用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备的制作方法

本实用新型涉及陶瓷加工设备，特别涉及一种用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备。

背景技术：

在陶瓷坯的众多加工工序中，成形后的陶瓷坯在去除了多余的陶瓷粘土后，会在边缘留下一些痕迹，特别是较薄的边缘，会产生切割后的平面，严重影响美观以及烧制后陶瓷器具的质量。因此还需要进行一道抛光工艺，将这些棱角和痕迹去除，保证成品的质量。

现有技术中，通常只有手工抛光的工序，抛光时间长，效果不稳定，且容易在抛光过程中碰伤陶瓷坯。为了解决这一问题，有必要设计新的装置来解决这一问题。此外，在陶瓷坯的加工过程中，还需要对一些陶瓷坯进行检查，或者对陶瓷坯的一些局部缺陷进行涂抹。这就需要有一款能够在低速旋转的情况下，满足定位和防止位移需要的装置。

技术实现要素：

本实用新型针对现有技术中尚无针对陶瓷坯低速旋转的定位装置的缺点，提供了一种用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备。本装置作为陶瓷加工工艺改善项目的一部分，不仅可以提供操作者对个别的陶瓷坯的检测和修补，还可以结合其它机械使用，例如抛光机，对完善陶瓷坯干燥、烧制加工工序，保证最终产品的质量，具有较为重要的意义。

为实现上述目的，本实用新型可采取下述技术方案：

一种用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，包括底座、以及设置在底座上的定位装置；

所述定位装置位于所述底座的朝向上方的一个端面；

所述定位装置沿着所述底座的一定轴的周向方向旋转且在定轴的径向方向上间隔排列。

进一步地，作为一种可选的方案，在本申请的实施例中，所述的定位装置的上端均位于所述定轴的轴向方向的同一高度。

进一步地，作为一种可选的方案，在本申请的实施例中，所述在定轴的径向方向上间隔排列的定位装置在定轴的径向方向上具有均匀的间隔。

进一步地，作为一种可选的方案，在本申请的实施例中，所述定位装置的间隔距离为定位装置的宽度的2-4倍。

进一步地，作为一种可选的方案，在本申请的实施例中，所述定位装置的高度小于或者等于定位装置的宽度。

进一步地，作为一种可选的方案，在本申请的实施例中，所述底座上设置有至少5个的围绕所述定轴的周向方向旋转的定位装置。

进一步地，作为一种可选的方案，在本申请的实施例中，所述底座包括支架、相对支架可旋转的旋转座以及用于驱动旋转座旋转的驱动装置；其中旋转座以所述定轴为中心轴旋转。

进一步地，作为一种可选的方案，在本申请的实施例中，所述定位装置为设置于底座端面的槽。

进一步地，作为一种可选的方案，在本申请的实施例中，所述槽由一个在所述定轴的轴向方向上呈凹形的面沿着定轴的周向方向延伸得到，所述凹形是指在定轴的轴向方向上具有向下延伸的两侧侧壁的形状。

进一步地，作为一种可选的方案，在本申请的实施例中，所述槽的两侧侧壁在定轴的轴向方向上自上而下地朝向槽的内侧倾斜。

本实用新型具有以下的显著技术效果：

能够在陶瓷坯的抛光、检查过程中得到使用，在低速旋转的情况下，让操作者可以定位陶瓷坯，令其尽可能地围绕定轴或者其它需要的转轴旋转，可以稳定旋转的陶瓷坯，能有效提高抛光质量和陶瓷坯的质量，保证后继的烧制过程的稳定，对于烧制后的陶瓷器具的质量有较好的稳定作用。

进一步地，能够和自动陶瓷坯压制装置等陶瓷坯自动加工机械相配合，有利于提高加工效率。

附图说明

图1为沿着陶瓷坯定位设备的定轴自上往下观察的陶瓷坯定位设备的结构示意图。

图2为沿着陶瓷坯的定轴的轴向方向对定位装置进行剖切后得到的截面示意图。

图3为图2中A处的放大后的部分截面示意图。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型作进一步的详细描述。

实施例1

如图1、2、3所示，一种用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，包括底座100、以及设置在底座上的定位装置200，本装置是用于保持陶瓷坯的低速旋转，以用于检查或者配合其它机械，例如自动抛光机对陶瓷坯进行的操作。

所述定位装置200位于所述底座100的朝向上方的一个端面；该端面应当是平整的，其外缘的形状没有特定要求，可以是圆形或者其它形状，例如方形或者五边形、六边形。

所述定位装置200沿着所述底座100的一定轴201的周向方向旋转且在定轴201的径向方向上间隔排列。本申请记载的陶瓷坯定位装置适合于各种不同形状的陶瓷坯，均匀或者不均匀间隔的定位装置200的间隔用于放置不同大小的陶瓷坯，当陶瓷坯在旋转时位置偏移中心，则会收到来自定位装置200的不均匀但是大致指向定轴201的力，从而实现定位。

进一步地，所述的定位装置200的上端均位于所述定轴201的轴向方向202的同一高度。同一高度是为了防止不同大小的陶瓷坯可能受到的不均匀受力，并且让陶瓷坯在旋转时，在定轴201的轴向方向202上保持均一，稳定。

进一步地，所述在定轴201的径向方向上间隔排列的定位装置200在定轴201的径向方向203上具有均匀的间隔。

进一步地，所述定位装置200的间隔距离为定位装置200的宽度的2-4倍。

进一步地，所述定位装置200的高度小于或者等于定位装置200的宽度。

进一步地，所述底座100上设置有至少5个的围绕所述定轴201的周向方向旋转的定位装置200。图示为了清楚起见，自列出有限的若干个定位装置200，图示中定位装置200的数量不应当成为对本申请的技术方案的限制。

进一步地，所述底座100包括支架101、相对支架101可旋转的旋转座102以及用于驱动旋转座102旋转的驱动装置103；其中旋转座102以所述定轴201为中心轴旋转。驱动装置103可以采用电动机，或者其它驱动方式。

进一步地，所述定位装置200为设置于底座100端面的槽。

进一步地，所述槽104由一个在所述定轴201的轴向方向202上呈凹形的面沿着定轴201的周向方向延伸得到，所述凹形是指在定轴201的轴向方向上具有向下延伸的两侧侧壁的形状。

进一步地，为了能够更好地清理定位装置200中的陶瓷粘土，所述槽104的两侧侧壁在定轴201的轴向方向上自上而下地朝向槽104的内侧倾斜。所述的槽的内侧是指指向槽的方向。

总之，以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，凡依本实用新型申请专利范围所作的均等变化与修饰，皆应属本实用新型专利的涵盖范围。