声门下吸引气管导管的制作方法

文档序号:8550747阅读:1710来源:国知局
声门下吸引气管导管的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种声门下吸引气管导管,特别是一种用于属于医疗消耗品领域的声门下吸引气管导管。
【背景技术】
[0002]人工气道是保障气道通畅的有效手段,在重症患者抢救过程中极为重要。然而,人工气道的建立破坏了呼吸道正常的解剖结构和生理功能,导致气道吞咽保护能力受限,分泌物增加,上气道分泌物聚集于气管导管气囊上方,造成局部细菌繁殖,分泌物可经气囊壁与气管壁之间的皱褶、缝隙渗漏入肺部,引起呼吸机相关性气管支气管炎(VAT)和呼吸机相关性肺炎(VAP)发生,延长机械通气时间和住ICU时间,大幅度增加医疗费,严重影响重症患者的预后。
[0003]气囊最基本的作用是保持声门以下的气道封闭、固定导管,从而保障正压通气的有效完成。气囊的封闭性还能预防口咽部和胃内容物误吸入肺部,减少肺部感染。气囊的改进和完善从未停止,从20世纪70年代广泛应用的第I代低容高压的橡胶球囊,到70年代后期第2代高容低压的硅胶或聚氯乙烯气囊,再到近年来改良的圆锥气囊。所有气囊均存在以下问题:1)气囊充气量以恰好封闭气道,保障通气时气道不漏气(最小闭合技术),分泌物从气囊与气管壁之间的间隙渗漏入肺部增多;2)为了减少渗漏量,常常增加气囊充气量,则引起气囊压力过高,压迫损伤气管黏膜,甚至出现气管狭窄、气管食管瘘等并发症;3)由于气管不是规则圆形管腔,即使增加气囊充气量,气囊上滞留物仍然可以通过气囊壁与气管壁之间的皱褶、缝隙,微量不断地渗漏入下呼吸道、进入肺部,尤其是病人躁动、操作等使导管牵拉、移位,长时间插管,气囊上滞留物渗漏更明显。这是导致VAP发生率居高不下的关键因素。2015年Philippart等学者在CHEST杂志发表研宄结果显示近年改良的锥形气囊较圆柱形气囊未能降低VAP发生率。
[0004]目前已有多项研宄证实应用带声门下吸引(SSD)的气管导管,进行声门下分泌物引流,可有效降低VAP发生率。声门下分泌物引流分为持续或间断引流,两者均有可能导致气道粘膜损伤、出血、甚至坏死、病人刺激性剧烈咳嗽和不适等并发症。持续吸引较间断吸引发生并发症的风险更大;但若患者分泌物多,间断吸引不能保证分泌物充分引流,也会增加肺部感染风险。因此现有技术中还没有一种既能在气囊充气量以恰好封闭气道,保障正压通气有效完成,避免压迫损伤气管黏膜,又可以有效防止气囊上滞留物渗漏入下呼吸道;同时保障在进行声门下吸引时,避免气道粘膜损伤、出血、甚至坏死、病人刺激性剧烈咳嗽和不适等并发症发生,从根本上预防上呼吸道分泌物进入下呼吸道和肺部,有效预防肺部感染的一次性防渗漏的声门下吸引气管导管。

