一种陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置的制作方法

1.本发明涉及陶瓷制备设备技术领域，具体涉及一种陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置。


背景技术：

2.上釉，就是所谓在烧制陶、瓷器时，首先应该烧制毛胚，烧好后拿出来上釉，然后再烧的一种方式。釉有很多种以石英、长石、硼砂、黏土等为原料制成的物质，涂在瓷器、陶器的表面，烧制成有玻璃光泽可分为结晶釉裂纹釉等在烧制好的毛坯上涂覆上一层玻璃质的釉层，主要起到保护和装饰作用。
3.陶瓷工艺品上釉过程中多采用喷釉的方式进行上釉过程，通过喷釉的方式在上釉的过程中，容易使得釉料四溅，这样既导致无法其他的设备，干燥后不利于清洗，同时喷溅的釉料扩散到环境中，在吸入到体内后对工作人员的安全带来隐患。为了解决上述问题，本发明中提出了一种陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置。


技术实现要素：

4.(1)要解决的技术问题
5.本发明的目的在于克服现有技术的不足，适应现实需要，提供一种陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置，以解决上述技术问题。
6.(2)技术方案
7.为了实现本发明的目的，本发明所采用的技术方案为：
8.一种陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置，包括陶瓷本体、固定爪和固定支撑盘，所述陶瓷本体通过固定爪固定在固定支撑盘上，且固定支撑盘固定设置在收集槽的内底壁上，所述陶瓷本体的正上方设置有上釉机构。
9.进一步地，所述上釉机构包括驱动电机和筒状防溅射罩，所述驱动电机固定连接在筒状防溅射罩的上板上，且筒状防溅射罩开口向下设置，所述驱动电机的驱动端连接有转动杆的一端，且转动杆转动设置在筒状防溅射罩的顶板上，所述转动杆的另一端固定连接在支撑箱的上端面上，且支撑箱悬空设置在筒状防溅射罩内，所述支撑箱的下端面上设置有喷洒箱，且喷洒箱远离筒状防溅射罩内侧壁的一端设置有相连通的喷洒孔。
10.进一步地，所述支撑箱上设置有导液机构，所述导液机构包括环形滑槽和环形箱，所述环形滑槽开设在支撑箱的上端面上，所述环形箱滑动设置在环形滑槽内，且环形箱与支撑箱相连通设置，所述环形箱的顶板上固定插接有钢性连接管，且钢性连接管固定插接在筒状防溅射罩的顶板上，所述钢性连接管的上端连通设置有连接软管的一端，且连接软管的另一端与釉料源头相连通。
11.进一步地，所述支撑箱和喷洒箱之间通过连通组件相连接，所述连通组件包括连接滑槽和连接管，所述连接滑槽开设在支撑箱的下端面上，所述连接管滑动设置在连接滑槽内，且连接管的侧壁固定连接有一号支撑组件的一端，所述一号支撑组件的另一端固定
连接在一号固定块的侧壁上，且一号固定块固定连接在支撑箱的下端面上，所述连接滑槽的顶壁上开设有与支撑箱的内腔相连通的出液孔。
12.进一步地，所述一号支撑组件包括一号支撑杆、一号支撑筒和一号支撑弹簧，所述一号支撑杆活动插接在一号支撑筒内，所述一号支撑弹簧缠绕连接在一号支撑杆外，且一号支撑弹簧的两端分别固定连接在一号支撑杆的侧壁上和一号支撑筒的外侧壁上。
13.进一步地，所述出液孔内设置有封堵组件，所述封堵组件包括二号承托板和封堵塞，所述二号承托板与支撑箱的内底壁相抵接，所述封堵塞固定设置在二号承托板的下端面上，且封堵塞活动插接在出液孔内，所述二号承托板的上端面上固定连接有二号支撑组件的一端，且二号支撑组件的另一端固定连接在支撑箱的内顶壁上；所述封堵塞的下端设置有圆头凸起。
14.进一步地，所述二号支撑组件包括二号支撑杆、二号支撑筒和二号支撑弹簧，所述二号支撑杆活动插接在二号支撑筒内，所述二号支撑弹簧缠绕连接在二号支撑杆外，且二号支撑弹簧的两端分别固定连接在二号支撑杆的侧壁上和二号支撑筒的外侧壁上。
15.进一步地，所述连接管远离一号固定块的一端上边缘开设有三角防卡槽。
16.进一步地，所述收集槽和上釉机构通过移动机构进行连接，所述移动机构包括驱动气缸和气缸臂，所述驱动气缸的驱动下端连接有气缸臂，所述气缸臂固定连接在连接板的上端面上，且连接板固定连接在上釉机构上，所述连接板上开设有支撑滑孔，且支撑滑孔内活动插接有支撑滑杆，所述驱动气缸固定连接在支撑滑杆的侧壁上，且支撑滑杆的下端固定连接在一号承托板的上端面上，所述一号承托板固定连接在收集槽的侧壁上。
