专利名称：具有抗反射结构的光学元件和制造具有抗反射结构的光学元件的方法
技术领域：
本发明涉及具有抗反射结构的光学元件和制造该元件的方法。具体地，本发明涉及由多组分玻璃形成的具有抗反射结构的光学元件和制造该元件的方法。
背景技术：
为了防止光学元件的表面反射，已经提出在光学元件的表面形成抗反射结构。所提出的抗反射结构具有间距为亚微米级的高宽比大于等于1的非常精细的凹凸。已经提出利用干法刻蚀工艺的微加工方法作为形成该种精细结构的方法。
另一方面，已经提出使由玻璃或者树脂制成的光学材料(可变形材料)压制成型(pressmolding)的方法作为大数量低成本制造高精密度光学元件的有效方法。当用模具使已经加热软化的由玻璃或者树脂制成的光学材料压制成型时，光学材料难以从模具上脱离，因此为了使光学材料易于从模具上脱离，提出了诸如在模具表面形成特殊的脱模薄膜(releasing film)，或者在每次成型注射时涂敷脱模剂的各种改进。尤其当用玻璃作为光学材料时，将在模具表面形成非常特殊的涂层。
例如，JP62-28091B公开了采用WC基烧结硬质合金或者金属陶瓷作为模具材料，并且在由该种模具材料制造的模具的表面涂上贵重金属基保护膜的方案。这样，采用具有该种结构的模具就可以通过压制成型的方法大量制造光学元件。在JP6-305742A中所述的模具中，在由氮化硼、氮化铬、碳化铬、氧化铬，碳化硅、碳精、铂或烧结硬质合金制成的模具主体的具有光学功能的表面上形成厚度为10nm或者更小的碳膜，从而提供相对于玻璃的良好的脱模性能。
发明内容
本发明要解决的问题然而，在采用干法刻蚀工艺的微加工方法的情况下，取决于所采用的光学材料，其表面通过刻蚀之后变得粗糙，或者刻蚀速率非常低，因此能够采用的光学材料受到限制。也就是说，可采用的光学材料局限于石英玻璃等材料，不能采用用于制造以各种光学常数设计的光学器件的多组分玻璃或者树脂。因此，当试图通过利用干法刻蚀工艺的微加工方法制造具有抗反射结构的光学元件时，得不到具有大高宽比的抗反射结构的光学元件。并且，由于刻蚀的重复性低，产量减少，批量生产率下降，从而使生产成本显著增加。
在常规的用于压制成型具有抗反射结构的光学元件的压制成型方法中，当加热软化的光学材料与模具接触的同时(被压制的同时)冷却的时候，由于模具和光学材料之间的热膨胀系数的差异将导致热应力。因此，降低了转移到光学材料上的图形的精度。特别是当模具的中心到外周的距离越长，转移到光学材料的图形的错位就越大。因此，具有精细的凹凸形的图形不能大面积精确地转移。所以，有必要使模具在没有冷却的情况下脱离已经压制成型的光学材料。
然而，当采用玻璃作为光学材料，并利用JP62-28091B中公开的用WC基烧结硬质合金或者金属陶瓷作为材料制成并且其表面涂有贵重金属基保护膜的模具对该玻璃进行压制成型时，模具和玻璃之间的脱模性能符合要求，但是模具不能在没有冷却的情况下脱离压制成型的玻璃，因此不能精确地模制具有抗反射结构的光学元件。当采用JP6-305742A中公开的其中形成碳膜的模具时，可以在没有冷却的情况下脱模，但是加工模具主体的材料使其具有用于抗反射结构的凹凸的形状非常困难。
当通过压制成型制造具有抗反射结构的光学元件时，模具的压制表面必须具有与光学元件相反的形状。然而，形成相反的形状的难易程度取决于光学元件的形状。例如，在微透镜阵列(microlens array)的情况下，一般来说，在衬底上形成柱状抗蚀剂图形(resistpattern)，然后将其加热软化，通过表面拉伸形成透镜的形状，之后用干法刻蚀对衬底进行刻蚀。然而，采用该种方法容易形成凸形，但形成用作模具的凹形非常困难。因此，制造用于成型具有凹形的微透镜阵列的模具非常困难。并且，在模具中形成抗反射结构以获得用于成型具有抗反射结构的微透镜阵列的模具更加困难。
因此，基于上述考虑，本发明的目的是提供制造具有抗反射结构的光学元件的方法和以该种方法制造的具有抗反射结构的光学元件，该方法使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件能够被反复制造。
解决问题的方案上述目的之一通过下述其表面具有抗反射结构的光学元件实现，该抗反射结构由多组分玻璃形成并具有排列的多个高宽比大于等于1的锥形或多边棱锥形结构。
还有，上述目的之一通过下述制造其表面具有抗反射结构的光学元件的方法实现，该抗反射结构由多组分玻璃形成并具有排列的多个高宽比大于等于1的锥形或多边棱锥形结构。该方法具有如下步骤加热多组分玻璃材料，用具有与将要形成的抗反射结构相对应的形状的模具使经加热的多组分玻璃材料压制成型，在材料冷却到其形状不发生变化的温度之前从模具上取下已成型的多组分玻璃材料。
本发明的效果根据本发明的制造光学元件的方法，可以使具有抗反射结构的模具在没有冷却的情况下从已经压制成型的光学材料上脱离，因而防止产生由于具有抗反射结构的模具和压制成型的光学材料之间的热膨胀系数的差异导致的热应力，从而能够提高转移到光学材料上的图形的精度。结果，使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件能够反复成型。还有，根据本发明的制造具有抗反射结构的光学元件的方法，因为通过采用具有抗反射结构的模具进行压制成型制造光学元件，所以能够高重复性地制造具有抗反射结构的光学元件。结果，批量生产率显著提高，因此能使生产成本显著降低。
