的叶片与下层光栅组件的叶片平行设置，所述下层光栅组件的叶片之间的缝隙均位于上层光栅组件的对应叶片的底面的下方，即为上层光栅叶片的底面所遮蔽。这样上层光栅叶片的底面覆盖下层叶片间的缝隙，很好的解决了片间漏射的问题，因此可以取消防止漏射所采用的阶梯形叶片及叶片设置凸条和凹槽，可以进一步将叶片做到更薄，拟合形状更加精确，同时也避免了叶片间的摩擦，更加可靠和低噪。这在前述的实施例方式中也有论及。
[0035]在一些实施例中，叶片位置的对应排布方案可以按照下述原则进行:所述上层光栅组件的叶片的右侧边沿与下层光栅组件的叶片的左侧边沿对齐，或上层光栅组件的叶片的左侧边沿与下层光栅组件的叶片的右侧边沿对齐。如图4所示。
[0036]当叶片做到很薄时，按照这一标准进行排布，更加简单方便。
[0037]在一些实施例中，叶片位置的对应排布方案可以按照下述原则进行:，所述上层光栅组件的叶片的底面中心线与下层光栅组件的叶片之间的缝隙中心线对齐。如图3所不O
[0038]按照这一标准排布，可以兼顾防止漏射的同时，将叶片间的间隔设置稍微宽一点，为排布电机提供便利。
[0039]在一些实施例中，叶片位置的对应排布方案可以按照下述原则进行:所述上层光栅组件的叶片由中间叶片开始到右侧叶片的右侧边线，从与下层光栅组件的叶片的左侧边沿对齐逐渐向叶片中心线方向移动，即上层叶片覆盖下层叶片的面积逐渐加大，左侧叶片镜像设置。
[0040]这样排布可以更加优化片间漏射的规避效果。
[0041]在一些实施例中，所述放射治疗用光栅装置还设有叶片前端位置控制装置，其控制上层叶片组件的两组叶片前端即自由端相互接触后形成的缝隙与下层叶片组件的两组叶片前端即自由端相互接触后形成的缝隙错位，即所述下层光栅组件的叶片之间的缝隙和叶片前端接触后形成的缝隙均位于上层光栅组件的对应叶片的底面的下方，即为上层光栅叶片的底面所遮蔽。如图5所示。
[0042]在拟合形状时，两侧的叶片相互碰触闭合，而中间区域叶片分离，从而形成拟合的孔洞，叶片碰触后依然存在缝隙，上层光栅组件两层叶片自由端碰触后形成上层叶片前端缝隙53、下层光栅组件两层叶片自由端碰触后形成下层叶片前端缝隙63。
[0043]这个缝隙产生的漏射现有技术没有提供解决方案，也没有相关的技术启示，本技术方案创造性的采用双层叶片碰触后缝隙的异位，从而有效的解决了叶片前端漏射的难题。
[0044]在一些实施例中，，所述叶片前端位置控制装置包括:
[0045]叶片前端距离计数器，用于实时监控下层光栅组件对应叶片前端的距离，当数据为零时，则表明该对叶片前端相互碰触闭合；
[0046]中央控制器，接收叶片前端距离计数器传来的数据，当某组叶片前端距离为零时，则向上层光栅组件中上方对应的位置的一对叶片发出指令，该对叶片执行以下命令:
[0047]第一，该对叶片前端碰触闭合并保持；
[0048]第二，调整两个叶片向前移动的距离占比，使得两个叶片前端的碰触后形成的缝隙与下层叶片间前端缝隙错位，即所述下层光栅组件的叶片之间的缝隙和叶片前端接触后形成的缝隙均位于上层光栅组件的对应叶片的底面的下方，即为上层光栅叶片的底面所遮蔽。
[0049]在一般情况下，下层光栅组件根据病灶形状进行形状拟合后，需要碰触闭合的叶片一般是各前进50%的距离，即叶片前端碰触闭合形成的缝隙位于下层光栅组件两侧叶片之间的中心线上，那么，我们设定每层光栅组件两侧叶片均位于两侧的初始位置时，对应叶片之间的距离为D，只要控制上层光栅组件中的对应的叶片前进的比例不是50% D比50%D，即可使得上层光栅组件两侧的叶片前端碰触后形成的前端缝隙与下层叶片前端碰触闭合后形成的前端缝隙错位，即所述下层光栅组件的叶片之间的缝隙和叶片前端接触后形成的缝隙均位于上层光栅组件的对应叶片的底面的下方，即为上层光栅叶片的底面所遮蔽。这个前进比例可以根据需要来设定，如上层光栅组件的两侧叶片分别前进40% D与60% D，或者45% D与55% D等任意比例，都可以达到上层光栅组件两侧的叶片前端碰触后形成的前端缝隙与下层叶片前端碰触闭合后形成的前端缝隙错位的目的，只是这个比例靠近50%比50 %时，更节约时间，效率更高。