17.进一步地，所述驱动电机内设置有抵触机构，所述抵触机构包括二号固定块、u形支撑杆和抵触块，所述二号固定块固定连接在环形箱的外顶壁上，所述u形支撑杆的一端固定连接在二号固定块的侧壁上，且另一端固定连接有抵触块，所述u形支撑杆活动包覆在支撑箱外，所述抵触块远离u形支撑杆的一端固定连接有圆台凸起。
18.(3)有益效果：
19.本发明对现有的陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置的结构进行改进，改进后的陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置，在上釉的过程中，可以防止釉料四散喷溅，这样可以避免后续的清理，同时，又可以防止釉料扩散到环境中，避免吸入体内，从而保证施工的安全性。
20.本发明中在陶瓷本体的正上方设置有上釉机构，用于对陶瓷本体进行上釉工序，上釉机构的结构设计合理，既能够保证上釉的过程中，防止釉料喷溅的效果，同时，又能够对陶瓷本体实现完全上釉的效果。
21.本发明中收集槽和上釉机构通过移动机构相连接，并且通过移动机构可以使得上釉机构能够相对收集槽上下发生运动，通过上下运动的设置，既可以保证陶瓷本体取放的便捷性，同时，又能够在上釉的过程中，通过上下运动可以对陶瓷本体两次上釉工序，从而保证陶瓷本体上釉完全，避免遗漏的情况发生。
22.本发明中支撑箱和喷洒箱通过连通组件相连通，连通组件的结构设计合理，支撑箱旋转时，在离心力的作用下，喷洒箱能够与出液孔相连通，确保上釉的工序进行，并且喷洒箱在离心力的作用下，相对支撑箱发生运动时，可以改变喷洒箱的旋转半径，这样通过该设备科适用于不同尺寸陶瓷本体的上釉工序。
23.本发明中出液孔内设置了封堵组件，封堵组件的设置，可用于实现对出液孔的间
断封堵，这样在未上釉时，通过对封堵组件的封堵，可以避免支撑箱内残留的釉料发生滴落，造成浪费的问题。
24.本发明中设置了抵触机构，用于实现对喷洒箱的抵触，通过喷洒箱的间断抵触，可以保证封堵塞对出液孔的间断封堵，从而确保釉料的间断喷洒，这样既能够实现对陶瓷本体的上釉工序，同时，又能够避免釉料的不间断喷射，从而的达到节约资源的作用。
附图说明
25.图1为本发明陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置的实施例结构示意图；
26.图2为本发明陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置图1中上釉机构结构示意图；
27.图3为本发明陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置图2中支撑箱和喷洒箱组合结构示意图；
28.图4为本发明陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置图3中a结构放大示意图；
29.图5为本发明陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置的节能机构结构示意图；
30.图6为本发明陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置图5中抵触板和喷洒箱抵触状态结构示意图。
31.附图标记如下：
32.陶瓷本体1、固定爪2、固定支撑盘3、收集槽4、上釉机构5、驱动电机51、筒状防溅射罩52、转动杆53、支撑箱54、环形滑槽55、环形箱56、钢性连接管57、连接软管58、喷洒孔59、喷洒箱510、移动机构6、驱动气缸61、气缸臂62、支撑滑杆63、一号承托板64、支撑滑孔65、连接板66、连通组件7、连接滑槽71、连接管72、出液孔73、一号支撑组件74、一号支撑杆741、一号支撑筒742、一号支撑弹簧743、一号固定块75、三角防卡槽76、封堵组件8、二号承托板81、封堵塞82、圆头凸起83、二号支撑组件84、二号支撑杆841、二号支撑筒842、二号支撑弹簧843、抵触机构9、二号固定块91、u形支撑杆92、抵触块93、圆台凸起94。
具体实施方式
33.下面结合附图1-6和实施例对本发明进一步说明：