图1是显示本发明的第一实施例中用于使具有抗反射结构的光学元件压制成型的模具的剖面图；图2显示本发明的第一实施例中制造具有抗反射结构的模具的工艺的工艺流程；图3显示本发明的第一实施例中使具有抗反射结构的光学元件成型的工艺的工艺流程；图4显示本发明的第一实施例中使具有抗反射结构的光学元件压制成型的方法的工艺流程；图5显示本发明的第四实施例中制造具有抗反射结构的模具的工艺的工艺流程；图6是显示本发明的第五实施例中用于制造使具有抗反射结构的光学元件压制成型的模具的具有抗反射结构的主模具的剖面图；图7显示本发明的第五实施例中制造具有抗反射结构的主模具的工艺的工艺流程；图8显示本发明的第五实施例中使具有抗反射结构的复制模具成型的工艺的工艺流程；图9显示本发明的第五实施例中使具有抗反射结构的复制模具压制成型的方法的工艺流程；图10是显示本发明的第五实施例中使具有抗反射结构的光学元件压制成型的模具的剖面图；图11显示本发明的第五实施例中使具有抗反射结构的光学元件成型的工艺的工艺流程；图12显示本发明的第五实施例中使具有抗反射结构的光学元件压制成型的方法的工艺流程；图13显示本发明的第八实施例中用于制造具有抗反射结构的主模具以此为基础的石英微透镜阵列的工艺的工艺流程；图14显示本发明的第八实施例中使具有抗反射结构的主模具成型的工艺的工艺流程。
附图标号的描述1，25，51，79石英玻璃衬底2，30，52，89抗反射结构3，31具有抗反射结构的模具4，54下模具5上成型头6上模具7预热台8压制台9冷却台10下模具11光学材料12模具入口13圆柱14模具出口15腔室
16，71脱模剂17，67光学元件18气氛气体入口20，75 Cr膜21，26，76，85 PMMA光刻胶22，77圆柱形图形23，78 Cr掩模27，86 X射线28，87 X射线光刻掩模29，88掩模53，90具有抗反射结构的主模具70无碱玻璃(高熔点玻璃)72具有抗反射结构的复制模具80光刻胶81圆柱形光刻胶图形82半球形光刻胶图形83微透镜阵列84石英晶体微透镜阵列具体实施方式
在下文中将通过实施例的方式对本发明进行更为具体的描述。
该实施例将以在一个表面上具有间距为0.15μm，深度为0.15μm的锥形微结构的板型光学元件作为本发明的具有抗反射结构的光学元件的实例进行描述。图1是显示本发明的第一实施例中使具有抗反射结构的光学元件压制成型的模具的剖面图。在图1中，标号1表示20mm×20mm×5mm的石英玻璃衬底。石英玻璃是一种具有极好的高温强度和耐热性，其表面经过干法刻蚀几乎不会变得粗糙的材料。在石英玻璃衬底1的表面(压制表面)上形成间距为0.15μm，高度为0.15μm的锥形抗反射结构2，并且采用在其中形成抗反射结构2的石英玻璃衬底1作为具有抗反射结构的模具3。
在下文中将参考图2对制造具有抗反射结构的模具3的方法进行描述。如图2A所示，首先，通过高精度地研磨和抛光(Ra约2nm)将石英玻璃衬底1的表面(压制表面)加工成光滑的表面。接着，如图2B所示，通过溅射，在已经加工成光滑表面的石英玻璃衬底1的表面(压制表面)形成0.1μm厚的Cr膜20。然后，如图2C所示，通过旋转涂布，在Cr膜20的表面形成厚度为0.3μm的PMMA光刻胶21。接着，如图2D所示，通过EB(电子束)光刻，在Cr膜20的表面以0.15μm间距形成直径为0.15μm由PMMA光刻胶形成的圆柱形图形22。然后，如图2E所示，通过湿法刻蚀Cr膜20，在石英玻璃衬底1的表面(压制表面)形成与抗反射结构2相对应的Cr形成的圆柱形图形作为掩模。
该Cr掩模23以将要使用的波长或者比该波长更小的间距形成阵列。接着，如图2F所示，将其中形成圆柱形Cr掩模23的石英玻璃衬底1放入RF干法刻蚀设备，用CHF3+O2气体对石英玻璃衬底1的表面进行刻蚀。因此，Cr掩模23也和石英玻璃衬底1一起被一点一点地刻蚀，并且其宽度被减小。然后，直到Cr掩模23不再存在，对衬底表面的刻蚀停止，从而在石英玻璃衬底1的表面(压制表面)形成间距为0.15μm，高度为0.15μm的锥形抗反射结构2。刻蚀以后该表面几乎不粗糙，其表面粗糙度与经抛光的表面基本相等。最后，在拥有锥形抗反射结构2的石英玻璃衬底1的表面(压制表面)通过溅射形成用于保护该表面的0.05μm厚的Ir-Rh合金薄膜。按照该种方式可以得到具有抗反射结构的模具3。
下模具4具有下述结构。如图1所示，在尺寸为20mm×20mm×5mm的WC基烧结硬质合金的中心部位形成尺寸为15mm×15mm×0.5mm的凹槽4a，通过溅射，在配备凹槽4a的表面上形成用于保护该表面的厚度为0.5μm的Ir-Rh合金薄膜。
在下文中将参考图3和图4对采用具有抗反射结构的模具3以及具有该种结构的下模具4制造具有抗反射结构的光学元件的方法进行描述。图3显示本发明的第一实施例中使具有抗反射结构的光学元件成型的工艺的工艺流程。图4显示本发明的第一实施例中使具有抗反射结构的光学元件压制成型的方法的工艺流程。
如图3A所示，首先，用作上模具6的具有抗反射结构的模具3被固定在被腔室15覆盖的模制成型机的上成型头5上，并且该上模具6与压制台8一起被加热到预定温度(该实施例中为590℃)。另外，预热台7也加热到590℃。然后，将上述下模具4用作下模具10，将尺寸为15mm×15mm×1.0mm的冕基硼硅玻璃(crown based borosilicate glass)(玻璃临界点(Tg)501℃，变形点(At)549℃)的光学材料11放置在下模具10上。将其上放置光学材料11的下模具10从腔室的模具入口12放入模制成型机，在温度设定为590℃的预热台7上加热3分钟。在本实施例中，将用于脱模的含有精细碳(C)微粒的脱模剂16涂敷于光学材料11的表面(见图4A)。
如图3B所示，拥有光学材料11的下模具10从预热台7传送到温度同样设定在590℃的压制台8。然后，使圆柱13下降，从而用温度同样设定在590℃并且固定于上成型头5上的上模具6以所施加的1000N的压力压制光学材料11三分钟(见图4A和4B)。然后，在未冷却的情况下(处在未改变的高温下)提升圆柱13，使上模具6以及上成型头5提升，这样，上模具6与经压制成型的光学材料11脱离(见图4B和图4C)。
