专利名称：全釉薄胎陶瓷的制造方法
技术领域：
本发明涉及一种日用、陈设陶瓷的制造方法，属于一种全釉薄胎陶瓷的制造方法。 现有技术薄胎瓷器俗称蛋壳瓷器，以“薄如纸、白如玉、明如镜、声如磬”闻名世界。但是，传 统的薄胎瓷器，大部分是工艺陈设瓷，产品有鱼缸、水注、花瓶、灯罩、等品种，成套的日用薄 胎瓷器产品极少，且产品强度低，易碎、或者是粗口、粗脚，这些缺点直接影响了薄胎瓷器的 美观和实用价值。特大型高白釉薄胎瓷碗的制造方法(专利号91100366. 5)，公开了生产特大型高 白釉薄胎瓷碗的坯料配方，碗叶、碗底、碗足的制造方法，烧成装钵时的方法。但该发明还不 能解决传统薄胎陶瓷粗口、粗脚的技术难题。
发明内容
本发明的目的是解决传统薄胎陶瓷产品存在粗口、粗脚的问题，通过采用对半成 品底部、口部进行抛光打磨后，在半成品底部、口部再施一层釉，再进行低温二次釉烧的方 法，实现产品的全釉，解决传统薄胎陶瓷产品存在粗口、粗脚的制造方法。本发明的目的是通过下述技术方案实现的，(a)、坯料配方(重量)SiO2 66. 8-69. 1% Al2O3 23. 4-29. 5%Fe2O3 0. 15-0. 19% CaO 0. 28-0. 39%MgO 0. 67-0. 79% K2O 1. 9-2. 3%Na2O 1. 85-2. 85%(b)、基础釉料配方(重量)SiO2 64. 8-68. 5% Al2O3 19. 7-21. 6%Fe2O3 0. 15-0. 26% CaO 1. 48-1. 95%MgO 3. 50-4. 45% TiO2 0. 9-1. 2%K2O 2. 3-2. 9% Na2O 1. 1-1. 5%(C)、全釉工艺半成品底部或口部经抛光打磨后，在成品底部或口部施一层釉，进行二次釉烧，所 施的釉料是在基础釉上外加5 8%添力卩剂，釉烧温度控制在1000°C 1100°C。
具体实施例方式(一 )、产品型号10寸薄胎花瓶( 二)、坯体原料及其化学组成(重量)高岭土 63%，长石13%，石英14%，滑石3%，硅土 6%，其它辅助材料；
SiO2 67%, Al2O3 -.28%, Fe2O3 0. 16%, CaO 0. 3%,
MgO 0. 70%, K2O 2%, Na2O 1. 8%(三)、基础釉体原料及其化学组成(重量)高岭土 25 %，长石50 %，石英8 %，滑石12 %，矿化济4 %，其它辅助材料1 % ；SiO2 67%, Al2O3 19%, Fe2O3 0. 15%, CaO 1. 85%,MgO 4. 5%, TiO2 1. 0% K2O :2· 5%，Na2O :1· 2%。(四)、生产工艺流程原料精选一成型一修坯一干燥一素烧一装饰一施釉一烧成一半成品一打磨一施 釉一釉烧一成品(五)、生产工艺的主要技术参数1、坯料主要工艺参数细度泥浆过325目标准筛，筛余控制在0. 05-0. 07% ；泥浆用1万高斯的除铁器除铁3次；坯料含水率20 23% ；注浆泥料含水率34 36% ；坯土、注浆泥料陈腐时间20天。2、釉料主要工艺参数细度釉浆过380目标准筛，筛余控制在0. 1-0. 2% ；釉浆用磁场强度1万高斯的除铁器除铁5次；釉料含水率43 46% ；釉料陈腐时间15天。3、成型工艺圆形产品采用滚压成型，坯土含水率控制在21 23% ；异形产品采用真空压力注 浆工艺成型，注浆泥料含水率控制在33-35%，以水玻璃调注浆料的稠度。4、坯体素烧工艺为提高半成品坯体强度，便于手工绘画及装饰，坯体采用电热素烧窑进行素烧，素 烧温度650°C 700°C，坯体吸水率控制在10 15%之间。5、釉下装饰和施釉工艺采用手工绘画装饰工艺，即是勾线一汾水一上色；制品施釉采用浸釉法喷釉法 工艺，釉层厚度约为0.1毫米。6、烧成工艺全釉薄胎陶瓷产品，采用6立方米电脑脉冲自动控制液化石油气梭式窑，还原气 氛煅烧。坯体入窑水分1 3% 烧成温度1300 1320°C ；烧成周期28小时；从点火至1030°C氧化阶段9小时，1030°C 1320°C还原阶段9小时，保温后停火 自然冷却至室温10小时。7、全釉工艺成品底部或口部经抛光打磨后，在成品底部或口部施一层釉，进行二次釉烧，釉烧
4温度为1000°C 1100°C。为使成品的釉面与底部或口部的釉能相融洽，在基础釉上外加 6 %添加剂，降低全釉的釉烧温度，使制品釉面相融，实现制品全釉。
权利要求
全釉薄胎陶瓷的制造方法，包括坯釉料制备、成型、干燥、素烧、施釉、装窑、烧成等工艺流程，其特征在于(a)、坯料配方(重量)SiO266.8 69.1％。Al2O323.4 29.5％。Fe2O30.15 0.19％。CaO0.28 0.39％。MgO0.67 0.79％。K2O1.9 2.3％。Na2O1.85 2.85％。(b)、基础釉料配方(重量)SiO264.8 68.5％。Al2O319.7 21.6％。Fe2O30.15 0.26％。CaO1.48 1.95％。MgO3.50 4.45％。TiO20.9 1.2％。K2O2.3 2.9％Na2O1.1 1.5％。
2.如权利要求1所述的全釉薄胎陶瓷的制造方法，其特征在于半成品底部或口部经 抛光打磨后，在成品底部或口部施一层釉，进行二次釉烧，所施的釉料是在基础釉上外加 5 8%添力口剂，釉烧温度控制在1000°C 1100°C。
全文摘要
全釉薄胎陶瓷的制造方法，包括坯釉料制备、成型、干燥、素烧、施釉、装窑、烧成等工艺流程，其要点是坯料配方(重量)SiO266.8-69.1％。Al2O323.4-29.5％。Fe2O30.15-0.19％。CaO0.28-0.39％。MgO0.67-0.79％。K2O1.9-2.3％。Na2O1.85-2.85％。基础釉料配方(重量)SiO264.8-68.5％。Al2O319.7-21.6％。Fe2O30.15-0.26％。CaO1.48-1.95％。MgO3.50-4.45％。TiO20.9-1.2％。K2O2.3-2.9％Na2O1.1-1.5％。半成品底部或口部经抛光打磨后，在成品底部或口部施一层釉，进行二次釉烧，所施的釉料是在基础釉上外加5～8％添加剂，釉烧温度控制在1000℃～1100℃。本发明的目的是解决传统薄胎陶瓷产品存在粗口、粗脚的问题，通过采用对半成品底部、口部进行抛光打磨后，在半成品底部、口部再施一层釉，再进行低温二次釉烧的方法，实现产品的全釉，解决传统薄胎陶瓷产品存在粗口、粗脚的制造方法。
文档编号C04B41/86GK101913848SQ20101023755
公开日2010年12月15日 申请日期2010年7月19日 优先权日2010年7月19日
发明者邓国舟 申请人:邓国舟