专利名称：低膨胀陶瓷釉料的制备方法
技术领域：
本发明涉及特种陶瓷材料领域，即一种低膨胀陶瓷釉料的制备方法。
背景技术：
低膨胀材料已在陶瓷、搪瓷、特种玻璃、冶金、化工等方面得到广泛的应用，而锂质 低膨胀陶瓷由于其优良的耐高温，抗热震性能以及高温化学稳定性而备受青睐，被广泛用 于陶瓷的坯、釉料、窑具微波炉承载板、电磁炉面板、微波炉内衬、家庭用耐热餐具以及热电 偶保护管等。在陶瓷工业生产中，对于低膨胀的瓷坯来说，上釉是非常困难的。按照坯釉结合 的工艺要求，釉料的热膨胀系数应略小于瓷坯的热膨胀系数，否则，在烧成冷却过程中，釉 料受到张应力，产生釉裂。由于超低膨胀陶瓷坯体的热膨胀系数已经很小，一般都小于 2. 0 XIO-V0C。这对釉料的热膨胀系数来说需要更小才能适应，而一般釉料的热膨胀系数在 3-8 X 10_6/°C之间，因此，制备低膨胀陶瓷釉料是很难的。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能与低膨胀陶瓷坯体相适应的低膨胀陶瓷釉料的制 备方法，以满足目前低膨胀陶瓷产品的生产需要。这种低膨胀陶瓷釉料的制备方法，其特征在于，步骤如下 一、按下述重量配比准备原料
透锂长石，70-86份， 钾长石，5-10份， SiO2,10-15 份， 高岭土，3-5份，
羟甲基纤维素，即CMC，0. 2 -0. 4份；
二、将以上全部粉体原料进行球磨粉碎，不锈钢球、原料和水三者的重量配比为，球 料水=1. 5-1. 7 0. 9-1. 1 0. 6-0. 7 ；
三、再经过350-450目的筛网过筛，吸铁，即制成主晶相为锂辉石的低膨胀陶瓷釉料。这种低膨胀陶瓷釉料，釉面属无光釉，以透锂长石晶相为基料，其性能釉料流动 温度1200°C，热膨胀系数小于2. 0 X 10_6/°C，防污试验达到Q/KD192001-2006标准，釉瓷抗 热震性用我国的长条试样实验法(YB4018)实验，从380°C -20°C热交换不裂，釉瓷断裂模 数为 65MPa-80 MPa。本发明采用的原料都是商品化产品，全部采用生料，本发明的产品釉烧温度低，属 于低温釉，未采用熔块釉，生产工艺简捷，节约成本和能源；本发明的产品还能用于抛光砖， 达到防污与装饰的效果，并且吸水率很低，大大扩大了低膨胀陶瓷材料的用途。
具体实施例方式实施例一
重量配比组成透锂长石，75kg，钾长石，8kg，SiO2,12kg，高岭土，5kg，CMC，0. 3kg。按照球料水=1.6:1.0:0. 65的重量比，研磨16H，釉浆过400目筛，筛余小于 0. 2%，吸铁，制成低膨胀陶瓷釉料。釉料热膨胀系数1. 66 X 10-6/oC，流动温度1200°C，釉 瓷抗热震性380°C -20°C热交换一次不裂，釉瓷断裂模数68. 7MPa，防污，无光釉。实施例二
重量配比组成透锂长石，80kg，钾长石，8kg，SiO2,10kg，高岭土，4kg，CMC，0.4kg。按照球料水=1.6:1.0:0. 65的重量比，研磨16H，釉浆过400目筛，筛余小于 0. 2%，再经过吸铁，即制成低膨胀陶瓷釉料。釉料热膨胀系数1. 44X10_6/°C，流动温度 1200°C，釉瓷抗热震性38(TC -20°C热交换一次不裂，釉瓷断裂模数73. 4MPa，防污，无光 釉。
权利要求
1.低膨胀陶瓷釉料的制备方法，其特征在于，步骤如下 一、按下述重量配比准备原料透锂长石，70-86份， 钾长石，5-10份， SiO2,10-15 份， 高岭土，3-5份，羟甲基纤维素，即CMC，0. 2 -0. 4份；二、将以上全部粉体原料进行球磨粉碎，不锈钢球、原料和水三者的重量配比为，球 料水=1. 5-1. 7 0. 9-1. 1 0. 6-0. 7 ；三、再经过350-450目的筛网过筛，吸铁，即制成主晶相为锂辉石的低膨胀陶瓷釉料。
2.根据权利要求1所述的低膨胀陶瓷釉料的制备方法，其特征是这种低膨胀陶瓷釉 料，釉面属无光釉，以透锂长石晶相为基料，其性能釉料流动温度1200°C，热膨胀系数小 于2. OX 10_7°C，防污试验达到Q/KD192001-2006标准，釉瓷抗热震性用我国的长条试样 实验法(YB4018)实验，从380°C -20°C热交换不裂，釉瓷断裂模数为65MPa_80 MPa0
全文摘要
低膨胀陶瓷釉料的制备方法，步骤如下一、按下述重量配比准备原料透锂长石，70-86份，钾长石，5-10份，Si02，10-15份，高岭土，3-5份，羟甲基纤维素，即CMC，0.2-0.4份；二、将以上全部粉体原料进行球磨粉碎，三、再过筛，吸铁，即制成主晶相为锂辉石的低膨胀陶瓷釉料。这种低膨胀陶瓷釉料，釉面属无光釉，以透锂长石晶相为基料，其性能釉料流动温度1200℃，热膨胀系数小于2.0×10-6/℃，防污试验达到Q/KD192001-2006标准，釉瓷抗热震性用我国的长条试样实验法(YB4018)实验，从380℃-20℃热交换不裂，釉瓷断裂模数为65MPa-80MPa。本发明全部采用生料，产品釉烧温度低，属于低温釉，未采用熔块釉，生产工艺简捷，节约成本和能源。
文档编号C04B41/86GK102115342SQ20111008486
公开日2011年7月6日 申请日期2011年4月6日 优先权日2011年4月6日
发明者张强, 施小罗, 李绍江, 韦国锡 申请人:湖南嘉盛电陶新材料股份有限公司