这里，因为上模具6对于光学材料11的可沾性差，因此上模具6可在没有冷却的情况下从压制成型的光学材料11上脱离。换句话说，对于氧化物或者金属，上模具不能在没有冷却的情况下(处在未改变的高温下)脱离，但是对于碳(C)(或者氮化硼(BN))的可沾性(wettability)非常差，上模具就可以在没有冷却的情况下(处在未改变的高温下)脱离。当上模具6从压制成型的光学材料11上脱离时，压制成型的光学材料11保留在下模具10上。
接下来，如图3C所示，将拥有经压制成型的光学材料11的下模具10从压制台8传送到温度设定在300℃的冷却台9，并在该处冷却3分钟。
最后，与下模具10一起从腔室15的模具出口14取出压制成型的光学材料11，从下模具10上取下压制成型的光学材料11，然后去除脱模剂16。这样就得到具有抗反射结构的光学元件17(见图4C)。
根据该实施例，上模具6(具有抗反射结构的模具3)可以在没有冷却的情况下从压制成型的光学材料11上脱离，因而可以防止产生由于上模具6(具有抗反射结构的模具3)和压制成型的光学材料11之间的热膨胀系数的差异导致的热应力，从而能够提高转移到光学材料11上的图形的精度。结果，使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件17能够反复成型。还有，根据该实施例，由于通过采用具有抗反射结构的模具3压制成型的方法制造光学元件17，可以高重复型性地制造具有抗反射结构的光学元件17。结果，批量生产率显著提高，因此生产成本能显著降低。
在该实施例中，采用具有极好的高温强度和耐热性，其表面经过干法刻蚀几乎不会变得粗糙的石英玻璃作为模具材料。然而，本发明的模具材料不局限于石英玻璃，而是可以使用例如在硅，镍合金或者烧结硬质合金上形成SiO2或Si薄膜的模具材料。
在该实施例中，采用冕基硼硅玻璃作为光学材料11。然而，本发明的光学材料不局限于冕基硼硅玻璃，可以使用多组分玻璃或树脂。除了冕基硼硅玻璃外，多组分玻璃的实例包括例如铝硅玻璃，火石玻璃以及磷酸盐玻璃，树脂的实例包括例如丙烯酸，含氟树脂，聚乙烯以及聚烯烃。因为通过压制成型形成抗反射结构，所以即使采用多组分玻璃或者树脂作为光学材料11，也可以得到具有大高宽比的抗反射结构的光学元件。
在该实施例中，采用Ir-Rh合金薄膜作为保护表面的薄膜。然而，本发明的保护表面的薄膜不局限于Ir-Rh合金薄膜。可以采用含有从由Pt，Pd，Ir，Rh，Os，Ru，Re，W和Ta组成的集合中选择的至少一种金属的薄膜作为保护表面的薄膜。在光学材料11的表面没有均匀地涂敷脱模剂16时，在没有用于保护表面的薄膜的情况下，光学材料11部分地与模具直接接触并且完全熔合，从而使光学材料完全无法脱离模具。当试图用强力剥离光学材料时，光学材料11将遭到破坏。用于保护表面的诸如Ir-Rh合金薄膜的薄膜就是为了防止该类情况而设置的。
在该实施例中，在石英玻璃衬底1的表面(压制表面)形成与抗反射结构2相对应的圆柱体形的Cr掩模。然而，本发明不局限于该种结构。例如，可以用诸如Ni，Au或C等材料形成掩模，或者可以形成多边棱柱形掩模。
在该实施例中，利用电子束光刻将光刻胶形成圆柱体形或者多边棱柱形的图形。但是光刻胶可以通过采用X射线光刻或者采用应用干涉曝光的光刻将光刻胶形成圆柱体形或者多边棱柱形的图形。
在该实施例中，通过湿法刻蚀使掩模形成圆柱体形或者多边棱柱形。但是也可以通过干法刻蚀使将掩模形成圆柱体形或者多边棱柱形。
在该实施例中，采用与第一实施例中大体相同的模具作为使具有抗反射结构的光学元件压制成型的模具(见图1)。下面是该实施例中用于压制成型的模具与第一实施例中用于压制成型的模具的不同点。该实施例中，当制造具有抗反射结构的模具3时，在拥有锥形抗反射结构2的石英玻璃衬底1的表面(压制表面)形成用于脱模的0.05μm厚的碳(C)薄膜代替形成用于保护表面的Ir-Rh合金薄膜。因为这个原因，在本实施例中，不同于第一实施例，在将要进行压制成型的光学材料11的表面没有涂敷用于脱模的脱模剂。
采用具有抗反射结构的模具3以及下模具4制造具有抗反射结构的光学元件17的方法与第一实施例的方法相同(见图3和图4)，因此不再进一步描述。同样在本实施例中，因为与第一实施例相同的原因，上模具6(具有抗反射结构的模具3)可以在没有冷却的情况下从压制成型的光学材料11上脱离，因此使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件能够反复成型。
在该实施例中，当制造具有抗反射结构的模具3时，用于脱模的碳(C)薄膜在拥有锥形抗反射结构2的石英玻璃衬底1的表面(压制表面)上形成。然而，用于脱模的薄膜不限于碳(C)薄膜，例如可以采用氮化硼(BN)薄膜。
在该实施例中，采用与第一实施例中相同的模具作为使具有抗反射结构的光学元件17压制成型的模具(见图1)。使具有抗反射结构的光学元件17成型的工艺与第一实施例中的工艺大体相同。下面是该实施例中压制成型的工艺与第一实施例中的压制成型的工艺的不同点。在该实施例中，在具有抗反射结构的光学元件17成型的同时，N2和CO2(占体积10％)从腔室15的气氛气体输入口18引入到模制成型机的内部。
当具有抗反射结构的光学元件17在上述气氛中成型时，发现可以反复进行高达10000次以上模制注射使具有高精度抗反射结构在整块面积达15mm×15mm的光学材料11上图形不发生错位的光学元件成型的过程。
