等离子清洗设备的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种等离子清洗设备，包括机体和滚轮；所述滚轮安装在机体下端；所述机体包括真空腔体、反应仓、真空泵装置、射频电源、匹配器、PLC控制系统、手控盒和人机界面；所述反应仓和人机界面设置在机体右侧壁；所述真空泵装置安装在机体低端内；所述真空泵装置一体制成有一级泵组、一级泵组进气口、一级泵组出气口、二级泵组、二级泵组进气口、二级泵组出气口和真空泵组机架；所述反应仓一体制成有门板双重密封、双观察窗、阳电极、阴电极、配置重型铰接、第一抽气口、第二抽气口和真空检测口；本实用新型依靠达到去除物体表面污渍的清洗设备、设备容量达到120L和配套开发大功率大容量的等离子清洗设备。
【专利说明】等离子清洗设备
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种等离子清洗设备。
【背景技术】
[0002]目前，传统的清洗设备主要以湿法清洗为主。湿法清洗已经在电子工业生产中广泛应用，清洗主要依靠物理和化学(溶剂)的作用，如在化学活性剂吸附、浸透、溶解、离散作用下辅以超声波、喷淋、旋转、沸腾、蒸气、摇动等物理作用下去除污溃，这种方法普遍存在清洗效果差、设备容量小和配套开发功率小等问题。
实用新型内容
[0003](一)要解决的技术问题
[0004]为解决上述问题，本实用新型提出了一种依靠处于“等离子态”的物质的“活化作用”达到去除物体表面污溃的清洗设备、设备容量达到120L和配套开发大功率大容量的的等离子清洗设备。
[0005](二)技术方案
[0006]本实用新型的等离子清洗设备，包括机体和滚轮；所述滚轮安装在机体下端；所述机体包括真空腔体、反应仓、真空泵装置、射频电源、匹配器、PLC控制系统、手控盒和人机界面；所述反应仓和人机界面设置在机体右侧壁；所述真空泵装置安装在机体低端内；所述真空泵装置一体制成有一级泵组、一级泵组进气口、一级泵组出气口、二级泵组、二级泵组进气口、二级泵组出气口和真空泵组机架；所述反应仓一体制成有门板双重密封、双观察窗、阳电极、阴电极、配置重型铰接、第一抽气口、第二抽气口和真空检测口。
[0007]进一步地,所述真空腔体的容量为120L。
[0008]进一步地，所述射频电源的频率为13.56MHz ο
[0009]进一步地，所述反应仓为矩形腔，且由不锈钢板制成。
[0010]进一步地，所述人机界面包括自动模式和手动模式。
[0011](三)有益效果
[0012]本实用新型与现有技术相比较，其具有以下有益效果:通过真空腔体依靠PLC控制系统处于“等离子态”的物质的“活化作用”达到去除物体表面污溃的清洗设备、设备容量达到120L和配套开发大功率大容量的控制单元。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型的等离子清洗设备的结构示意图；
[0014]图2是本实用新型的真空泵装置的结构示意图；
[0015]图3是本实用新型的反应仓前侧的结构示意图；
[0016]图4是本实用新型的反应仓后侧的结构示意图。
[0017]1-机体；2-滚轮；3_真空腔体；4_反应仓；5_真空泵装置；6_射频电源；7-匹配器；8-PLC控制系统；9-手控盒；10-人机界面；11-一级泵组；12-—级泵组进气口 ；13_ —级泵组出气口 ；14_ 二级泵组；15-二级泵组进气口 ；16_ 二级泵组出气口 ；17_真空泵组机架；18_门板双重密封；19_双观察窗；20_阳电极；21_阴电极；22_配置重型铰接；23_第一抽气口 ；24_第二抽气口 ；25_真空检测口。
【具体实施方式】
[0018]如图1、图2、图3和图4所示的一种等离子清洗设备，包括机体I和滚轮2 ;所述滚轮2安装在机体I下端；所述机体I包括真空腔体3、反应仓4、真空泵装置5、射频电源
6、匹配器7、PLC控制系统8、手控盒9和人机界面10 ;所述反应仓4和人机界面10设置在机体I右侧壁；所述真空泵装置5安装在机体I低端内；所述真空泵装置5 —体制成有一级泵组11、一级泵组进气口 12、一级泵组出气口 13、二级泵组14、二级泵组进气口 15、二级泵组出气口 16和真空泵组机架17 ;所述反应仓4 一体制成有门板双重密封18、双观察窗19、阳电极20、阴电极21、配置重型铰接22、第一抽气口 23、第二抽气口 24和真空检测口 25。
[0019]其中，所述真空腔体3的容量为120L ;所述射频电源6的频率为13.56MHz ;所述反应仓4为矩形腔，且由不锈钢板制成；所述人机界面10包括自动模式和手动模式。
[0020]本实用新型的等离子清洗设备，其优点在于:通过真空腔体依靠PLC控制系统处于“等离子态”的物质的“活化作用”达到去除物体表面污溃的清洗设备、设备容量达到120L和配套开发大功率大容量的控制单元。
[0021]上面所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的构思和范围进行限定。在不脱离本实用新型设计构思的前提下，本领域普通人员对本实用新型的技术方案做出的各种变型和改进，均应落入到本实用新型的保护范围，本实用新型请求保护的技术内容，已经全部记载在权利要求书中。
【权利要求】
1.一种等离子清洗设备，包括机体(I)和滚轮(2);所述滚轮(2)安装在机体(I)下端；其特征在于:所述机体(I)包括真空腔体(3)、反应仓(4)、真空泵装置(5)、射频电源(6)、匹配器(7)、PLC控制系统(8)、手控盒(9)和人机界面(10);所述反应仓(4)和人机界面(10 )设置在机体(I)右侧壁；所述真空泵装置(5 )安装在机体(I)低端内；所述真空泵装置(5) —体制成有一级泵组(11)、一级泵组进气口( 12)、一级泵组出气口( 13)、二级泵组(14)、二级泵组进气口(15)、二级泵组出气口(16)和真空泵组机架(17);所述反应仓(4)一体制成有门板双重密封(18)、双观察窗(19)、阳电极(20)、阴电极(21)、配置重型铰接(22)、第一抽气口(23)、第二抽气口(24)和真空检测口(25)。
2.根据权利要求1所述的等离子清洗设备，其特征在于:所述真空腔体(3)的容量为120L。
3.根据权利要求1所述的等离子清洗设备，其特征在于:所述射频电源(6)的频率为13.56MHz ο
4.根据权利要求1所述的等离子清洗设备，其特征在于:所述反应仓(4)为矩形腔，且由不锈钢板制成。
5.根据权利要求1所述的等离子清洗设备，其特征在于:所述人机界面(10)包括自动模式和手动模式。
【文档编号】B08B7/00GK203470419SQ201320528568
【公开日】2014年3月12日 申请日期:2013年8月28日 优先权日:2013年8月28日
【发明者】梁明刚 申请人:东莞市启天自动化设备有限公司