专利名称：一种新型重离子微孔防伪膜的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种防伪膜，具体是提供一种新型重离子微孔防伪膜。
背景技术：
现有技术下，利用重离子或裂变碎片辐照成像技术制造出的微孔膜，具有仿制难 度大、生产成本低、易识别等特点，广泛用于制作商标或标识。从公开的文献来看，制造重离 子微孔防伪膜的方法主要有两类。一类是先整体辐照，再利用模具成像，最后进行化学蚀刻 的方法。另一类是放射性束流通过模具辐照塑料薄膜，即高能重离子或裂变碎片通过成像 模具后辐照在透明塑料薄膜上，经过蚀刻，在薄膜上形成具有鲜明对比度的乳白色图案。这两类制备重离子微孔防伪膜方法的主要区别体现在成像的先后顺序上，第一类 方法是将塑料薄膜全部辐照后再通过各种模具成像，而第二类方法是携带模具辐照，实质 是先成像后辐照。两类制备方法各有优缺点，适用于不同的生产条件。另外，在第二类先成像后辐照的制备方法中，带有设定图案的模具与基膜通常是 分离的，在辐照时，要求模板与基膜同步运动，相对静止，稍有距离变化或相对移动，都会引 起图像模糊，进而影响产品质量。同时，为解决模具的支撑与运动问题，必须增加专用设备。 还有，在工业生产时，成像工艺是在放射性环境下完成，工作人员干涉困难，因此对生产设 备的要求比较苛刻。中山国安火炬科技发展有限公司在中国专利200920057733. 3公开了一种新型微 孔防伪膜，它包括塑料辐照膜，在塑料辐照膜的一面印刷有热熔胶，热熔胶上具有与防伪图 案对应的通孔。为了提高防伪膜的抗拉强度，在防伪膜的另一面再复合一层保护层。在该 技术中，塑料辐照膜的一面印刷有热熔胶，其目的之一就是起到模板的作用，阻止裂变碎片 或重离子在塑料薄膜上形成整体径迹损伤。但是，它未公开热熔胶的具体组分及配比。面 对能量达到IOMeV 500MeV的重离子或裂变碎片，单一的热熔胶起不到吸收重离子或裂变 碎片的作用。
发明内容本实用新型是针对以上问题，提供一种新型重离子微孔防伪膜，其通过在基膜的 一面涂上具有设定镂空图案的抗辐射胶层，胶中掺有不易被重离子穿透的金属或非金属材 料，替代现有技术中的专用模板，不仅简化了生产设备，更重要的是，从根本上解决了辐照 时模板与基膜需要同步运动的难题，简化了生产设备。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是一种新型重离子微孔防伪膜，包括基膜层，所述基膜层一面涂覆有抗辐射胶层，另 一面涂覆有聚丙烯层。抗辐射胶层上设置有镂空图案。本实用新型的一种新型重离子微孔防伪膜，其在基膜成像时，在基膜层的一面涂 上1 μ m-5 μ m厚的具有设定镂空图案的抗辐射胶层(抗辐射胶是以树脂为主料的胶和其他物质的混合物)。所述的抗辐射胶是在以树脂为主料的胶中掺入阻止重离子束流能力强的 金属材料，如铜、锌、锡、铁、镍；或者非金属材料，如碘、溴化银、氧化锆等，以加强对重离子 束流的阻止作用(作用是有效降低束流能量，可以减少涂胶部分重离子穿透基膜，非涂胶 部分则可以被重离子穿透)。本实用新型的一种新型重离子微孔防伪膜，辐照前在基膜层的一面涂上具有设定 镂空图案的抗辐射胶层，胶中还掺有不易被重离子穿透的金属或非金属材料，替代现有技 术中的专用模板，不仅简化了生产设备，更重要的是，从根本上解决了辐照时模板与基膜需 要同步运动的难题，简化了生产设备。另外，成像工作即基膜层上涂抗辐射胶的工作是在非 放射性环境中完成，操作简单，产品合格率大大提高，适于大规模生产。故而，与现有技术相比，本实用新型的一种新型重离子微孔防伪膜，具有设计合 理、结构简单、制作成本低、防伪效果好的特点。
