末的pH调制。因此，制作了溶解了进行了上述处理原料粉末的悬浮液。上述的处理条件及粒度分布/粒子直径分布测量结果如表5所示。[表5]<table>tableseeoriginaldocumentpage53</column></row><table>细微化中所需能量，与超薄膜式高速旋转粉碎机(M技术株式会社制品SS5-100)相比，为其3.2X107分之一3.2X104分之一，具有优良的能量效率。并且，实施例1113中，将pH调制为3.05.5的场合，中心粒子直径为8nm98nm，90X平均粒子直径为89nm186nm。〈光稳定性试验>将上述实施例1113及比较例57的各试验液各10mL分别装入玻璃透明管形瓶，利用光照射试验机以自2000Luxhr的光源进行了光照射。对各管形瓶的试验液经时采样，用HPLC测定了吡诺克辛浓度，评估了吡诺克辛的残余比例(％)。其结果如表6所示。另外，表中的数值是实验次数(N)3次的平均值。[表6]<table>tableseeoriginaldocumentpage53</column></row><table>M-3的平均値〈皮肤透过性试验>在横型两腔扩散小室(有效面积0.3cm2，小室容量5mL，温度32°C)中，角膜表皮成为供体侧地将从日本家兔摘出的角膜固定。储存液为pH7.5的磷酸等渗压缓冲液。在供体侧，分别使用了实施例1、实施例2及比较例1比较例3的各试验液。以在供体侧加入了各试验溶液的时刻为零时间刻度，经时地对储存液采样。用HPLC测定采样液中的吡诺克辛浓度，评估了穿过角膜转移的吡诺克辛量。其结果如表7所示。另外，表中的数值是实验次数(N)3次的平均值。[表7]<table>tableseeoriginaldocumentpage54</column></row><table>单位ihg/^L;i。但是，所示攻1\!=3的平均値,〈过滤杀菌适应性的确认>关于上述实施例1113及比较例57这六个例子的各试验液，使用具有0.22iim细孔的PVDF过滤器，进行了过滤杀菌处理。用HPLC测定了过滤杀菌前后的吡诺克辛浓度，求出了过滤杀菌处理时的收获率。其结果如表8所示。[表8]<table>tableseeoriginaldocumentpage54</column></row><table>权利要求一种生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，在使生物摄取物微粒子原料在流体中析出而制造生物摄取物微粒子时，将上述的流体设成为薄膜流体，该薄膜流体在以能够接近、分离的方式相互相向地配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间形成，在该薄膜流体中使生物摄取物微粒子析出。2.如权利要求1所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，至少使用两种流体；其中至少一种流体是将至少一种上述生物摄取物微粒子原料溶解在第一溶媒中的流体；此外的流体中的至少一种流体是能成为溶解度比上述第一溶媒低的第二溶媒的溶媒；在以能够接近、分离的方式相互相向地配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间的薄膜流体中，使上述的各流体合流，在该薄膜流体中使生物摄取物微粒子析出。3.如权利要求1所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，使用至少两种流体；其中至少一种流体是含有至少一种酸性物质或阳离子性物质的流体；此外的流体中的至少一种流体是含有至少一种碱性物质或阴离子性物质的流体；在以能够接近、分离的方式相互相向地配设且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间的薄膜流体中，使上述的各流体合流，在该薄膜流体中进行中和反应而使生物摄取物微粒子析出。4.如权利要求1至3中的任何一项所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，上述析出反应具备流体压力施加机构，该流体压力施加机构对被处理流动体施加规定压力，第一处理用部、以及能够相对于该第一处理用部相对接近和分离的第二处理用部至少两个处理用部，禾口旋转驱动机构，该旋转驱动机构使上述第一处理用部和第二处理用部相对旋转；在上述各处理用部中相互相向的位置上，设有第一处理用面以及第二处理用面至少两个处理用面；上述的各处理用面构成上述规定压力的被处理流动体流过的被密封的流路的一部分；在上述的两个处理用面之间，均匀混合两种以上的被处理流动体并使其积极地发生反应，上述两种以上