作为对比实例，在其他条件相同，只将N2气体引入模制成型机的条件下使具有抗反射结构的光学元件17成型。结果，上模具6(具有抗反射结构的模具3)与光学材料11之间的脱模特性不佳，因而在光学材料11经过压制以后上模具6(具有抗反射结构的模具3)不能在没有冷却的情况下(处于未改变的温度(590℃))从压制成型的光学材料11上脱离。在该情况下，当温度降到400℃时，上模具6将从压制成型的光学材料11上脱离，然后在冷却台9上冷却之后，具有抗反射结构的光学元件17被取出。接下来观测表面。结果，虽然在中心位置精确地形成具有抗反射结构的光学元件的图形，但是在偏移中心越远的位置，图形错位越大，具有抗反射结构的光学元件的图形在周边附近发生重叠。该种结果可能出于下述原因。在制造光学元件时上模具6(具有抗反射结构的模具3)不能从压制成型的光学材料11上脱离的方法中，如果上模具6(具有抗反射结构的模具3)在光学材料11经过压制以后冷却，由于上模具6(具有抗反射结构的模具3)和压制成型的光学材料11之间的热膨胀系数的差异导致产生热应力，进而上模具6(具有抗反射结构的模具3)和光学材料11之间发生错位。因此，采用该种制造方法不能使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件反复成型。
另一方面，在该实施例中，当将N2和CO2(占体积10％)引入模制成型机中时，上模具6(具有抗反射结构的模具3)可以在用于压制成型的温度下容易地从压制成型的光学材料11上脱离。上模具6(具有抗反射结构的模具3)可以在没有冷却的情况下(处于不变的高温下)从压制成型的光学材料11上脱离是由于如下原因。当CO2气体被吸附到光学材料11和模具的表面上时可以拥有脱模剂和脱模薄膜的功能。结果，能够防止产生由于上模具6(具有抗反射结构的模具3)和压制成型的光学材料11之间的热膨胀系数的差异导致的热应力，从而能提高转移到光学材料11上的图形的精度。所以，如上所述，使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件能够反复成型。
在该实施例中，在具有抗反射结构的光学元件17成型的同时，N2和CO2(占体积10％)从腔室15的气氛气体输入口18引入到模制成型机中。然而，气体不局限于这样的气氛气体，可以采用在构成分子中含有碳(C)或氟(F)的气体或者雾化液体混合在诸如氮气(N2)或者氩气(Ar)的惰性气体中的任何气氛气体。例如，在具有抗反射结构的光学元件17成型的同时将通过使N2和CF4(占体积10％)或者N2气体通过乙二醇溶液得到的气体引入到模制成型机中也可以得到以上同样的效果。
在该实施例中，制造在作为凸表面的一个表面上具有间距0.15μm，深度0.15μm的锥形微结构的平凸透镜作为本发明的具有抗反射结构的光学元件。
在该实施例中，按下述方式制造的模具作为具有抗反射结构的模具(上模具)使用。图5显示了示意性地显示制造本发明的第四实施例中使用的具有抗反射结构的模具的方法的工艺流程。
如图5A所示，首先，经过高精度的研磨和抛光，将形成为用于使具有抗反射结构的光学元件压制成型的模具的厚度为10mm，直径为5mm的柱状石英玻璃衬底25的表面(压制表面)加工成与凸透镜形状相反的凹形。其后，通过旋转涂布，在凹形石英玻璃衬底25的表面(压制表面)上形成作为用于X射线光刻的抗蚀剂的0.5μm厚的PMMA光刻胶26。
然后，如图5A和5B所示，通过在照射X射线27的同时高度精确地移动用于X射线光刻的掩模28，在石英玻璃衬底25的表面(压制表面)上以0.15μm的间距形成作为与抗反射结构相对应的掩模29的直径为0.15μm高度为0.3μm的由PMMA光刻胶形成的圆锥形图形。该掩模29以所使用的波长或者更小的间距形成阵列。
然后，参考图5B和5C，将其中形成由PMMA光刻胶形成的掩模29的石英玻璃衬底25放入RF干法刻蚀设备中，用CHF3+O2气体对该石英玻璃衬底25的表面进行刻蚀。因而，在石英玻璃衬底25的表面(压制表面)上形成间距为0.15μm高度为0.15μm的锥形抗反射结构30。
最后，通过溅射，在拥有锥形抗反射结构30的石英玻璃衬底25的表面(压制表面)上经由Cr膜形成用于保护表面的厚度为0.05μm的Ir-Rh合金薄膜。按照该方式得到具有抗反射结构的模具31。
下模具具有如下结构。通过溅射，在厚度为10mm，直径为5mm的柱状WC基烧结硬质合金的表面上形成用于保护表面的厚度为0.5μm的Ir-Rh合金薄膜。采用具有抗反射结构的模具31(上模具)和下模具制造具有抗反射结构的光学元件(平面凸透镜)的方法与第一实施例中的方法(见图3和4相同，因此不再进一步描述。
还有，在该实施例中，与第一实施例的原因相同，上模具(具有抗反射结构的模具31)可以在没有冷却的情况下从压制成型的光学材料11上脱离，因而使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件(平面凸透镜)能够反复成型。
在该实施例中，与抗反射结构相对应的锥形掩模29在石英玻璃衬底25的表面(压制表面)形成。然而，该掩模不局限于该种结构，例如，可以形成多边棱锥形掩模。
本实施例将结合在一个表面上具有间距为0.15μm，高度为0.15μm的锥形微结构的平板光学元件作为本发明的具有抗反射结构的光学元件的实例进行描述。图6是显示本发明的第五实施例中用于制造使具有抗反射结构的光学元件压制成型的模具的具有抗反射结构的主模具的剖面图。在图6中，标号51表示20mm×20mm×5mm的石英玻璃衬底。石英玻璃是一种具有极好的高温强度和耐热性，其表面经过干法刻蚀几乎不会变得粗糙的材料。间距为0.15μm，高度为0.15μm锥形抗反射结构52在石英玻璃衬底51的表面(压制表面)形成，并且采用其中形成锥形抗反射结构52的石英玻璃衬底51作为具有抗反射结构的主模具53。
下文将参考图7对制造具有抗反射结构的主模具53的方法进行描述。如图7A所示，通过对石英玻璃衬底51的表面(压制表面)进行高精度研磨和抛光(Ra约2nm)而将其加工成光滑的表面。然后，如图7B所示，通过溅射，在已经被加工成光滑表面的石英玻璃衬底1的表面(压制表面)形成厚度为0.1μm的Cr膜75。
