烧烤装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种烧烤装置，特别是涉及一种便于清洁的烧烤装置。
【背景技术】
[0002]随着休闲风气日渐兴盛，许多与休闲活动相关的活动越来越流行，烧烤就是其中之一。烧烤活动通常是在烧烤架中盛装木炭，再用网架架设于烧烤架上缘，然后一起坐在烧烤架旁进行肉品、蔬果等食材的烧烤。
[0003]由于在烧烤食材的过程中，不免会滴下许多烧烤酱汁、油脂、水分等物质，这些在烧烤过程中所滴下的物质经过烧烤的加热干燥后会在烧烤架上形成难以清除的顽垢，因此烧烤架的清洁总是令人相当费神劳心。烧烤架的清洁一般需要辅以清洁剂、刷子等清洁用品进行刷洗，在刷洗之后再以清水冲掉清洁泡沫及脏污，若仍有脏污，则再次进行刷洗，直到烧烤架刷洗干净后，再将烧烤架风干以便收纳。
[0004]然而，在以清水冲掉烧烤架上的清洁泡沫及脏污时，往往会喷溅到清洁的人员身上而弄脏了清洁人员的衣物，并且烧烤架在清洗后所囤积的水分相当多使得其风干的时间相当长，因此现有的烧烤架相当不便于清洁。
【发明内容】
[0005]因此，本实用新型的目的是提供一种便于清洁的烧烤装置，用以避免现有技术的冋题。
[0006]本实用新型为解决现有技术的问题所采用的技术手段是提供一种烧烤装置，包含:底座及烘烤机构，该底座具有烧烤使用空间，该烧烤使用空间的一端连通有一移出口，该底座在该烧烤使用空间的两侧各设置有一移动导引构件，每个移动导引构件具有一滑动导引部及一枢转导引部，该滑动导引部沿一滑移方向朝该移出口延伸，该枢转导引部连接于该滑动导引部的末端；以及该烘烤机构，包括承置构件、以及从该承置构件向两侧凸伸的两个滑动部，该两个滑动部分别可移动地设置于该两个移动导引构件，其中从该两个滑动部沿该两个滑动导引部滑移至该枢转导引部，使该烘烤机构从该烧烤使用空间内的使用位置滑动至该烧烤使用空间外的外部位置，并通过该两个滑动部在该枢转导引部枢转从而使该烘烤机构从该外部位置下旋枢转至清洁位置。
[0007]在本实用新型的一实施例中提供一种烧烤装置，该承置盒的底面设置有隔热垫片。
[0008]在本实用新型的一实施例中提供一种烧烤装置，该隔热垫片为铁氟龙垫片。
[0009]在本实用新型的一实施例中提供一种烧烤装置，该隔热垫片为四个，且该四个隔热垫片分别设置于该承置盒的四个角部。
[0010]在本实用新型的一实施例中提供一种烧烤装置，该枢转导引部为一 C形扣环，该C形构环的两端分别固定于该底座而围成有一枢转空间。
[0011]在本实用新型的一实施例中提供一种烧烤装置，该承置构件在对应该移出口的前侧面设置有把手。
[0012]在本实用新型的一实施例中提供一种烧烤装置，该底座在该外部位置的下方具有抵靠部，且该承置构件位于该清洁位置时该承置构件贴靠于该抵靠部。
[0013]在本实用新型的一实施例中提供一种烧烤装置，该滑动导引部在相反于该移出口的一端向下延伸一定位凹部，该承置盒位于该使用位置时，该两个滑块位于该两个滑动导引部的定位凹部中。
[0014]在本实用新型的一实施例中提供一种烧烤装置，每个滑块分别包括头部及滑杆部，该滑杆部连接于该头部及该承置构件之间，该头部的直径实质大于该滑动导引部的宽度，该滑杆部滑移地设置于该移动导引构件中。
[0015]在本实用新型的一实施例中提供一种烧烤装置，该滑动导引部具有一滑轨。
[0016]本实用新型的烧烤装置具有以下的有益效果。当欲冲洗掉承置构件上的清洁泡沫及脏污时，可通过移动导引构件及滑动部进行烘烤机构的滑动及枢转，使其位于清洁位置，如此一来清洁泡沫及脏污将顺着承置构件的内底面向下流动，从而避免冲洗时产生清洁泡沫及脏污的喷溅从而能保持清洗人员衣物的清洁。此外，当承置构件位于清洁位置时，其上的水分将顺着其内底面向下流动，使得大部分的水分能被沥除，并且使得风能直接吹拂残留于其内底面的剩余水分，而能加速烧烤装置的干燥。
【附图说明】
[0017]图1为显示根据本实用新型的一实施例的烧烤装置的前视图。
[0018]图2为显示根据本实用新型的该实施例的烧烤装置在使用位置时的侧视图。
[0019]图3为显示根据本实用新型的该实施例的烧烤装置在外部位置时的侧视图。
[0020]图4为显示根据本实用新型的该实施例的烧烤装置在清洁位置时的侧视图。
[0021]符号说明:
[0022]100烧烤装置
[0023]I 底座
[0024]11 移出口
[0025]12移动导引构件
[0026]121滑动导引部
[0027]122枢转导引部
[0028]123定位凹部
[0029]13抵靠部
[0030]2 烧烤机构
[0031]21承置构件
[0032]211 底面
[0033]212 角部
[0034]22滑动部
[0035]221 头部
[0036]222滑杆部
[0037]23 把手
[0038]24隔热垫片
[0039]3上盖
[0040]D滑动方向
[0041]SI烧烤使用空间
[0042]S2枢转空间
[0043]Pl使用位置
[0044]P2外部位置
[0045]P3清洁位置
[0046]R下旋枢转方向
【具体实施方式】
[0047]以下根据图1至图4，说明本实用新型的实施方式。该说明并非为限制本实用新型的实施方式，而为本实用新型的实施例的一种。
[0048]如图1及图2所示，依据本实用新型的一实施例的烧烤装置100，包含:底座I及烘烤机构2。
[0049]底座I具有烧烤使用空间SI，烧烤使用空间SI的一端连通有移出口 11。底座I在烧烤使用空间SI的两侧各设置有一移动导引构件12。每个移动导引构件12具有一滑动导引部121及一枢转导引部122。滑动导引部121沿滑移