1.一种用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，其特征在于，包括底座(100)、以及设置在底座上的定位装置(200)；
所述定位装置(200)位于所述底座(100)的朝向上方的一个端面；
所述定位装置(200)沿着所述底座(100)的一定轴(201)的周向方向旋转且在定轴(201)的径向方向上间隔排列。
2.根据权利要求1所述的用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，其特征在于，所述的定位装置(200)的上端均位于所述定轴(201)的轴向方向(202)的同一高度。
3.根据权利要求1所述的用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，其特征在于，所述在定轴(201)的径向方向上间隔排列的定位装置(200)在定轴(201)的径向方向(203)上具有均匀的间隔。
4.根据权利要求1所述的用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，其特征在于，所述定位装置(200)的间隔距离为定位装置(200)的宽度的2-4倍。
5.根据权利要求1所述的用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，其特征在于，所述定位装置(200)的高度小于或者等于定位装置(200)的宽度。
6.根据权利要求1所述的用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，其特征在于，所述底座(100)上设置有至少5个的围绕所述定轴(201)的周向方向旋转的定位装置(200)。
7.根据权利要求1所述的用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，其特征在于，所述底座(100)包括支架(101)、相对支架(101)可旋转的旋转座(102)以及用于驱动旋转座(102)旋转的驱动装置(103)；其中旋转座(102)以所述定轴(201)为中心轴旋转。
8.根据权利要求1所述的用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，其特征在于，所述定位装置(200)为设置于底座(100)端面的槽。
9.根据权利要求8所述的用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，其特征在于，所述槽(104)由一个在所述定轴(201)的轴向方向(202)上呈凹形的面沿着定轴(201)的周向方向延伸得到，所述凹形是指在定轴(201)的轴向方向上具有向下延伸的两侧侧壁的形状。
10.根据权利要求8所述的用于陶瓷坯低速旋转的陶瓷坯定位设备，其特征在于，所述槽(104)的两侧侧壁在定轴(201)的轴向方向上自上而下地朝向槽(104)的内侧倾斜。