34.一种陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置，包括陶瓷本体1、固定爪2和固定支撑盘3，陶瓷本体1通过固定爪2固定在固定支撑盘3上，且固定支撑盘3固定设置在收集槽4的内底壁上，陶瓷本体1的正上方设置有上釉机构5，本发明对现有的陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置的结构进行改进，改进后的陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置，在上釉的过程中，可以防止釉料四散喷溅，这样可以避免后续的清理，同时，又可以防止釉料扩散到环境中，避免吸入体内，从而保证施工的安全性。
35.本实施例中，上釉机构5包括驱动电机51和筒状防溅射罩52，驱动电机51固定连接在筒状防溅射罩52的上板上，且筒状防溅射罩52开口向下设置，驱动电机51的驱动端连接有转动杆53的一端，且转动杆53转动设置在筒状防溅射罩52的顶板上，转动杆53的另一端固定连接在支撑箱54的上端面上，且支撑箱54悬空设置在筒状防溅射罩52内，支撑箱54的下端面上设置有喷洒箱510，且喷洒箱510远离筒状防溅射罩52内侧壁的一端设置有相连通的喷洒孔59，支撑箱54上设置有导液机构，导液机构包括环形滑槽55和环形箱56，环形滑槽55开设在支撑箱54的上端面上，环形箱56滑动设置在环形滑槽55内，且环形箱56与支撑箱
54相连通设置，环形箱56的顶板上固定插接有钢性连接管57，且钢性连接管57固定插接在筒状防溅射罩52的顶板上，钢性连接管57的上端连通设置有连接软管58的一端，且连接软管58的另一端与釉料源头相连通，本发明中在陶瓷本体1的正上方设置有上釉机构5，用于对陶瓷本体1进行上釉工序，上釉机构5的结构设计合理，既能够保证上釉的过程中，防止釉料喷溅的效果，同时，又能够对陶瓷本体1实现完全上釉的效果。
36.本实施例中，支撑箱54和喷洒箱510之间通过连通组件7相连接，连通组件7包括连接滑槽71和连接管72，连接滑槽71开设在支撑箱54的下端面上，连接管72滑动设置在连接滑槽71内，且连接管72的侧壁固定连接有一号支撑组件74的一端，一号支撑组件74的另一端固定连接在一号固定块75的侧壁上，且一号固定块75固定连接在支撑箱54的下端面上，连接滑槽71的顶壁上开设有与支撑箱54的内腔相连通的出液孔73，本发明中支撑箱54和喷洒箱510通过连通组件7相连通，连通组件7的结构设计合理，支撑箱54旋转时，在离心力的作用下，喷洒箱510能够与出液孔73相连通，确保上釉的工序进行，并且喷洒箱510在离心力的作用下，相对支撑箱54发生运动时，可以改变喷洒箱510的旋转半径，这样通过该设备科适用于不同尺寸陶瓷本体1的上釉工序。
37.本实施例中，一号支撑组件74包括一号支撑杆741、一号支撑筒742和一号支撑弹簧743，一号支撑杆741活动插接在一号支撑筒742内，一号支撑弹簧743缠绕连接在一号支撑杆741外，且一号支撑弹簧743的两端分别固定连接在一号支撑杆741的侧壁上和一号支撑筒742的外侧壁上，一号支撑组件74的设置，既可以为连接管72的运动起到导向支撑的作用，同时，又可以为连接管72的复位运动提供动力。
38.本实施例中，出液孔73内设置有封堵组件8，封堵组件8包括二号承托板81和封堵塞82，二号承托板81与支撑箱54的内底壁相抵接，封堵塞82固定设置在二号承托板81的下端面上，且封堵塞82活动插接在出液孔73内，二号承托板81的上端面上固定连接有二号支撑组件84的一端，且二号支撑组件84的另一端固定连接在支撑箱54的内顶壁上；封堵塞82的下端设置有圆头凸起83，本发明中出液孔73内设置了封堵组件8，封堵组件8的设置，可用于实现对出液孔73的间断封堵，这样在未上釉时，通过对封堵组件8的封堵，可以避免支撑箱54内残留的釉料发生滴落，造成浪费的问题。
39.本实施例中，二号支撑组件84包括二号支撑杆841、二号支撑筒842和二号支撑弹簧843，二号支撑杆841活动插接在二号支撑筒842内，二号支撑弹簧843缠绕连接在二号支撑杆841外，且二号支撑弹簧843的两端分别固定连接在二号支撑杆841的侧壁上和二号支撑筒842的外侧壁上，二号支撑组件84的设置，既可以为二号承托板81的运动起到导向支撑的作用，同时，又可以为二号承托板81的复位运动提供动力。
40.本实施例中，连接管72远离一号固定块75的一端上边缘开设有三角防卡槽76，三角防卡槽76的设置，可以起到防卡的作用。
41.本实施例中，收集槽4和上釉机构5通过移动机构6进行连接，移动机构6包括驱动气缸61和气缸臂62，驱动气缸61的驱动下端连接有气缸臂62，气缸臂62固定连接在连接板66的上端面上，且连接板66固定连接在上釉机构5上，连接板66上开设有支撑滑孔65，且支撑滑孔65内活动插接有支撑滑杆63，驱动气缸61固定连接在支撑滑杆63的侧壁上，且支撑滑杆63的下端固定连接在一号承托板64的上端面上，一号承托板64固定连接在收集槽4的侧壁上，本发明中收集槽4和上釉机构5通过移动机构6相连接，并且通过移动机构6可以使