【发明内容】

[0005]本发明所要解决的技术问题是提供一种既能保障气道封闭、固定导管,保证正压通气的有效完成,避免压迫损伤气道粘膜,又可以有效防止气囊上滞留物渗漏入下呼吸道;同时保障在进行声门下吸引时,避免气道粘膜损伤、出血、甚至坏死、病人刺激性剧烈咳嗽和不适等并发症发生,从根本上预防上呼吸道分泌物进入下呼吸道和肺部,有效预防肺部感染的一次性防渗漏的声门下吸引气管导。
[0006]为解决上述技术问题本发明采用的声门下吸引气管导管,包括导管、气囊、接头、充气管、所述接头安装在导管的一端,所述气囊设置在导管上,所述充气管的一端与气囊内部连通,另一端从导管的外壁引出,还包括吸引管,导管上靠近气囊的一端开有吸引孔,吸引管一端与吸引孔连通,另一端从导管的外壁引出,所述气囊上设置有储物凹槽。
[0007]进一步的是,所述气囊分为两段,其中远离吸引孔的一段为圆柱形,靠近吸引孔的一段上设置有储物凹槽,所述充气管为两根,其中一根与圆柱形的一段气囊连通,另一根与设置有储物凹槽的一段气囊连通。
[0008]进一步的是,所述储物凹槽的中部向气囊的外壁方向凹陷。
[0009]进一步的是,所述充气管上设置有指示气囊。
[0010]进一步的是,所述吸引管上远离吸引孔的一端设置有端盖。
[0011]本发明的有益效果是:本申请既能保障气道封闭、固定导管,保证正压通气的有效完成,避免压迫损伤气道粘膜,又可以有效防止气囊上滞留物渗漏入下呼吸道;同时保障在进行持续声门下吸引时,避免气道粘膜损伤、出血、甚至坏死、病人刺激性剧烈咳嗽和不适等并发症发生,从根本上预防上呼吸道分泌物进入下呼吸道和肺部,有效预防肺部感染的一次性防渗漏的声门下吸引气管导。
【附图说明】
[0012]图1是气管插管的结构示意图;
[0013]图2是采用两段气囊的气管插管的结构示意图;
[0014]图3是气切导管的结构示意图;
[0015]图4是采用两段气囊的气切导管的结构示意图;
[0016]图5是储物槽中部凹陷的气囊的结构示意图;
[0017]图中零部件、部位及编号:导管1、气囊2、接头3、充气管4、吸引孔5、储物凹槽6、吸引管7、端盖8、指示气囊9。
【具体实施方式】
[0018]下面结合附图对本发明作进一步说明。
[0019]如图1、及图3所示,本发明的声门下吸引气管导管,包括导管1、气囊2、接头3、充气管4、所述接头3安装在导管I的一端,所述气囊2设置在导管I上,所述充气管4的一端与气囊2内部连通,另一端从导管I的外壁引出,还包括吸引管7,导管I上靠近气囊2的一端开有吸引孔5,吸引管7 —端与吸引孔5连通,另一端从导管I的外壁引出,所述气囊2上设置有储物凹槽6。本申请具体可以应用到气管插管和气切导管等装置中,其中图1为气管插管,图3为气切导管,现有技术中的气囊2主要作用是保持声门以下的气道封闭、固定导管1,由于其为圆柱形或圆锥形,气管不是规则圆形管腔,气囊上滞留物易通过气囊2壁与气管壁之间的皱褶、缝隙,不断地渗漏入下呼吸道、进入肺部,尤其是导管I牵拉、移位,或随着使用时间延长,气囊上滞留物渗漏更明显。而本申请的声门下吸引气管导管I在气囊2上设置的储物凹槽6可以暂时性存储气囊2上滞留物,防止气囊2上滞留物经气囊2壁与气管壁之间的皱褶渗漏入下呼吸道,也避免了通过增加气囊2的充气量来减少气囊2上滞留物渗漏,从而防止气囊2压力过高、压迫损伤气管粘膜,声门下吸引通道末端开口位于气囊2上方凹槽底部,进行声门下吸引时,气囊2的凹槽壁可有效保护气管黏膜,避免吸引负压直接刺激气管黏膜,避免气道粘膜损伤、病人不适等并发症发生,从而保障持续声门下吸引顺利进行,利用与吸引孔5连通的吸引管7充分引流气囊2上滞留物,更加有效的预防肺部感染,避免呼吸机相关性气管支气管炎(VAT)和呼吸机相关性肺炎(VAP)发生。
[0020]如图2和图4所示,所述气囊2分为两段,其中远离吸引孔5的一段为圆柱形,靠近吸引孔5的一段上设置有储物凹槽6,所述充气管4为两根,其中一根与圆柱形的一段气囊2连通,另一根与设置有储物凹槽6的一段气囊2连通。本申请中的气囊2可以制成上方带凹槽、下方为圆柱形的一体化结构,也可采用前述的分体式结构,将形状较为复杂的储物凹槽6部分分开制造,以降低制造难度,提高产品成形的精度。
[0021]如图5所示,所述储物凹槽6的中部向气囊2的外壁方向凹陷。由于储物凹槽6的容积有限,为了提高其可靠性,防止暂存于储物凹槽6中的滞留物因为意外情况未被及时引流,使储物凹槽6的中部向气囊2的外壁方向凹陷以实现在不增大气囊2外形尺寸的前提下增大其容积,提高其储物能力。
[0022]所述充气管4上设置有指示气囊9。所述指示气囊9用于在向气囊2充气时检查其充气程度。
[0023]所述吸引管7上远离吸引孔5的一端设置有端盖8。在不需要进行吸引操作的时候可以利用端盖8将吸引管7关闭。
【主权项】
1.声门下吸引气管导管,包括导管(1)、气囊(2)、接头(3)、充气管(4)、所述接头(3)安装在导管(I)的一端,所述气囊(2)设置在导管(I)上,所述充气管(4)的一端与气囊(2)内部连通,另一端从导管(I)的外壁引出,其特征在于:还包括吸引管(7),导管(I)上靠近气囊⑵的一端开有吸引孔(5),吸引管(7) —端与吸引孔(5)连通,另一端从导管⑴的外壁引出,所述气囊(2)上设置有储物凹槽(6)。
2.如权利要求1所述的声门下吸引气管导管,其特征在于:所述气囊(2)分为两段,其中远离吸引孔(5)的一段为圆柱形,靠近吸引孔(5)的一段上设置有储物凹槽(6),所述充气管(4)为两根,其中一根与圆柱形的一段气囊(2)连通,另一根与设置有储物凹槽(6)的一段气囊(2)连通。
3.如权利要求1所述的声门下吸引气管导管,其特征在于:所述储物凹槽(6)的中部向气囊(2)的外壁方向凹陷。
4.如权利要求1所述的声门下吸引气管导管,其特征在于:所述充气管(4)上设置有指示气囊(9)。
5.如权利要求1所述的声门下吸引气管导管,其特征在于:所述吸引管(7)上远离吸引孔(5)的一端设置有端盖(8)。
【专利摘要】本发明公开了一种声门下吸引气管导管,特别是一种用于属于医疗消耗品领域的声门下吸引气管导管。本发明提供一种既能保障气道封闭、固定导管,保证正压通气的有效完成,保护气道粘膜,增加声门下吸引时病人的舒适度,又可以从根本上预防上呼吸道分泌物进入下呼吸道和肺部,有效预防肺部感染的声门下吸引气管导管,包括导管、气囊、接头、充气管,吸引管,导管上有吸引孔,吸引管与吸引孔连通,一端从导管引出,气囊上设置有储物凹槽。本申请既能保障气道封闭,保护气道粘膜,同时保障在进行持续声门下吸引时,避免病人刺激性剧烈咳嗽和不适等并发症发生,又可以从根本上预防气囊上滞留物渗漏物进入下呼吸道和肺部,有效预防肺部感染。
【IPC分类】A61M16-04, A61M25-10
【公开号】CN104874079
【申请号】CN201510290693
【发明人】周永方, 康焰, 金晓东, 王波, 王鹏
【申请人】四川大学华西医院
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2015年5月29日
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