然后，如图7C所示，通过旋转涂布，在Cr膜75的表面形成厚度为0.1μm的PMMA光刻胶76。接着，如图7D所示，通过EB(电子束)光刻，在Cr膜75的表面以0.15μm的间距形成直径为0.15μm的PMMA光刻胶形成的柱状图形77。然后，如图7E所示，通过湿法刻蚀Cr膜75(Cr掩模78)，在石英玻璃衬底51的表面(压制表面)上形成与抗反射结构52相对应的Cr形成的圆柱形图形作为掩模。该掩模以所使用的波长或者比该波长更小的间距形成阵列。
接着，如图7F所示，将其表面形成柱状Cr掩模78的石英玻璃衬底51放入RF干法刻蚀设备，用CHF3+O2气体对石英玻璃衬底51的表面进行刻蚀。因此，Cr掩模78也和石英玻璃衬底51一起被一点一点地刻蚀，并且其宽度减少。然后，直到Cr掩模78不再存在，对衬底表面的刻蚀停止，从而在石英玻璃衬底51的表面(压制表面)形成间距为0.15μm，高度为0.15μm的锥形抗反射结构52。
最后，通过溅射，在拥有锥形抗反射结构52的石英玻璃衬底51的表面(压制表面)形成用于保护表面的0.05μm厚的Ir-Rh合金薄膜。按照该种方式得到具有抗反射结构的主模具53。
下文将参考图8和图9，对利用具有上述结构的抗反射结构的主模具53制造用于使具有抗反射结构的光学元件压制成型的具有抗反射结构的复制模具的方法进行描述。图8显示本发明的第五实施例中使具有抗反射结构的复制模具成型的工艺的工艺流程。图9显示本发明的第五实施例中使具有抗反射结构的复制模具成型的方法的工艺流程。
如图8A所示，首先，用作上模具6的具有抗反射结构的主模具53被固定在被腔室15覆盖并从气氛气体入口18引入N2气体的模制成型机的上成型头5上，该上模具6与压制台8一起加热到预定温度(该实施例中为750℃)。另外，预热台7也加热到750℃。然后，将作为高熔点玻璃的耐热性比光学材料好的15mm×15mm×1.0mm的无碱玻璃70(玻璃临界点(Tg)625℃，变形点(At)696℃)放置在下模具10上，将其上放置高熔点玻璃70的下模具10从腔室15的模具入口12放入模制成型机，在温度设定为750℃的预热台7上加热2分钟。在该实施例中，将用于脱模的含有精细氮化硼(BN)微粒的脱模剂涂敷于无碱玻璃70的表面(见图9A)。
如图8B所示，拥有作为高熔点玻璃的无碱玻璃70的下模具10从预热台7传送到温度同样设定在750℃的压制台8。然后，圆柱13下降，用温度也设定在750℃并且固定到上成型头5上的上模具6以所施加的2000N压力压制无碱玻璃70两分钟(见图9A和9B)。然后，在没有冷却的情况下(处在不变的温度下)提升圆柱13，使上模具6以及上成型头5也上升，从而上模具6从压制成型的无碱玻璃70上脱离(见图9B和9C)。
这里，上模具6能在没有冷却的情况下(处于不变的高温下)从压制成型的无碱玻璃70上脱离，是因为BN粒子与无碱玻璃70之间的可沾性差。换句话说，对于氧化物或金属，上模具不能在没有冷却的情况下(处于不变的高温下)脱离，但是对于BN微粒(或C微粒)，其与无碱玻璃70的可沾性非常差，因此上模具可以在没有冷却的情况下(处于不变的高温下)脱离。当上模具6从压制成型的无碱玻璃70上脱离时，压制成型的无碱玻璃70保留在下模具10上。
接下来，如图8C所示，将拥有作为高熔点玻璃的无碱玻璃70的下模具10从压制台8传送到温度设定在400℃的冷却台9，并在该冷却台9上冷却2分钟。
最后，与下模具10一起，从腔室15的模具出口14取出压制成型的无碱玻璃70，从下模具10上取下压制成型的无碱玻璃70，然后去除脱模剂71。然后，通过溅射形成用于保护表面的厚度为0.05μm的Ir-Rh合金薄膜。这样，得到具有抗反射结构的复制模具72(见图9C)。
下文将对利用具有这样的结构的抗反射结构的复制模具72和下模具54制造具有抗反射结构的光学元件的方法进行描述。图10是显示本发明的第五实施例中使具有抗反射结构的光学元件压制成型的模具的剖面图。图11显示本发明的第五实施例中使具有抗反射结构的光学元件压制成型的工艺的工艺流程。图12显示本发明的第五实施例中使具有抗反射结构的光学元件压制成型的方法的工艺流程。
在图10中，标号72表示具有抗反射结构的复制模具，下模具54具有下述结构。在尺寸为20mm×20mm×5mm的WC基烧结硬质合金的中心部位形成尺寸为15mm×15mm×0.5mm的凹槽54a，通过溅射，在拥有凹槽54a的表面形成用于保护表面的厚度为0.5μm的Ir-Rh合金薄膜。
如图11A所示，首先，用作上模具6的具有抗反射结构的复制模具72被固定在被腔室15覆盖并从气氛气体入口18引入N2气体的模制成型机的上成型头5上，该上模具6与压制台8一起加热到预定温度(该实施例中为590℃)。另外，预热台7也加热到590℃。然后，上述下模具54作为下模具10使用，并且将尺寸为15mm×15mm×1mm的冕基硼硅玻璃(玻璃临界点(Tg)501℃，变形点(At)549℃)作为光学材料11放置在下模具10上，将其上放置光学材料11的下模具10从腔室的模具入口12放入模制成型机，在温度设定为590℃的预热台7上加热3分钟。在该实施例中，将用于脱模的含有精细氮化硼(BN)微粒的脱模剂16涂敷于光学材料11的表面(见图12A)。
如图11B所示，拥有光学材料11的下模具10从预热台7传送到温度同样设定在590℃的压制台8。然后，圆柱13下降，从而利用温度同样设定在590℃并且固定到上成型头5上的上模具6以所施加的1000N的压力压制光学材料11三分钟(见图12A和12B)。然后，在没有冷却的情况下(处于不变的温度下)提升圆柱13，使上模具6以及上成型头5也上升，上模具6因此而从压制成型的无碱玻璃70上脱离(见图12B和12C)。这里，与上述原因相同，上模具6可在没有冷却的情况下从压制成型的光学材料11上脱离。当上模具6从压制成型的光学材料11上脱离时，压制成型的光学材料11保留在下模具10上。
接下来，如图11C所示，将拥有光学材料11的下模具10从压制台8传送到温度设定在300℃的冷却台9，并在该冷却台上冷却3分钟。