得上釉机构5能够相对收集槽4上下发生运动，通过上下运动的设置，既可以保证陶瓷本体1取放的便捷性，同时，又能够在上釉的过程中，通过上下运动可以对陶瓷本体1两次上釉工序，从而保证陶瓷本体1上釉完全，避免遗漏的情况发生。
42.本实施例中，驱动电机51内设置有抵触机构9，抵触机构9包括二号固定块91、u形支撑杆92和抵触块93，二号固定块91固定连接在环形箱56的外顶壁上，u形支撑杆92的一端固定连接在二号固定块91的侧壁上，且另一端固定连接有抵触块93，u形支撑杆92活动包覆在支撑箱54外，抵触块93远离u形支撑杆92的一端固定连接有圆台凸起94，本发明中设置了抵触机构9，用于实现对喷洒箱510的抵触，通过喷洒箱510的间断抵触，可以保证封堵塞82对出液孔73的间断封堵，从而确保釉料的间断喷洒，这样既能够实现对陶瓷本体1的上釉工序，同时，又能够避免釉料的不间断喷射，从而的达到节约资源的作用。
43.本发明的工作原理如下：
44.当需要对陶瓷本体1进行上釉时，启动驱动气缸61，驱动气缸61的工作会通过气缸臂62和连接板66推着上釉机构5向下运动，当筒状防溅射罩52的最下端接触即将接触到陶瓷本体1的上端时，启动驱动电机51，驱动电机51的工作会通过转动杆53带着支撑箱54发生旋转，支撑箱54的旋转，在离心力的作用下，会通过连接管72带着喷洒箱510在连接滑槽71内向左运动，随着连接管72的继续运动，会推着封堵塞82向上运动，当封堵塞82脱离出液孔73时，出液孔73与连接管72相连通，从而使得支撑箱54内的釉料进入到喷洒箱510内，并通过喷洒孔59喷出，实现对陶瓷本体1的上釉，由于喷洒箱510是从上往下围着陶瓷本体1旋转运动，因此能够实现对陶瓷本体1的完全上釉；在支撑箱54旋转过程中，环形箱56相对支撑箱54静止，此时，在抵触块93的抵触下，会推着喷洒箱510间断做复位运动，在抵触块93抵触喷洒箱510做复位时，二号支撑组件84会推着封堵塞82进入到出液孔73内，实现出液孔73的封堵，避免釉料的喷出；在抵触块93脱离喷洒箱510时，在离心力的作用下，喷洒箱510带着连接管72再次将封堵塞82推出到出液孔73外，从而保证釉料进入到喷洒箱510内，这样通过釉料的间断喷出，可以实现节约资源的作用。
45.本发明有益效果：
46.本发明对现有的陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置的结构进行改进，改进后的陶瓷工艺品生产用曲面上釉装置，在上釉的过程中，可以防止釉料四散喷溅，这样可以避免后续的清理，同时，又可以防止釉料扩散到环境中，避免吸入体内，从而保证施工的安全性。
47.本发明中在陶瓷本体1的正上方设置有上釉机构5，用于对陶瓷本体1进行上釉工序，上釉机构5的结构设计合理，既能够保证上釉的过程中，防止釉料喷溅的效果，同时，又能够对陶瓷本体1实现完全上釉的效果。
48.本发明中收集槽4和上釉机构5通过移动机构6相连接，并且通过移动机构6可以使得上釉机构5能够相对收集槽4上下发生运动，通过上下运动的设置，既可以保证陶瓷本体1取放的便捷性，同时，又能够在上釉的过程中，通过上下运动可以对陶瓷本体1两次上釉工序，从而保证陶瓷本体1上釉完全，避免遗漏的情况发生。
49.本发明中支撑箱54和喷洒箱510通过连通组件7相连通，连通组件7的结构设计合理，支撑箱54旋转时，在离心力的作用下，喷洒箱510能够与出液孔73相连通，确保上釉的工序进行，并且喷洒箱510在离心力的作用下，相对支撑箱54发生运动时，可以改变喷洒箱510的旋转半径，这样通过该设备科适用于不同尺寸陶瓷本体1的上釉工序。
50.本发明中出液孔73内设置了封堵组件8，封堵组件8的设置，可用于实现对出液孔73的间断封堵，这样在未上釉时，通过对封堵组件8的封堵，可以避免支撑箱54内残留的釉料发生滴落，造成浪费的问题。
51.本发明中设置了抵触机构9，用于实现对喷洒箱510的抵触，通过喷洒箱510的间断抵触，可以保证封堵塞82对出液孔73的间断封堵，从而确保釉料的间断喷洒，这样既能够实现对陶瓷本体1的上釉工序，同时，又能够避免釉料的不间断喷射，从而的达到节约资源的作用。
52.本发明的实施例公布的是较佳的实施例，但并不局限于此，本领域的普通技术人员，极易根据上述实施例，领会本发明的精神，并做出不同的引申和变化，但只要不脱离本发明的精神，都在本发明的保护范围内。