一种镀膜的板及其制备方法

专利名称：：一种镀膜的板及其制备方法
技术领域：
：本发明涉及一种镀膜的板，还涉及该镀膜的板的制备方法。
背景技术：
：镀膜的板例如玻璃板或聚碳酸酯(PC)板通常可以用于各个方面，例如各种电子产品的视窗、汽车玻璃等。尤其是用于手机的视窗时，希望获得更好的质感，以提升手机产品的价值。通常的镀膜方法是采用物理气相沉积，例如真空蒸镀法和溅射法在基板上镀覆金属膜。真空蒸镀法是一种常用的镀覆技术，用于在金属、玻璃或塑料基板上镀覆金、银、铜、锡、铝、络、镍等金属膜。但是如果在基板上镀覆金属膜，该金属膜会阻隔或干扰手机产品的通讯信号，造成通话质量不良的缺陷。因此，需要寻求蒸镀非金属膜的板及其制备方法。CN1974235A中公开了一种在基材表面形成激光图案的真空蒸镀设备、方法及制成品，该方法包括以下步骤(a)将基材放置在真空蒸镀设备内，进行蒸镀作业；(b)以蒸镀源进行多重蒸镀，在上述基材一表面形成镀膜层；(c)在上述基材另一表面布设图样层；(d)在上述基材镀膜层印刷颜色层。所述基材为聚碳酸酯或压克力材质；所述蒸镀源为氧化硅及氧化钛，以多重蒸镀将其披覆在基材表面形成镀膜层，所述氧化硅及氧化钛以设定的顺序及厚度予以披覆。采用该专利申请提供的方法用蒸镀的方式在基材表面镀上镀膜层，可以保护基材，而且通过光线在镀膜层上折射可形成绚丽的激光图案效果。但是，采用该专利申请所提供的方法操作较为复杂，而且不能在基材上得到具有金属质感的镀覆膜。
发明内容本发明的目的在于克服上述现有技术中操作复杂，并且不能在基材上得到金属质感的镀覆膜的缺陷，提供一种具有金属质感的镀膜的板，还提供了一种操作简单的该镀膜的板的制备方法。本发明提供了一种镀膜的板，该镀膜的板包括基板和附着在所述基板上的膜，其中，所述膜为0"203膜。本发明还提供了一种镀膜的板的制备方法，该方法包括在基板上形成膜，其中，所述膜为0203膜。根据本发明提供的镀膜的板及其制备方法，在基板上形成了金属质感的0"203镀覆膜，从而可以提升产品的价值。尤其是当本发明的产品用作手机的视窗时，在基板上镀覆了0203膜，既可以使手机的视窗获得金属质感，又可以使手机的视窗镀覆有电磁防护膜层，以减少手机电磁波辐射对人体的危害。同时，本发明提供的镀膜的板的绝缘性能很好，通过百格测试镀膜与基板的附着力为3B以上，而且镀膜很均匀。而且本发明提供的镀膜的板的制备方法操作简单、方便。具体实施例方式本发明提供的镀膜的板包括基板和附着在所述基板上的膜，其中，所述膜为&203膜。根据本发明提供的镀膜的板，在优选情况下，所述膜的光透过率为50-80%，更优选为57-63%。根据本发明提供的镀膜的板，所述基板可以为各种基板，例如为聚碳酸酯板或玻璃板。对所述基板的厚度没有特别的限定，可以视具体的用途进行选择，例如，当所述镀膜的板用作手机的视窗时，所述基板的厚度可以为0.5-lmm。基板上形成膜，其中，所述膜为0203膜。根据本发明提供的制备方法，所述在基板上形成膜的方法为，在真空蒸镀的条件下，将&203颗粒加热熔融后蒸镀到所述基板上。根据本发明提供的制备方法，在优选情况下，所述0"203颗粒的用量使所述膜的光透过率为50-80%，优选为57-63%。本发明的发明人经过实验发现，蒸镀每平方厘米的基板，使用0.0011-0.0016克的0"203颗粒即可获得光透过率为50-80%的膜。通常情况下，采用800cm直径的真空蒸镀机进行蒸镀时，所需使用的0203颗粒的量为2.2-3.2克。根据本发明提供的制备方法，所述真空蒸镀的条件为本领域技术人员公知的，例如真空蒸镀的真空压力为3X10—2-7X10—2Pa。通常，在进行真空蒸镀时，通常采用三种加热源，即电阻加热源、电子束加热源和感应加热源，用于加热和蒸发蒸镀材料。感应加热源主要用于大规模涂覆仪器，因为由于高频率的使用，它倾向于使用复杂的外围设备。由于电子束加热源能蒸发几乎所有种类的材料，因此它被广泛用于大型设备，也用于实验薄膜的制造。电阻加热源由于具有安装简单、价格便宜等特点而用于各种领域。在本发明中，将0203颗粒作为蒸镀材料时，既可以采用电阻加热源进行加热，也可以采用电子束加热源进行加热，优选采用电阻加热源进行加热。根据本发明提供的制备方法，在优选情况下，所述将&203颗粒加热熔融的方式为电阻加热，所述电阻加热的电流为210-260A。