最后，与下模具10一起从腔室15的模具出口14取出压制成型的光学材料11，从下模具10上取下压制成型的光学材料11，然后去除脱模剂16。这样，得到具有抗反射结构的光学元件67(见图12C)。
根据该实施例，上模具6(具有抗反射结构的主模具53)可以在没有冷却的情况下从压制成型的作为高熔点玻璃的无碱玻璃70上脱离，并且上模具6(具有抗反射结构的复制模具72)也可以在没有冷却的情况下从压制成型的光学材料11上脱离，因而能防止产生由于上模具6(具有抗反射结构的主模具53)和压制成型的无碱玻璃70之间的热膨胀系数的差异导致的热应力以及由于上模具6(具有抗反射结构的复制模具72)和压制成型的光学材料11之间的热膨胀系数的差异导致的热应力，从而能抑制依次转移到具有抗反射结构的主模具53，具有抗反射结构的复制模具72和光学材料11的图形精度的下降。结果，使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件67能够反复成型。
还有，根据该实施例，由于通过采用具有抗反射结构的主模具53以及具有抗反射结构的复制模具72压制成型的方法制造光学元件67，可以高重复性地制造具有抗反射结构的光学元件67。结果，批量生产率显著提高，从而能显著降低生产成本。
在该实施例中，采用具有极好的高温强度和耐热性，其表面经过干法刻蚀几乎不会变得粗糙的石英玻璃作为模具材料。然而，本发明的模具材料不局限于石英玻璃，而是可以采用例如在硅，镍合金或者烧结的硬质合金上形成SiO2或Si薄膜的模具材料。
在该实施例中，采用冕基硼硅玻璃作为光学材料11。然而，本发明的光学材料不局限于冕基硼硅玻璃，可以采用多组分玻璃或树脂。除了硼硅玻璃外，多组分玻璃的实例包括铝硅玻璃，火石玻璃以及磷酸盐玻璃，树脂的实例包括丙烯酸，含氟树脂，聚乙烯以及聚烯烃。因为通过模制形成抗反射结构，所以即使采用多组分玻璃或树脂作为光学材料11，也可以得到具有大高宽比的抗反射结构的光学元件。
在该实施例中，采用Ir-Rh合金薄膜作为保护表面的薄膜。然而，本发明的保护表面的薄膜不局限于Ir-Rh合金薄膜。可以采用含有从由Pt，Pd，Ir，Rh，Os，Ru，Re，W和Ta组成的集合中选择的至少一种金属的薄膜作为保护表面的薄膜。当光学材料11的表面没有均匀地涂敷脱模剂16，没有用于保护表面的薄膜时，光学材料11部分地与模具直接接触并且完全熔合，从而使光学材料完全无法脱离模具。当试图用强力剥离光学材料时，光学材料11将遭到破坏。设置用于保护表面的诸如Ir-Rh合金薄膜的薄膜就是为了防止该类情况。
在该实施例中，在石英玻璃衬底51的表面(压制表面)上形成与抗反射结构52相对应的圆柱体形的Cr掩模。然而，例如，可以用诸如Ni，Au或C等的材料形成掩模，或者可以形成多边棱柱形的掩模。
在该实施例中，利用电子束光刻使光刻胶形成圆柱体形或者多边棱柱形的图形。但是可以通过采用X射线光刻或者采用利用干涉曝光的光刻使光刻胶形成圆柱体形或者多边棱柱形的图形。
在该实施例中，利用湿法刻蚀形成圆柱体形或者多边棱柱形的掩模。但是也可以通过干法刻蚀形成圆柱体形或者多边棱柱形的掩模。
在该实施例中，采用与第五实施例中大体相同的模具作为制造使具有抗反射结构的光学元件压制成型的模具的具有抗反射结构的主模具(见图6)。下面是该实施例中具有抗反射结构的主模具53与第五实施例中具有抗反射结构的主模具53的不同点。该实施例中，当制造具有抗反射结构的主模具53时，在拥有锥形抗反射结构52的石英玻璃衬底51的表面(压制表面)形成用于脱模的0.05μm厚的碳(C)薄膜代替形成用于保护表面的Ir-Rh合金薄膜。由于该原因，在本实施例中，不同于第五实施例，在将要进行压制成型的作为高熔点玻璃的无碱玻璃70的表面没有涂敷用于脱模的脱模剂。
此外，在该实施例中，采用与第五实施例中大体相同的模具作为使具有抗反射结构的光学元件压制成型的具有抗反射结构的复制模具(见图10中的标号72)。下面是该实施例中具有抗反射结构的复制模具72与第五实施例中具有抗反射结构的复制模具72的不同点。该实施例中，当制造具有抗反射结构的复制模具72时，用于脱模的0.05μm厚的碳(C)薄膜在作为高熔点玻璃的无碱(alkali-free)玻璃70的表面(压制表面)上形成。由于该原因，在本实施例中，不同于第五实施例，在将要进行压制成型的光学材料11的表面没有涂敷用于脱模的脱模剂。
利用具有抗反射结构的主模具53制造用于使具有抗反射结构的光学元件压制成型的具有抗反射结构的复制模具的方法，以及利用具有抗反射结构的复制模具72和下模具54制造具有抗反射结构的光学元件67的方法与第五实施例中的方法相同(见图8，9，11和12)，所以不再进一步描述。
还有在该实施例中，因为与第五实施例相同的原因，上模具6(具有抗反射结构的主模具53)可以在没有冷却的情况下从压制成型的作为高熔点玻璃的无碱玻璃70上脱离，并且上模具6(具有抗反射结构的复制模具72)也可以在没有冷却的情况下从压制成型的光学材料11上脱离。因此使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件67能够反复成型。
在该实施例中，当制造具有抗反射结构的主模具53时，作为用于脱模的薄膜的碳(C)薄膜在拥有锥形抗反射结构52的石英玻璃衬底1的表面(压制表面)上形成。并且，当制造具有抗反射结构的复制模具72时，作为用于脱模的薄膜的碳(C)薄膜在作为高熔点玻璃的无碱玻璃70的表面(压制表面)上形成。然而，用于脱模的薄膜不限于碳(C)薄膜，例如也可以采用氮化硼(BN)薄膜。
在该实施例中，采用与第五实施例中相同的主模具作为使具有抗反射结构的光学元件压制成型的具有抗反射结构的主模具(见图6)。
