新型硅片清洗液的制作方法
【专利摘要】本发明公开了新型硅片清洗液，由表面活性剂20-50份、三羟乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、柑橘油3-6份、水20-33份组成，以重量份数计。本发明可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率率达到99.9％。
【专利说明】新型硅片清洗液
【技术领域】[0001]本发明涉及一种清洗液，特别涉及一种新型硅片清洗液。
【背景技术】
[0002]随着社会的发展，能源危机日益严重的今天，开发利用新能源已经越来越收到人们的关注，太阳能由于器无污染、可再生、无地域性等优点，越来越受到人们的青睐，太阳能产业也来越得以发展。而伴随太阳能光伏产业的成熟，硅片的使用也越来越多。
[0003]清洗最为硅片的一个生产工序之一，清洗的好坏程度对硅片的使用性能有着很大的影响。清洗的主要目的是为了清洗掉切割过程中产生的沙粒，残留的切削磨料、金属离子及指纹等，使硅片表面达到无腐蚀、无氧化、无残留等技术指标。传统的硅片清洗，由于各个方法不一样，采用的清洗液也不一样。现有技术中的清洗液清洗效果较差，对于硅片表面的污溃难以做到更好的去除，降低了硅片的使用效果。
【发明内容】
[0004]本发明所要解决的技术问题是提供一种能将硅片清洗干净，使用简单的新型清洗液。
[0005]为了解决上述技术问题，本发明新型硅片清洗液，由表面活性剂20-50份、三羟乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化铵7_10份、柑橘油3_6份、水20-33份组成，以重量份数计。
[0006]上述新型硅片清洗液，其中，由表面活性剂27份、三羟乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化铵9份、柑橘油2.5份、水31份组成。
[0007]上述新型硅片清洗液，其中，所述表面活性剂为非离子表面活性剂。
[0008]上述新型硅片清洗液，其中，所述表面活性剂为单硬脂酸甘油酯。
[0009]上述新型硅片清洗液，其中，所述水为去离子水。
[0010]本发明可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率率达到99.9%0
【具体实施方式】
[0011]下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
[0012]实施例一
新型硅片清洗液，将单硬脂酸甘油酯27份、三羟乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化铵9份、柑橘油2.5份、水31份组成。以重量份数计，将上述原料以120r/min的速度下，搅拌15分钟。
[0013]性能指标:清洗硅片1000片，清洗洁净程度达到99.9%
实施例二新型硅片清洗液，将单硬脂酸甘油酯38份、三羟乙基胺10份、乙醇7份、丙二醇5份、氟化铵8份、柑橘油5份、水22份组成。以重量份数计，将上述原料以120r/min的速度下，搅拌15分钟。
[0014]性能指标:清洗硅片1000片，清洗洁净程度达到99.1%
实施例三
新型硅片清洗液，将单硬脂酸甘油酯41份、三羟乙基胺7份、乙醇7份、丙二醇4份、氟化铵7份、柑橘油4份、水28份组成。以重量份数计，将上述原料以120r/min的速度下，搅拌15分钟。
[0015]性能指标:清洗硅片1000片，清洗洁净程度达到99.9%
本发明可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，提高了硅片的清洗 速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率率达到 99.9%o
[0016]本【技术领域】中的普通技术人员应当认识到，以上的实施例仅是用来说明本发明的目的，而并非用作对本发明的限定，只要在本发明的实质范围内，对以上所述实施例的变化、变型都将落在本发明的权利要求的范围内。
【权利要求】
1.新型硅片清洗液，其特征在于，由表面活性剂20-50份、三羟乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、柑橘油3-6份、水20-33份组成，以重量份数计。
2.如权利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，由表面活性剂27份、三羟乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化铵9份、柑橘油2.5份、水31份组成。
3.如权利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，所述表面活性剂为非离子表面活性剂。
4.如权利要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，所述表面活性剂为单硬脂酸甘油酯。
5.如权利 要求1所述的新型硅片清洗液，其特征在于，所述水为去离子水。
【文档编号】C11D1/66GK103695190SQ201310747719
【公开日】2014年4月2日 申请日期:2013年12月31日 优先权日:2013年12月31日
【发明者】聂金根 申请人:镇江市港南电子有限公司