真空炉清洗装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空降解清洗装置，具体为一种真空炉清洗装置，包括底座、炉体和炉盖，炉盖固定连接有支架，支架链接在底座上，支架与底座垂直设置；炉体内置有加热器，炉体底部开设有废料收集斗；炉盖上设有放置工件的料斗；炉体另一侧从上往下依次设有超压安全阀、供水系统和真空泵。本实用新型结构简单，设计合理，能有效的回收热解后的高分子聚合物等有机废料，能有效的降低高分子聚合物在降解作用下产生的污染物的排放，环保，清洗效果好。
【专利说明】真空炉清洗装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及纺丝辅助设备【技术领域】，尤其是一种针对纺丝行业中过滤器、喷丝板和喷丝组件等公件上附着的高分子聚合物的真空降解清洗装置。
【背景技术】
[0002]目前，大量的应用在纺丝行业中，针对过滤器、喷丝板和喷丝组件等公件上附着的高分子聚合物清洗的方式，是以化学溶解或是高温煅烧等方式为主。化学溶解剂不但是一种有毒介质，而且易燃、易导致环境污染；高温煅烧容易导致精细工件的损坏，也会导致大量不可降解的污染物的排放。
实用新型内容
[0003]本实用新型要解决的技术问题是:克服现有技术的不足，提供一种结构简单，环保，清洗效果好的真空炉清洗装置。
[0004]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种真空炉清洗装置，具有底座，所述底座上方同轴向设有炉体和炉盖，炉盖固定连接有支架，支架通过轨道活动链接在底座上，支架与底座垂直设置；所述炉体内置有加热器，加热器上方设有淋水器，炉体底部开设有用于收集高分子聚合物熔化物的废料收集斗；所述炉盖上设有放置工件的料斗；所述炉体另一侧从上往下依次设有超压安全阀、供水系统和真空泵。
[0005]进一步地，所述炉体内壁设有保温层，保温层材质为石棉。
[0006]进一步地，所述料斗底端设有落料口，当炉盖闭合后，落料口与废料收集斗上下匹配。
[0007]进一步地，所述炉体上连接设有触媒装置和控制器，触媒装置内装有催化剂，控制器用于控制真空炉清洗装置的整个电源和信号。
[0008]进一步地，所述炉体上连接有真空压力表，用于直观地观察炉体内的真空度。
[0009]本实用新型工作原理:利用高分子聚合物在300度左右时可熔融，高于300度隔绝空气可裂解焦化，高于400度在有少量空气并有一定真空度的环境中可完全氧化的特性。先将粘有高分子污物的工件加热到300度，使工件上数量较多的高分子聚合物熔化后流淌到炉体底端的废料收集斗内，然后再将炉温升到400-500度，同时打开真空泵，并通入少量新鲜空气，在催化剂作用下，使剩余的聚合物充分氧化，生成的二氧化碳，经淋水器中的水喷淋后通过真空泵抽吸,和水一起排出炉外。
[0010]本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单，设计合理，能有效的回收热解后的高分子聚合物等有机废料，能有效的降低高分子聚合物在降解作用下产生的污染物的排放，环保，清洗效果好。
【专利附图】
【附图说明】
[0011]下面结合附图对本实用新型进一步说明。
[0012]图1是本实用新型的结构示意图；
[0013]图2是图1的左视图。
[0014]其中:1.炉体，2.炉盖，3.保温层，4.加热器，5.超压安全阀，6.供水系统，7.真空泵，8.废料收集斗，9.料斗，10.落料口，11.支架，12.淋水器，13.触媒装置，14.控制器。
【具体实施方式】
[0015]现在结合附图对本实用新型作进一步的说明。这些附图均为简化的示意图仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
[0016]如图1和图2所示的真空炉清洗装置，具有底座，所述底座上方同轴向设有炉体I和炉盖2，炉盖2固定连接有支架11，支架11通过轨道活动链接在底座上；炉体I内置有加热器4，加热器4上方设有淋水器12，炉体I底部开设有废料收集斗8 ;炉盖2上设有放置工件的料斗9 ;炉体I另一侧从上往下依次设有超压安全阀5、供水系统6和真空泵7。
[0017]炉体I内壁设有保温层3 ;料斗9底端设有落料口 10 ;炉体I上连接设有触媒装置13和控制器14 ;炉体I上连接有真空压力表。
[0018]工作时，打开炉盖2，将需要清洗的工件放入料斗9，关好炉盖2并锁紧；开启真空泵7，检查各处是否密封良好，真空压力表上显示真空度为-0.08MPa ;操作控制器14，启动加热器4，将工件加热至30(TC，保温120分钟；炉温升至310°C，打开供水系统6和真空泵7，淋水器12工作，真空度达到0.08MPa,加热器4继续工作，将工件加热至450°C，保温300分钟；关闭加热器4，等炉温降至200°C以下，关闭供水系统6 ;等炉温降至120°C以下，打开炉盖2，取出已经清洗好的工件。
[0019]以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
【权利要求】
1.一种真空炉清洗装置，其特征在于:具有底座，所述底座上方同轴向设有炉体(I)和炉盖(2)，炉盖(2)固定连接有支架(11)，支架(11)通过轨道活动链接在底座上；所述炉体(I)内置有加热器(4)，加热器(4)上方设有淋水器(12)，炉体(I)底部开设有废料收集斗(8);所述炉盖(2)上设有放置工件的料斗(9);所述炉体(I)另一侧从上往下依次设有超压安全阀(5)、供水系统(6)和真空泵(7)。
2.根据权利要求1所述的真空炉清洗装置，其特征在于:所述炉体(I)内壁设有保温层⑶。
3.根据权利要求1所述的真空炉清洗装置，其特征在于:所述料斗(9)底端设有落料口(10)。
4.根据权利要求1所述的真空炉清洗装置，其特征在于:所述炉体(I)上连接设有触媒装置(13)和控制器(14)。
5.根据权利要求1所述的真空炉清洗装置，其特征在于:所述炉体(I)上连接有真空压力表。
【文档编号】B08B7/04GK204035134SQ201420482271
【公开日】2014年12月24日 申请日期:2014年8月25日 优先权日:2014年8月25日
【发明者】徐汉兴, 李协智 申请人:张家港锦亿化纤有限公司