在该实施例中，采用与第五实施例中大致相同的复制模具作为使具有抗反射结构的光学元件压制成型的具有抗反射结构的复制模具(见图10中的标号72)。下面是该实施例中具有抗反射结构的复制模具72与第五实施例中具有抗反射结构的复制模具72的不同点。在该实施例中，在制造(模制)具有抗反射结构的复制模具的同时没有在将要进行压制成型的作为高熔点玻璃的无碱玻璃70的表面涂敷用于脱模的脱模剂，而是将N2和CO2(占体积10％)从腔室15的气氛气体输入口18引入到模制成型机中。
使具有抗反射结构的光学元件67成型的工艺与第五实施例中的工艺大体相同。下面是该实施例中使具有抗反射结构的光学元件67压制成型的工艺与第五实施例中使具有抗反射结构的光学元件67压制成型的工艺的不同点。在该实施例中，在使具有抗反射结构的光学元件67成型的同时没有在将要压制成型的光学材料11的表面涂敷用于脱模的脱模剂，而是将N2和CO2(占体积10％)从腔室15的气氛气体输入口18引入到模制成型机中。
当在上述气氛中进行制造(模制)具有抗反射结构的复制模具72以及用该具有抗反射结构的复制模具72使具有抗反射结构的光学元件67成型时，发现可反复进行高达10000次以上的使具有高精度抗反射结构在光学材料11的15mm×15mm的整块面积上图形不发生错位的光学元件67成型的过程。
作为对比实例，在相同的条件下，在进行制造(模制)具有抗反射结构的复制模具72和用该具有抗反射结构的复制模具72使具有抗反射结构的光学元件67成型的同时只将N2气体引入模制成型机中。结果，具有抗反射结构的主模具53与作为高熔点玻璃的无碱玻璃70之间的脱模特性，以及具有抗反射结构的复制模具72与光学材料11之间的脱模特性不佳，因而具有抗反射结构的主模具53在无碱玻璃70经过压制以后不能在没有冷却的情况下(处于未改变的温度(750℃)下)从压制成型的无碱玻璃70上脱离，并且具有抗反射结构的复制模具72在光学材料11经过压制以后也不能在没有冷却的情况下(处于未改变的温度(590℃)下)从压制成型的光学材料11上脱离。
在该情况下，当温度降到300℃或300℃以下时，具有抗反射结构的主模具53开始能从压制成型的无碱玻璃70上脱离，并且具有抗反射结构的复制模具72开始能从压制成型的光学材料11上脱离，然后，在冷却台9上冷却之后将具有抗反射结构的光学元件67取出。接下来观测表面。结果，虽然在中心位置精确地形成具有抗反射结构的光学元件的图形，但是偏移中心位置越远的位置图形错位越大，在周边附近处具有抗反射结构的光学元件的图形发生重叠。
该种结果可能出于下述原因。在没有冷却的情况下具有抗反射结构的主模具53和具有抗反射结构的复制模具72分别不能从压制成型的无碱玻璃70和压制成型的光学材料11上脱离的光学元件的制造方法中，具有抗反射结构的主模具53和压制成型的无碱玻璃70之间热膨胀系数的差异以及具有抗反射结构的复制模具72和压制成型的光学材料11之间热膨胀系数的差异导致热应力，因此，具有抗反射结构的主模具53和具有抗反射结构的复制模具72发生错位。所以，采用该种制造方法，不能使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件反复成型。
另一方面，在该实施例中，当将N2和CO2(占体积10％)引入模制成型机器中时，具有抗反射结构的主模具53和具有抗反射结构的复制模具72分别可以容易地在用于压制成型的温度下从压制成型的无碱玻璃70和压制成型的光学材料11上脱离。在没有冷却的情况下(处于未改变的高温下)具有抗反射结构的主模具53和具有抗反射结构的复制模具72分别可以从压制成型的无碱玻璃70和压制成型的光学材料11上脱离基于如下原因。CO2气体被吸附到模具的表面上，使得与无碱玻璃70和光学材料11的可沾性变差。结果，能够防止产生由于具有抗反射结构的主模具53和压制成型的作为高熔点玻璃的无碱玻璃70之间热膨胀系数的差异以及具有抗反射结构的复制模具72和压制成型的光学材料11之间热膨胀系数的差异导致的热应力，从而能够提高转移到光学材料11上的图形的精度。所以，如上所述，使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件能够反复成型。
在该实施例中，在进行制造(模制)具有抗反射结构的复制模具72和用该复制模具72使具有抗反射结构的光学元件67成型的同时将N2和CO2(占体积10％)从腔室15的气氛气体输入口18引入到模制成型机中。然而，该气体不局限于这样的气氛气体，可以采用在构成分子中含有碳(C)或氟(F)的气体或者雾化液体混合在诸如氮气(N2)或者氩气(Ar)的惰性气体中的任何气氛气体。例如，在使具有抗反射结构的光学元件67成型的同时将使N2和CF4(占体积10％)或者N2通过乙二醇溶液得到的气体引入模制成型机中可以得到以上同样的效果。
在该实施例中，作为本发明的具有抗反射结构的光学元件，制造具有间距为0.15μm，高度为0.15μm的锥形微型结构的带有间距为50μm，中心高度为3μm以及曲率半径为100μm的凸面形状的微透镜阵列。
在该实施例中，作为用于使具有抗反射结构的光学元件压制成型的模具的具有抗反射结构的主模具，使用以下述方式制造的模具。图13显示用于制造本发明的第八实施例中使用的具有抗反射结构的主模具以此为基础的石英微透镜阵列的工艺的工艺流程。图14显示制造本发明的第八实施例中使用的具有抗反射结构的主模具的工艺的工艺流程。
如图13A所示，首先，通过高精度研磨和抛光(Ra约2nm)将作为具有抗反射结构的主模具使用的尺寸为20mm×20mm×5mm的石英玻璃衬底79的表面加工成光滑的表面。其后，如图13B所示，通过旋转涂布，在已经加工成光滑表面的石英玻璃衬底79的表面上形成厚度为3μm的光刻胶80。然后，如图13C所示，通过利用紫外线经由拥有间距为50μm的圆型图形的光刻掩模照射拥有光刻胶80的石英玻璃衬底79的表面并进行显影，形成柱状的光刻胶图形81。