根据本发明提供的制备方法，在优选情况下，所述将0"203颗粒加热熔融的方式包括先在电流为210-230A下加热0.5-3分钟，对所述0"203颗粒进行预熔，然后再在大于该预熔电流至260A的电流下加热。预熔的目的是对0"203颗粒缓慢加热，防止Cr203颗粒熔融蒸发时发生喷溅，以致对产品外6观产生不良影响，造成所形成的0203膜的不导电性能或均匀性变差，影响镀膜的品质；根据本发明的一种优选实施方式，在基板上进行真空蒸镀在真空蒸镀机中进行，具体的操作步骤如下①将<^203颗粒作为蒸镀材料盛装在钨舟中，钨舟两端与真空蒸镀机的真空室内电极的正、负极相连接；将装有基板的蒸镀锅放入真空室内的工件架上，然后对真空室进行抽真空；②当真空室内的真空压力达到3X10人7Xl(^Pa时，接通电阻加热源的电流，将电流上升至210-230A，对钨舟内的0203颗粒加热预熔0.5-3分钟。③再将电流上升至240-260A，当钨舟内的&203颗粒完全熔融时，立即打开挡板开始蒸镀，用光学膜厚仪监控Cr203的蒸发速度保持在每秒1埃的速度。0"203蒸气分子蒸镀到基板表面，在基板表面形成薄膜。优选情况下，为了对基板进行离子清洗并降低膜层的内应力，以提高膜层的致密性和附着力，在对基板镀膜前，使用离子轰击棒轰击基板2-5分钟。所述离子轰击可以直接在所述真空蒸镀所用真空蒸镀机上进行，进一步在抽真空至真空室内的真空压力达到3X10人7X10—^a之前进行。下面采用实施例的方式对本发明进行进一步详细地描述。实施例1真空蒸镀机采用腾胜-800ZZS箱式真空蒸镀机采用38.71X30.95mm的玻璃板为基板，一批处理200片1、采用深圳科伟达超声波洗净机清洗上述200片玻璃板，然后将清洗干净的上述玻璃板安装到蒸镀锅的夹子上，放入真空室内的工件架上，工件架转速设定为50rpm;将2.6g的0"203颗粒放入钨舟内，钨舟两端与真空蒸镀机的真空室内电极的正、负极相连接；将光学膜厚仪(广东肇庆腾胜真空设备厂生产的TSGC-B)的波长调整为400nm，并将光量数据调整为80%;然后对真空室抽真空。2、当真空室内的真空度达到lPa时，将离子轰击棒接通电源，并向真空室内充入空气，使真空室中的真空度保持在4.0Pa，使用离子轰击棒对安装固定好的玻璃板离子轰击3分钟。3、继续将真空室抽真空至6.0X10—2Pa，此时接通电阻加热源的电流，将电流上升至220A，对钨舟内的0203颗粒加热预熔1.5分钟。4、再将电阻加热源的电流上升至250A，当钨舟内的0"203颗粒完全熔融时，立即打开挡板开始蒸镀，用光学膜厚仪监控&203的蒸发速度保持在每秒l埃的速度。当膜厚仪的光量数据从80%缓慢降到45%时，立即关闭挡板，并切断电源。最终得到镀覆有0"203膜的镀膜的板，该镀膜具有金属质感，并具有反射效果。实施例2真空蒸镀机采用腾胜-800ZZS箱式真空蒸镀机采用120mmX190mm的聚碳酸酯(PC)板为基板，一批处理8片1、采用深圳科伟达超声波洗净机清洗上述8片PC板，然后将清洗干净的上述PC板用耐高温胶贴在蒸镀锅的底部，放入真空室内的工件架上，工件架转速设定为50rpm;将2.8g的0"203颗粒放入钨舟内，钨舟两端与真空蒸镀机的真空室内电极的正、负极相连接；将光学膜厚仪(广东肇庆腾胜真空设备厂生产的TSGC-B)的波长调整为400nm，并将光量数据调整为80%;然后对真空室抽真空。2、当真空室内的真空度达到1Pa时，将离子轰击棒接通电源，并向真空室内充入空气，使真空室中的真空度保持在5.0Pa，使用离子轰击棒对安装固定好的玻璃板离子轰击2分钟。3、继续将真空室抽真空至3.0X10—2Pa，此时接通电阻加热源的电流，将电流上升至210A，对钨舟内的0"203颗粒加热预熔3分钟。4、再将电阻加热源的电流上升至260A，当钨舟内的0"203颗粒完全熔融时，立即打开挡板开始蒸镀，用光学膜厚仪监控&203的蒸发速度保持在每秒l埃的速度。当膜厚仪的光量数据从80%缓慢降到45%时，立即关闭挡板，并切断电源。最终得到镀覆有&203膜的镀膜的板，该镀膜具有金属质感，并具有反射效果。实施例3真空蒸镀机采用腾胜-800ZZS箱式真空蒸镀机采用38.71X30.95mm的玻璃板为基板，一批处理200片1、采用深圳科伟达超声波洗净机清洗上述200片玻璃板，然后将清洗干净的上述玻璃板安装到蒸镀锅的夹子上，放入真空室内的工件架上，工件架转速设定为50rpm;将2.2g的0"203颗粒放入钨舟内，钨舟两端与真空蒸镀机的真空室内电极的正、负极相连接；将光学膜厚仪(广东肇庆腾胜真空设备厂生产的TSGC-B)的波长调整为400nm，并将光量数据调整为80%;然后对真空室抽真空。