专利名称：一种三银低辐射镀膜玻璃的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及镀膜玻璃，尤其涉及一种三银低辐射镀膜玻璃。
背景技术：
国标GBT18915[2]_2002《建筑玻璃第2部分低辐射镀膜玻璃》，中规定的离线低辐 射镀膜玻璃的辐射率低于0. 15。在现有技术的单银低辐射镀膜玻璃、双银低辐射镀膜玻璃， 可以做到辐射率0. 05 0. 08。为了提升隔热性，一般是通过增加银层的厚度的方法，这将 意味着是牺牲一定的透过率的前提下获得更低的辐射率。而银层的厚度的增加也会造成成 本的上升。
实用新型内容本实用新型的目的是克服现有技术的不足，提供一种低辐射率的三银镀膜玻璃。本实用新型提供的技术方案为一种三银低辐射镀膜玻璃，层级结构依次是玻璃，第一阻隔层，第一电介质层，第 一银层，第二阻隔层，第二电介质层，第二银层，第三阻隔层，第三电介质层，第三银层，第四 阻隔层，第四电介质层，顶层保护层。所述第一阻隔层厚度为10-30nm。所述第二阻隔层、第三阻隔层、第四阻隔层厚度为0. 5-8nm。所述第一银层、第二银层、第三银层为平面靶溅射而成，膜层厚度为6-20nm ；所述第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第四电介质层厚度为10-60nm。所述顶层保护层厚度为10-30nm。本实用新型中，第一阻隔层采用硅的氧化物、氮化物或氮氧化物制成；第二阻隔 层、第三阻隔层、第四阻隔层采用镍铬的氧化物、氮化物或氮氧化物制成；第一银层、第二银 层、第三银层采用平面靶溅射而成；第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第四电介 质层采用钛、锌、铝、硅的氧化物、氮化物或氮氧化物，可以是TiO2, SiO2, ZnO，Al2O3中的一种 或多种制成；顶层保护层是硅的氮氧化物Si3NxOy制成，其中χ > 2，0 < y < 2。本实用新型的有益效果具有很低的辐射率< 0. 03，良好的遮阳系数，颜色可调， 隔热性好，可以应用在建筑玻璃和汽车玻璃等方面；通过设置阻隔层，可以有效的保护后续 的银层，阻止玻璃本体中钠离子等的扩散，减少有害离子对于银层的侵蚀，利用溅射的硅的 氧化物很好的与玻璃本体之中的硅氧网络体连接起来，更好的匹配作用，可有效的提高整 个膜系的抗老化性能、抗侵蚀性能，性能更稳定、寿命更长久。
图1是本发明实施例提供的一种三银低辐射镀膜玻璃的结构示意图。
具体实施方式
参考图1，一种三银低辐射镀膜玻璃，其层级结构一次是玻璃1，第一阻隔层2，第 一电介质层3，第一银层4，第二阻隔层5，第二电介质层6，第二银层7，第三阻隔层8，第三 电介质层9，第三银层10，第四阻隔层11，第四电介质层12，顶层保护层13。第一阻隔层2 =SiO2制成，膜层厚度为15nm ；第一电介质层3 氧化锌锡制成，膜层厚度为18nm ；第一银层4 :Ag平面靶溅射而成，膜层厚度为IOnm ；第二阻隔层5 氧化镍铬制成，膜层厚度为2nm ；第二电介质层6 氧化锌锡制成，膜层厚度为56nm ；第二银层7 :Ag平面靶溅射而成，膜层厚度为12nm ；第三阻隔层8 氧化镍铬制成，膜层厚度为2nm ；第三电介质层9 氧化锌锡制成，膜层厚度为60nm ；第三银层10 :Ag平面靶溅射而成，膜层厚度为ISnm ；第四阻隔层11 氧化镍铬制成，膜层厚度为2nm ；第四电介质层12 氧化锌锡制成，膜层厚度为20nm ；顶层保护层13 =Si3N4制成，膜层厚度为16nm ；第一阻隔层(10-30nm) :Si02，膜层厚度为12-18nm ；作用是很好的保护作用，防止 玻璃本体中的钠离子迁移而影响膜层的结合性能，隔绝作用，而是利用溅射的Si的氧化物 很好的与玻璃本体之中的硅氧网络体连接起来，更好的匹配作用，有利于提高玻璃的光学 性能和化学稳定性。以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能 认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术 人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，作出具体的改变或变化均属于本实用新型 的保护范围。
权利要求1.一种三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于层级结构依次是玻璃，第一阻隔层，第一电 介质层，第一银层，第二阻隔层，第二电介质层，第二银层，第三阻隔层，第三电介质层，第三 银层，第四阻隔层，第四电介质层，顶层保护层。
2.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述第一阻隔层厚度为 10-30nm。
3.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述第二阻隔层、第三阻 隔层、第四阻隔层厚度为0. 5-8nm。
4.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述第一银层、第二银 层、第三银层为平面靶溅射而成，膜层厚度为6-20nm ；
5.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述第一电介质层、第二 电介质层、第三电介质层、第四电介质层厚度为10-60nm。
6.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述顶层保护层厚度为 10-30nm。
专利摘要本实用新型属于玻璃技术领域，提供一种三银低辐射镀膜玻璃。这种三银低辐射镀膜玻璃，层级结构依次是玻璃，第一阻隔层，第一电介质层，第一银层，第二阻隔层，第二电介质层，第二银层，第三阻隔层，第三电介质层，第三银层，第四阻隔层，第四电介质层，顶层保护层。本实用新型三银低辐射镀膜玻璃，辐射率＜0.03，遮阳系数良好，颜色可调，隔热性好，可以用作建筑玻璃和汽车玻璃等；通过设置阻隔层，可以有效的保护后续的银层，阻止玻璃本体中钠离子等的扩散，减少有害离子对于银层的侵蚀，利用溅射的硅的氧化物很好的与玻璃本体之中的硅氧网络体连接起来，更好的匹配作用，可有效的提高整个膜系的抗老化性能、抗侵蚀性能，性能更稳定、寿命更长久。
文档编号C03C17/36GK201901646SQ20102062338
公开日2011年7月20日 申请日期2010年11月24日 优先权日2010年11月24日
发明者董清世, 辛崇飞 申请人:信义玻璃工程(东莞)有限公司