[0050]在另外一些实施例中，也可以用时间继电器来控制，因为每侧叶片走完整个距离D的时间是一定的，设为T，因此，下层光栅组件两侧需要闭合的叶片均运行1/2T，即各走一半距离碰触闭合，而对应的上层两侧叶片则可设定为各运行3/5Τ和2/5Τ，也可以是其它任意时间，同样达到上述目的，为确保叶片碰触闭合的可靠性，可加装检测传感器或位置开关/传感器来确认叶片是否到位。
[0051]以上所述的仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种放射治疗用光栅装置，其特征在于，包括:上层光栅组件和下层光栅组件两层光栅叶片，所述上层光栅组件与下层光栅组件均包括水平对向设置的两组叶片，所述两组叶片均分别由驱动元件驱动做水平往复运动。2.根据权利要求1所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述上层光栅组件中的叶片与下层光栅组件的叶片平行设置，所述下层光栅组件的叶片之间的缝隙均位于上层光栅组件的对应叶片的底面的下方，即为上层光栅叶片的底面所遮蔽。3.根据权利要求1到2任一所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述上层光栅组件的叶片的右侧边沿与下层光栅组件的叶片的左侧边沿对齐。4.根据权利要求2所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述上层光栅组件的叶片的底面中心线与下层光栅组件的叶片之间的缝隙中心线对齐。5.根据权利要求2所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述放射治疗用光栅装置还设有叶片前端位置控制装置，其控制上层叶片组件的两组叶片前端即自由端相互接触后形成的缝隙与下层叶片组件的两组叶片前端即自由端相互接触后形成的缝隙错位，即所述下层光栅组件的叶片之间的缝隙和叶片前端接触后形成的缝隙均位于上层光栅组件的对应叶片的底面的下方，即为上层光栅叶片的底面所遮蔽。6.根据权利要求2所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述上层光栅组件的叶片由中间叶片开始到右侧叶片的右侧边线，从与下层光栅组件的叶片的左侧边沿对齐逐渐向叶片中心线方向移动，即上层叶片覆盖下层叶片的面积逐渐加大，左侧叶片镜像设置。7.根据权利要求5所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述叶片前端位置控制装置包括: 叶片前端距离计数器，用于实时监控下层光栅组件对应叶片前端的距离，当数据为零时，则表明该对叶片前端相互碰触闭合； 中央控制器，接收叶片前端距离计数器传来的数据，当某组叶片前端距离为零时，则向上层光栅组件中上方对应的位置的一对叶片发出指令，该对叶片执行以下命令: 第一，该对叶片前端碰触闭合并保持； 第二，调整两个叶片向前移动的距离占比，使得两个叶片前端的碰触后形成的缝隙与下层叶片间前端缝隙错位，即所述下层光栅组件的叶片之间的缝隙和叶片前端接触后形成的缝隙均位于上层光栅组件的对应叶片的底面的下方，即为上层光栅叶片的底面所遮蔽。
【专利摘要】本发明公开了一种放射治疗用光栅装置，包括：上层光栅组件和下层光栅组件两层光栅叶片，所述上层光栅组件与下层光栅组件均包括水平对向设置的两组叶片，所述两组叶片均分别由驱动元件驱动做水平往复运动。创造性的通过双层光栅装置的设置，等于将电机分成上下两组排布，排布的空间增加了整整一倍，使得叶片可以做到更薄，并且当上下两层叶片错位排布时，通过两次对病灶形状的拟合，拟合曲线的阶梯状折线更短更密，拟合精度大大提高。
【IPC分类】A61N5/00
【公开号】CN105727448
【申请号】CN201410763515
【发明人】姚毅
【申请人】苏州雷泰医疗科技有限公司
【公开日】2016年7月6日
【申请日】2014年12月11日