一种新型立体瓷片及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及陶瓷砖技术领域，尤其涉及一种新型立体瓷片及其制备方法。
【背景技术】
[0002]现有瓷片的结构层此为:还体层1、底釉层2、印刷层5、面釉层6，如图3所示。此种结构是把所有的印刷装饰层都装饰在同一层上，相对单调，立体感不够强，而且装饰层一般直接位于最外层，其装饰效果十分不耐磨，装饰效果十分容易被磨损掉，现有解决装饰层耐磨的问题时，会在装饰层上方使用透明釉层，但其效果也仅限于二维的平面装饰效果，不满足人们所追求的立体感设计。因此，研发出一种具有立体效果且装饰效果持久的瓷片是众多厂家所追求的目标。
【发明内容】
[0003]本发明的目的在于提出一种具有层次立体效果且装饰效果持久的新型立体瓷片。
[0004]本发明的另一个目的在于提出一种上述新型立体瓷片的制备方法，操作工序简易，通过层次的叠加增强瓷片透视侧视效果。
[0005]为达此目的，本发明采用以下技术方案:
[0006]一种新型立体瓷片，从下到上依次包括坯体层、底釉层和立体装饰层组，所述立体装饰层组至少设置有两组，所述立体装饰层组从下到上依次包括印花装饰层和立体透视层。
[0007]更进一步的说明，所述底釉层和所述立体装饰层组之间还设置有隔水增白中间层。
[0008]更进一步的说明，所述隔水增白中间层的釉料配方包括以下质量分数的原料:半不透底釉80-100%和硅渣0-20%。
[0009]更进一步的说明，所述隔水增白中间层的吸水率小于0.5%。
[0010]更进一步的说明，所述半不透明釉为透光率在10-30%的半不透明釉。
[0011]更进一步的说明，所述底釉层底釉的吸水率为4-9%。
[0012]更进一步的说明，上述一种新型立体瓷片的制备方法，包括以下步骤:
[0013]A、通过陶瓷粉料的压制获得坯体，并在1050_1080°C下素烧获得的素坯为坯体层，其出窑坯温在80-110 °C ；
[0014]B、在坯体层表面先喷水润湿后再淋底釉，获得底釉层；
[0015]C、在底釉层上淋一层隔水增白釉，或使用丝网版印一层隔水增白釉，获得隔水增白中间层；
[0016]D、在隔水增白中间层的表面依次印刷印花装饰层和立体透视层，获得一组立体装饰层组；
[0017]E、根据所需的立体装饰层组的数量重复步骤D，最终烧成获得成品。
[0018]更进一步的说明，步骤D中的印花装饰层采用丝网、胶辊或喷墨喷印获得。
[0019]更进一步的说明，步骤D中的立体透视层采用32T-68T全透网版或用喷墨打印机。
[0020]更进一步的说明，所述隔水增白中间层与最后印刷的所述立体透视层的温度差不尚于20 C。
[0021]本发明的有益效果:1、印花装饰层位于立体透视层之下，装饰效果持久，砖面耐磨；2、具有层次立体感；3、增加瓷片透视侧视效果。
【附图说明】
[0022]图1是本发明的一个实施例的结构示意图；
[0023]图2是本发明的另一个实施例的结构示意图；
[0024]图3是现有技术的结构示意图。
[0025]其中:坯体层1、底釉层2、立体装饰层组3、印花装饰层31、立体透视层32、隔水增白中间层4、印刷层5、面釉层6。
【具体实施方式】
[0026]下面结合附图并通过【具体实施方式】来进一步说明本发明的技术方案。
[0027]如图1所示，一种新型立体瓷片，从下到上依次包括坯体层1、底釉层2和立体装饰层组3，所述立体装饰层组3至少设置有两组，所述立体装饰层组3从下到上依次包括印花装饰层31和立体透视层32。