的被处理流动体中的至少任意一种含有反应物；上述第一处理用部和第二处理用部中至少第二处理用部具备受压面，并且，该受压面的至少一部分由上述第二处理用面构成；该受压面受到上述流体压力施加机构施加给被处理流动体的压力而产生使第二处理用面在从第一处理用面分离的方向移动的力；通过上述规定压力的被处理流动体在能够接近和分离且相对旋转的第一处理用面和第二处理用面之间通过，上述被处理流动体一边形成规定膜厚的流体膜一边从两个处理用面之间通过；进而具备独立于上述规定压力的被处理流动体流过的流路的另外的导入路，上述第一处理用面和第二处理用面的至少任意一方具备至少一个与上述导入路相通的开口部；将从上述导入路输送来的至少一种被处理流动体导入上述两个处理用面之间，至少上述的各被处理流动体的任意一方中含有的上述反应物与不同于上述被处理流动体的被处理流动体，通过在上述流体膜内的均匀搅拌形成的混合能够达到所希望的反应状态。5.如权利要求1至4中的任何一项所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，在上述生物摄取物微粒子的制造方法中，将处理用面之间加热即加温，或者对处理用面之间照射紫外线即UV，或者对处理用面之间施加超声波能量。6.如权利要求1至5中的任何一项所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，在能够确保减压、真空状态的容器内进行上述中和反应，将处理后流体排出的二次侧形成为减压、真空状态，由此，进行在反应中产生的气体以及从处理用部排出的气体的脱气或脱溶剂。7.如权利要求1至6中的任何一项所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，上述流体的至少一方中含有从分散齐U、水溶性高分子、稳定齐U、保存剂、PH调制齐U、等渗压化剂中所选取的至少一种。8.如权利要求1至7中的任何一项所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，对上述处理前或处理后的各流体进行无菌过滤。9.如权利要求1至8中的任何一项所述的生物摄取物微粒子的制造方法，其特征在于，上述对象物质是从由下列物质构成的群中选取的药物止痛药、抗炎症药、除虫药、抗脉律不齐药、抗生素、抗凝固药、抗降压药、抗糖尿病药、抗癫痫药、抗组胺药、抗恶性肿瘤药、食欲抑制药、抗肥胖药、降压药、抗蝇蕈碱药、抗分支杆菌药、抗新生物药、免疫抑制药、抗甲状腺药、抗菌药、抗病毒药、不安解除药、收敛性化妆水、肾上腺素性13容纳体隔断药、血液制剂、代用血浆、心肌变性力药、对比介质、皮质醇、咳嗽抑制药、诊断药、诊断像形成药、利尿药、多巴宁作用药、止血药、免疫药、脂类调节药、肌肉松弛药、副交感神经剌激兴奋药、副甲状腺降钙素、二膦酸酯类、前列腺素、放射性医药、性荷尔蒙、抗过敏药、兴奋药、食欲衰退物质、交感神经兴奋药、甲状腺药、血管扩张剂以及叶黄素类、白内障治疗剂、肾上腺皮质荷尔蒙剂。10.—种生物摄取物微粒子，该生物摄取物微粒子通过上述权利要求1至9中的任何一项所述的制造方法获得。11.如权利要求9所述的生物摄取物微粒子，其特征在于，结晶化度以所获得的生物摄取物微粒子的合计质量为基准是50%以上，并且，含有该粒子的液体在其调制后两日以上通过目视不显示凝集沉淀或粒子凝集。12.如权利要求9所述的生物摄取物微粒子，其特征在于，平均一次粒子直径为0.510000nm。13.如权利要求9所述的生物摄取物微粒子，其特征在于，粒度分布/粒子直径分布的90%粒子直径为500nm以下。14.一种分散体，该分散体含有权利要求9至13中的任何一项所述的生物摄取物微粒子。15.—种医药组成物，该医药组成物含有权利要求14所述的分散体和药学上容许的载体而成。全文摘要本发明使用将含溶解微粒子化对象物质的第一溶媒的溶液和成为对微粒子比第一溶媒溶解度低的第二溶媒的溶媒在相向配置的可接近分离且至少一方相对另一方旋转的处理用面之间形成的薄膜流体中使生物摄取物微粒子析出的方法。在流体中由中和反应使生物摄取物微粒子原料析出制造生物摄取物微粒子时，流体为在可接近分离地相向配置且至少一方相对于另一方旋转的处理用面之间形成的薄膜流体，在薄膜流体中由中和反应使生物摄取物微粒子析出。提供以在相向配置的可接近分离且至少一方相对另一方旋转的处理用面之间形成的薄膜流体中使含溶解点眼药主成分的药物的第一溶媒和对药物比第一溶媒溶解度低的第二溶媒的溶媒混合析出的药物粒子为主分的悬浮点眼液。文档编号A61J3/00GK101784258SQ20088010429公开日2010年7月21日申请日期2008年7月4日优先权日2007年7月6日发明者榎村真一申请人:M技术株式会社