专利名称：一种多晶硅还原炉炉筒清洗方法
技术领域：
本发明涉及一种还原炉炉筒清洗方法，尤其是一种多晶硅还原炉炉筒清洗方法。
背景技术：
“硅油”是一种大分子量的硅卤化物，含硅25%呈油状的物质，这种油状物是在还原过程中低温处产生的(低于300°C )，往往沉积在炉壁、底盘、观察孔石英片等冷壁处。硅油有强烈的吸水性，因而在拆炉时，硅油强烈的吸收空气中的水份同时游离出氯化氢而腐蚀设备。所以炉筒必须定时的进行清洗。一般的清洗方法用高压水枪进行冲洗，再用氮气吹干， 然后打磨，最后再用无水乙醇擦拭。实践证明，由于清洗过程中要对炉壁进行打磨，导致大量的重金属析出，造成清洗后首次加工的多晶硅的纯度偏低，严重影响多晶硅的生产。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供具有简单可行、清洗效率高等优点的一种多晶硅还原炉炉筒清洗方法。本发明的还原炉炉筒清洗方法包括下述步骤
(1)拆开多晶硅还原炉的视镜；
(2)采用高压水枪用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；
(3)用涤纶无纺布蘸取质量分数为5%-10%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞10-15min ；
(4)采用高压水枪用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；
(5)再次用涤纶无纺布蘸取质量分数为2%-4%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭， 让其溶液在炉筒内壁停滞10-15min ；
(6)采用高压水枪用去离子水炉筒内壁进行冲洗，并用氮气吹干；
(7)用无水乙醇擦拭炉筒内壁，待到乙醇挥发完全后，用干燥的涤纶无纺布再擦拭一遍。第一次擦拭炉筒内壁采用高浓度氟化氢铵溶液，是为了去除沉积在炉壁上的硅油、粉尘等杂质。第二次用低浓度氟化氢铵溶液擦洗，也叫精擦洗，保证了炉筒内壁光洁度， 可以使生产过程中硅芯热辐射到炉壁上后会有一部分热能反射回来，起到节能的目的。操作过程中关键是擦试氟化氢铵溶液和操作顺序及对时间的把握，时间太长会腐蚀设备，时间太短会造成清洗不净。采用上述技术方案所产生的有益效果在于
1.本发明用高浓度氟化氢铵溶液进行第一次擦洗，去除沉积在炉壁上硅油、粉尘等杂质。用低浓度氟化氢铵溶液进行的二次擦洗，保证炉筒内壁光洁度好，可以使生产过程中硅芯热辐射到炉壁上后会有一部分热能反射回来，起到节能的目的。2.本发明中用氟化氢铵溶液对炉壁进行清洗后，可以不用砂轮打磨，避免了不锈钢保护膜遭到破坏析出铁离子，保证了生产过程中多晶硅产品的纯度。
3.用涤纶无纺布对炉壁进行擦洗，可以减少因擦拭导致炉壁内壁布纤维的存在。4.采用去离子水清洗炉筒，去除残留的氟化氢铵，避免氟化氢铵对还原炉筒内壁产生腐蚀。
具体实施例方式
实施例1
(1)拆开多晶硅还原炉的视镜；
(2)采用高压水枪用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；
(3)用涤纶无纺布蘸取质量分数为5%的氟化氢铵溶液对内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞15min ；
(4)采用高压水枪用去离子水对炉筒内壁进行冲洗；
(5)再次用涤纶无纺布蘸取质量分数为2%的氟化氢铵溶液对内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞15min ；
(6)采用高压水枪用去离子水对炉筒内壁进行冲洗，并用氮气吹干；
(7)用无水乙醇擦拭炉筒内壁，待到乙醇挥发完全后，用干燥的涤纶无纺布再擦拭一遍。实施例2
(1)拆开多晶硅还原炉的视镜；
(2)采用高压水枪用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；
(3)用涤纶无纺布蘸取质量分数为10%的氟化氢铵溶液对内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞IOmin ；
(4)采用高压水枪用去离子水对炉筒内壁进行冲洗；
(5)再次用涤纶无纺布蘸取质量分数为4%的氟化氢铵溶液对内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞IOmin ；
(6)采用高压水枪用去离子水对炉筒内壁进行冲洗，并用氮气吹干；
(7)用无水乙醇擦拭炉筒内壁，待到乙醇挥发完全后，用干燥的涤纶无纺布再擦拭一遍。实施例3
(1)拆开多晶硅还原炉的视镜；
(2)采用高压水枪用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；
(3)用涤纶无纺布蘸取质量分数为8%的氟化氢铵溶液对内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞12min ；
(4)采用高压水枪用去离子水对炉筒内壁进行冲洗；
(5)再次用涤纶无纺布蘸取质量分数为3%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞13min;
(6)采用高压水枪用去离子水炉筒内壁进行冲洗，并用氮气吹干；
(7)用无水乙醇擦拭炉筒内壁，待到乙醇挥发完全后，用干燥的涤纶无纺布再擦拭一遍。
权利要求
1. 一种多晶硅还原炉炉筒清洗方法，其特征在于其包括下述步骤(1)拆开多晶硅还原炉的视镜；(2)采用高压水枪用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；(3)用涤纶无纺布蘸取质量分数为5%-10%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞10-15min ；(4)采用高压水枪用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；(5)再次用涤纶无纺布蘸取质量分数为2%-4%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭， 让其溶液在炉筒内壁停滞10-15min ；(6)采用高压水枪用去离子水炉筒内壁进行冲洗，并用氮气吹干；(7)用无水乙醇擦拭炉筒内壁，待到乙醇挥发完全后，用干燥的涤纶无纺布再擦拭一
全文摘要
本发明公开了一种多晶硅还原炉炉筒清洗方法，包括下述步骤(1)拆开多晶硅还原炉的视镜；(2)用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；(3)用涤纶无纺布蘸取质量分数为5%-10%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞10-15min；(4)用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；(5)再次用涤纶无纺布蘸取质量分数为2%-4%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭，让其溶液在炉筒内壁停滞10-15min；(6)用去离子水炉筒内壁进行冲洗，并用氮气吹干；(7)用无水乙醇擦拭炉筒内壁，待到乙醇挥发完全后，用干燥的涤纶无纺布再擦拭一遍。本发明的方法具有简单可行、清洗效率高等优点。
文档编号B08B9/08GK102357493SQ201110213570
公开日2012年2月22日 申请日期2011年7月28日 优先权日2011年7月28日
发明者冯谨, 杨刊, 陈骏 申请人:河北东明中硅科技有限公司