图1是一种新型重离子微孔防伪膜的结构主视图；图2是一种新型重离子微孔防伪膜的结构俯视图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型的一种新型重离子微孔防伪膜作进一 步的描述。如附图1、2所示，一种新型重离子微孔防伪膜，包括基膜层1，所述基膜层1 一面涂 覆有抗辐射胶层2，另一面涂覆有聚丙烯层3。抗辐射胶层2上表面设置有镂空图案4。本实用新型的一种新型重离子微孔防伪膜，其加工方法有以下两种1、制备一种新型制备重离子微孔防伪膜的方法，包括下列步骤(1)基膜成像。选用厚度为(15 μ m 50 μ m)的PET膜为基膜。(2)辐照。选用能量为lMeV-500MeV、流强为0. 1纳安-10微安的重离子束流从一 面辐照基膜，辐照时间为0.1秒到几个小时。(3)敏化。利用紫外线灯对辐照后的基膜进行照射，紫外线灯功率为50瓦-2000 瓦，灯与基膜的距离为0. 1厘米-50厘米，敏化时间为10秒-180分钟。(4)蚀刻。将敏化后的基膜放入浓度为0. 1个当量-30个当量的强碱或者强酸溶 液里进行蚀刻，蚀刻时间为1-180分钟。蚀刻出清晰图案后再洗涤晾干，即得合格产品。关键是基膜成像时，在基膜的一面涂上1 μ m-5 μ m厚的设定镂空图案的抗辐射胶 (抗辐射胶是以树脂为主料的胶和其他物质的混合物)。所述的抗辐射胶是在以树脂为主 料的胶中掺入阻止重离子束流能力强的金属材料，(如铜、锌、锡、铁、镍)，或者非金属材 料，(如碘、溴化银、氧化锆等)，以加强对重离子束流的阻止作用(作用是有效降低束流能 量，可以减少涂胶部分重离子穿透基膜，非涂胶部分则可以被重离子穿透)。所述的基膜的另一面复合一层15 μ m-25 μ m厚的OPP (聚丙烯)膜，在蚀刻中起保 护作用。2、本实用新型所设计的重离子微孔防伪膜，还可以采用另一种制造方法，包括下列步骤基膜成像。选用厚度为15 μ m-50 μ m的高分子材料为基膜。辐照。选用能量为0. lMeV-500MeV、流强为0. 1纳安-10微安的裂变碎片从一面辐 照基膜，辐照时间为0.1秒到几个小时。敏化。利用紫外线灯对辐照后的基膜进行照射，紫外线灯功率为50瓦-2000瓦， 灯与基膜的距离为0. 1厘米-50厘米，敏化时间为10秒-180分钟。蚀刻。将敏化后的基膜放入浓度为0. 1个当量-30个当量的强碱或者强酸溶液里 进行蚀刻，蚀刻时间为1-180分钟。蚀刻出清晰图案后再洗涤晾干，即得合格产品。蚀刻出清晰图案后，利用弱酸溶液和0.01兆欧到50兆欧间的高纯水清洗，经过温 度10度到150度间带风机或者不带风机的烘箱烘干以后，生产出达到要求的重离子微孔防 伪膜。关键是基膜成像时，在基膜的一面涂上1 μ m-20 μ m厚的设定镂空图案的抗辐射 胶。所述的抗辐射胶是在树脂为主料的胶中掺入阻止重离子束流能力强的金属材料，如铜、 锌、锡、铁、镍，或者非金属材料，如碘，溴化银，氧化锆等，以加强对重离子束流的阻止作用。所述的基膜的另一面复合一层15 μ m-25 μ m厚的OPP膜，在蚀刻中起保护作用。以上所述的实施例，只是本实用新型较优选的具体实施方式
的一种，本领域的技 术人员在本实用新型技术方案范围内进行的通常变化和替换都应包含在本实用新型的保 护范围内。
权利要求1.一种新型重离子微孔防伪膜，包括基膜层，其特征在于，所述基膜层一面涂覆有抗辐 射胶层，另一面涂覆有聚丙烯层。
2.根据权利要求1所述的一种新型重离子微孔防伪膜，其特征在于，所述抗辐射胶层 上设置有镂空图案。
专利摘要本实用新型涉及一种防伪膜，具体是提供一种新型重离子微孔防伪膜。其结构包括基膜层，所述基膜层一面涂覆有抗辐射胶层，另一面涂覆有聚丙烯层。与现有技术相比，具有设计合理、结构简单、制作成本低、防伪效果好的特点。
文档编号B32B27/08GK201904036SQ201020547568
公开日2011年7月20日 申请日期2010年9月29日 优先权日2010年9月29日
发明者傅元勇, 刘永辉, 崔清臣 申请人:中国原子能科学研究院, 中山国安火炬科技发展有限公司