然后，如图13D所示，整个衬底在光刻胶熔融的温度(200℃)下加热，用于熔融的加热操作一直进行到通过表面张力使每个柱状光刻胶拥有微透镜形状。因而，在石英玻璃衬底79的表面形成半球形的光刻胶图形82。然后，如图13E所示，冷却其上形成半球形光刻胶图形82的石英玻璃衬底79，之后，将其放入RF干法刻蚀设备，用CHF3+O2气体刻蚀石英玻璃衬底79的表面。从而在石英玻璃衬底79的表面形成间距为50μm，高度为3μm的微透镜阵列83，并且得到石英微透镜阵列84。
接着，利用如图14所示的工艺，在这样制造的石英微透镜阵列84上形成抗反射结构。如图14A所示，首先，通过旋转涂布，在石英微透镜阵列84的表面上形成用于X射线光刻的厚度为0.5μm的PMMA光刻胶85。接着，如图14A和14B所示，通过在照射X射线86的同时非常精确地移动用于X射线光刻的掩模87并且显影，在微透镜阵列84的表面以间距0.15μm形成作为与抗反射结构相对应的掩模88的直径为0.15μm，高度为0.3μm的PMMA光刻胶形成的圆锥形图形。该掩模88以所使用的波长或者更小的间距形成阵列。
然后，如图14C所示，将其中形成由PMMA光刻胶形成的掩模88的石英微透镜阵列84放入RF干法刻蚀设备中，用CHF3+O2气体刻蚀该石英微透镜阵列84的表面。因而，在石英微透镜阵列84的表面形成间距为0.15μm，高度为0.15μm的锥形抗反射结构89。最后，通过溅射，在拥有锥形抗反射结构89的微透镜阵列84的表面经由Cr膜形成用于保护表面的厚度为0.05μm的Ir-Rh合金薄膜。按照该方式得到具有抗反射结构的主模具90。
利用具有抗反射结构的主模具90制造用于使作为具有抗反射结构的光学元件的微透镜阵列压制成型的具有抗反射结构的复制模具的方法，以及利用具有抗反射结构的复制模具和下模具制造作为具有抗反射结构的光学元件的微透镜阵列的方法与第五实施例中的方法相同(见图8，9，11和12)，所以不再进一步描述。
还有，在该实施例中，因为与第五实施例相同的原因，上模具6(具有抗反射结构的主模具90)可以在没有冷却的情况下从压制成型的作为高熔点玻璃的无碱玻璃70上脱离，并且上模具6(具有抗反射结构的复制模具)也可以在没有冷却的情况下从压制成型的光学材料11上脱离。因此使作为具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件的微透镜阵列能够反复成型。
如上所述，根据该实施例，可以容易地制造使微透镜阵列成型的模具，并且在微透镜的表面容易形成抗反射结构，该微透镜阵列的形状是相反的凹形，用于该凹形阵列的模具的制造非常困难。
在该实施例中，在石英玻璃衬底79的表面(压制表面)形成与抗反射结构相对应的锥形掩模。然而，本发明不局限于该种结构。例如，也可以形成多边棱锥形的掩模。
工业可应用性根据本发明的光学元件适合于作为透镜元件，平面镜元件和棱镜元件在诸如数字静物照相机或视频摄像机的成像光学系统，诸如投影仪的投影光学系统，照明光学系统以及诸如光学采集设备或者光学扫描设备的激光光学系统中使用；适合于作为微透镜阵列用于提高液晶显示器的亮度；也适合于作为耦合微透镜在光学网络中使用。
权利要求
1.一种包括在其表面的抗反射结构的光学元件，其特征在于，该抗反射结构由多组分玻璃形成并具有多个排列的高宽比大于等于1的锥形或多边棱锥形结构。
2.如权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述多个锥形或多边棱锥形结构以光波长的间距排列，所述光学元件的反射将被防止或者减少。
3.如权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述抗反射结构形成在曲面上。
4.如权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述光学元件为透镜元件，且所述抗反射结构形成在所述透镜的表面。
5.如权利要求1所述的光学元件，其特征在于，所述光学元件为微透镜阵列，且所述抗反射结构形成在每个透镜的表面。
6.一种用于制造在其表面具有抗反射结构的光学元件的方法，抗反射结构由多组分玻璃形成并且具有多个排列的高宽比大于等于1的锥形或多边棱锥形结构，其特征在于，该方法包括下列步骤加热多组分玻璃材料；用具有与要形成的抗反射结构相对应的形状的模具使已经加热的多组分玻璃材料压制成型；和在该材料冷却到其形状不发生改变的温度之前将已经成型的多组分玻璃材料从该模具上取下。
7.如权利要求6所述的制造光学元件的方法，其特征在于，还包括步骤在所述对多组分玻璃材料进行加热的步骤之前将脱模剂涂敷到该多组分玻璃材料上。
8.如权利要求6所述的制造光学元件的方法，其特征在于，在所述压制成型的步骤中在模具的表面上形成用于脱模的薄膜。
9.如权利要求6所述的制造光学元件的方法，其特征在于，在所述压制成型的步骤中在模具上形成用于保护表面的薄膜。
10.如权利要求6所述的制造光学元件的方法，其特征在于，在所述压制成型的步骤中，采用构成分子中含有碳或氟的气体或者雾化液体混合在惰性气体中的气氛气体被用于压制成型。
全文摘要
本发明的目的是提供制造具有抗反射结构的光学元件的方法，该方法使具有高精度抗反射结构在大面积范围内图形不发生错位的光学元件能够反复制造。在石英玻璃衬底的表面以0.15μm的间距形成直径为0.15μm的柱状Cr掩模。将其表面形成柱状Cr掩模的石英玻璃衬底放入RF干法刻蚀设备，并用CHF
文档编号C03B11/08GK1871530SQ20048003124
公开日2006年11月29日 申请日期2004年10月29日 优先权日2003年10月29日
发明者梅谷诚, 清水义之, 山本义春, 山形道弘, 田中康弘, 山口博史 申请人:松下电器产业株式会社