2、当真空室内的真空度达到lPa时，将离子轰击棒接通电源，并向真空室内充入空气，使真空室中的真空度保持在4.0Pa，使用离子轰击棒对安装固定好的玻璃板离子轰击2分钟。3、继续将真空f、:抽真空至7.0X10—2Pa，此时接通电阻加热源的电流，将电流上升至230A，对钨舟内的Cr203颗粒加热预熔1分钟。4、再将电阻加热源的电流上升至260A，当钨舟内的0"203颗粒完全熔融时，立即打开挡板斤始蒸镀，用光学膜厚仪监控0"203的蒸发速度保持在每秒l埃的速度。当膜厚仪的光量数据从80%缓慢降到45%时，立即关闭挡板，并切断电源。最终得到镀覆有0"203膜的镀膜的板，该镀膜具有金属质感，并具有反射效果。性能测试1、测试表面电阻用兆欧表各在250V、500V和1000V的三个档位上，测量样品上的任意两点间的表面电阻，表面电阻在400兆欧以上为通过。2、测试镀膜的附着力采用百格实验来测试。用划格器在镀膜表面上划100个1毫米X1毫米的正方形格。用美国3M公司型号为600的透明胶带平整粘结在方格上，然后以45°角迅速揭起胶带，观察镀膜的划痕边缘处是否有脱落。如没有任何脱落为5B，脱膜量在0-5面积％之间为4B，脱膜量在5-15面积。/。之间为3B，脱膜量在15-35面积y。之间为2B，脱膜量在35-65面积％之间为1B，脱膜量在65面积％以上为0B。3、测试镀膜的光透过率采用UNICWFJ-2100型可见分光光度计，以546.1nm波长测量光透过率。4、测试镀膜的均匀性用UNICWFJ-2100型可见分光光度计测量一个基板上平均分布的5个点的光透过率。公差为±3%以内为合格。将实施例l-2所得到的产品按照上述测试方法进行性能测试，所得到的结果列于表l中。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>从上述实施例l-3所得到的产品及表1的数据可以看出，本发明提供的镀膜的板绝缘性能很好，镀膜与基板的附着力很好，镀膜很均匀。而且本发明提供的镀膜的板具有金属质感，并具有反射效果，同时制备方法操作简单、方便。权利要求1、一种镀膜的板，该镀膜的板包括基板和附着在所述基板上的膜，其特征在于，所述膜为Cr2O3膜。2、根据权利要求1所述的镀膜的板，其中，所述膜的光透过率为50-80%。3、根据权利要求2所述的镀膜的板，其中，所述膜的光透过率为57-63%。4、根据权利要求1所述的镀膜的板，其中，所述基板为聚碳酸酯板或玻璃板。5、一种权利要求1所述的镀膜的板的制备方法，该方法包括在基板上形成膜，其特征在于，所述膜为0203膜。6、根据权利要求5所述的制备方法，其中，所述在基板上形成膜的方法为，在真空蒸镀的条件下，将0"203颗粒加热熔融后蒸镀到所述基板上。7、根据权利要求6所述的制备方法，其中，基于每平方厘米的基板，所使用的&203颗粒的量为0.0011-0.0016克。8、根据权利要求6所述的制备方法，其中，所述真空蒸镀的真空压力为3X10-2-7X10-2Pa。9、根据权利要求6所述的制备方法，其中，所述将Cr203颗粒加热熔融的方式为电阻加热，所述电阻加热的电流为210-260A。10、根据权利要求9所述的制备方法，其中，所述将0203颗粒加热熔融的方式包括先在电流为210-230A下加热0.5-3分钟，对所述Cr203颗粒进行预熔，然后再在大于该预熔电流至260A的电流下加热。全文摘要本发明提供了一种镀膜的板，该镀膜的板包括基板和附着在所述基板上的膜，其中，所述膜为Cr₂O₃膜。本发明还提供了一种镀膜的板的制备方法，该方法包括在基板上形成膜，其中，所述膜为Cr₂O₃膜。根据本发明提供的镀膜的板及其制备方法，在基板上形成了金属质感的Cr₂O₃镀覆膜，从而可以提升产品的价值。同时，本发明提供的镀膜的板的绝缘性能很好，通过百格测试镀膜与基板的附着力为3B以上，而且镀膜很均匀。而且本发明提供的镀膜的板的制备方法操作简单、方便。文档编号B32B5/14GK101456269SQ200710198728公开日2009年6月17日申请日期2007年12月10日优先权日2007年12月10日发明者陈树名申请人:比亚迪股份有限公司