[0028]本发明一种新型立体瓷片结构，由传统的釉上彩改为不同层次的釉下彩组合成一个图案，立体效果明显。设置有不少于两组的立体装饰层组3，每组中含有一层印花装饰层31，把不同的印花装饰层31分别印刷在不同的层面上，其通过立体透视层32的结合，整体组成一个图案，立体感明显增强，增强瓷片透视侧视效果，不管从正面或侧面看都层次感强。
[0029]更进一步的说明，如图2所示，所述底釉层2和所述立体装饰层组3之间还设置有隔水增白中间层4。
[0030]隔水增白中间层4的主要作用是:1、彻底隔离水分，目前市面上使用的底釉都是吸水率在5%到11%之间的，虽说能隔水，但是不能完全隔离水分，市面上的瓷片做透水试验都有比较明显的印级，因此需要增设一个隔水增白中间层4，其第二个作用是增白，瓷化白度达到85度以上，有利于后期的装饰，不影响后续的装饰效果。
[0031]更进一步的说明，所述隔水增白中间层4的釉料配方包括以下质量分数的原料:半不透底釉80-100%和硅渣0-20%。
[0032]隔水中间层要达到上述隔水、增白效果主要是由于配方中引入了工业废料一硅渣。这里所说的硅渣是指高铝粉煤灰提铝之后的剩余部分，其主要成分是硅酸钙。生产中隔水增白中间层4的原因是因为正常的产品没有隔水增白中间层4，铺贴的时候砖面上容易透过来水泥水印，影响美观和铺贴，而且消费者不认可，觉得档次低。硅渣的来源:高铝粉煤灰的主要化学成分是Si02和A1203，二者之和占到80%以上，此外，还含有少量Fe203、Ca0、Mg0、Na20、K20和未燃尽碳等。将粉煤灰和石灰石按照适当比例混合，通过高温烧结打破原来粉煤灰中稳定的莫来石结构，使粉煤灰中的铝硅物相发生转化，其中铝转化为易被Na2C03溶液浸出的12Ca0.7Α1203，硅被固结为在碳酸钠溶液中较稳定的2Ca0 *Si02，从而实现铝、硅分离。2Ca0.Si02在由介稳态的β -2Ca0.Si02向稳态的γ _2Ca0.Si02转化过程中产生体积膨胀，使块状的2Ca0.Si02转变为粉状，可省去湿磨工艺。
[0033]石灰石烧结法机理为:A1203与石灰石在1320 °C?1400 °C下烧结成铝酸钙7A1203+12CaC03 = 12Ca0.7A1203+12C02 i Si02 与石灰石烧结转化为 2Ca0.Si02。
[0034]2Si02+2CaC03 = 2Ca0.Si02+2C02丨冷却后，铝酸钙可被Na2C03溶液浸出，形成招酸钠溶。
[0035]12Na2C03+12Ca0 ?7Α1203+5Η20 = 14NaA102+12CaC03 丨 +1NaOH 经过滤后得铝酸钠溶液粗液，再经脱硅、碳分、过滤工艺得到Al (OH) 3，最后煅烧工艺得A1203产品。硅渣是指尚招粉煤灰提招之后的剩余部分。
[0036]更进一步的说明，所述隔水增白中间层4的吸水率小于0.5%。彻底隔离水分，主要通过隔水增白中间层4低吸水率小于0.5%来实现隔离水分。
[0037]更进一步的说明，所述半不透明釉为透光率在10-30%的半不透明釉。需要说明的是，半不透底釉为本领域内常用的透光率为10-30 %的普通釉料。
[0038]更进一步的说明，所述底釉层2的配方包括以下质量分数的原料:钛白粉60-80 %、高岭土 5-15 %、烧滑石2-15 %和硅酸锆0-10 %。
[0039]更进一步的说明，所述底釉层2底釉的吸水率为4-9%。进一步的优化隔水效果，达到初次的增白和隔水效果。
[0040]上述一种新型立体瓷片的制备方法，包括以下步骤:
[0041]A、通过陶瓷粉料的压制获得坯体，并在1050-1080°C下素烧获得的素坯为坯体层I，其出窑坯温在80-