硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃的制作方法
【专利摘要】本实用新型有关于一种硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层设置于玻璃基片的表面，且镀膜层从底层向上依次包括：氮化硅膜层、镍铬膜层、银膜层、镍铬膜层、氧化锡膜层、氮化硅膜层。本实用新型的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃可见光透过率为50％，具有生产成本低、耐磨性能好、耐高温、不褪色、玻璃面反射色中性的优点。
【专利说明】
硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种镀膜玻璃，特别是涉及一种含有用氮化硅薄膜作为附着层的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃。
【背景技术】
[0002]低辐射镀膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉积一层金属银作为功能层，对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用，从而降低玻璃对红外线的吸收和辐射率，所以称之为低辐射镀膜玻璃。此种玻璃既可用于家庭窗户，也可用于商店、写字楼和高档宾馆的玻璃幕墙及其它需要的场所。夏天它可以有效阻止太阳光中的近红外线进入室内，避免室内温度升高，节约空调费用；冬天它可阻止室内暖气等产生的远红外线逸出室外，保持室内温度，节约取暖费用。
[0003]现在市场上已经有很多低辐射镀膜玻璃，有单银低辐射镀膜玻璃，也有双银和三银低辐射镀膜玻璃。所用的薄膜材料除功能层用金属银之外，附着层材料有采用氧化锡、氧化钛、氧化锌等。氮化硅材料结构与玻璃材料结构相近，其薄膜更易于和玻璃结合，其薄膜光学折射率高，玻璃面反射颜色选择性好、靶材成本低廉。用氮化硅作为附着层材料是行业发展趋势。
[0004]有鉴于上述现有的低辐射镀膜玻璃存在的问题，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型结构的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃，能够解决现有的低辐射镀膜玻璃存在的问题，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本实用新型。
【发明内容】
[0005]本实用新型的目的是在提供一种以氮化硅薄膜作为附着层的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其可见光透过率为50%，具有生产成本低、耐磨性能好、耐高温的特点。
[0006]本实用新型的目的是采用以下的技术方案来实现的。本实用新型提出一种硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层设置于玻璃基片表面，且镀膜层从底层向上依次包括:氮化硅膜层、镍铬膜层、银膜层、镍铬膜层、氧化锡膜层、氮化硅膜层。
[0007]本实用新型的目的还可以采用以下的技术措施来进一步实现。
[0008]较佳的，前述的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其中所述的氮化硅膜层的厚度为20?40纳米；所述的镍铬膜层的厚度为3?6纳米；所述的银膜层的厚度为8?12纳米；所述的氧化锡膜层的厚度为20?40纳米。
[0009]本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案，本实用新型硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃至少具有下列优点及有益效果:本实用新型的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃可见光透过率为50%，具有生产成本低、耐磨性能好、耐高温、不褪色、玻璃面反射色中性的优点。
[0010]上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
【专利附图】
【附图说明】
[0011]图1是本实用新型的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃的结构示意图。
[0012]【主要元件符号说明】
[0013]1:玻璃基片2:镀膜层
[0014]21:氮化硅膜层22:镍铬膜层
[0015]23:银膜层24:镍铬膜层
[0016]25:氧化锡膜层26:氮化硅膜层
【具体实施方式】
[0017]为更进一步阐述本实用新型为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本实用新型提出的一种硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃其【具体实施方式】、结构、特征及其功效，详细说明如后。
[0018]请参阅图1，为本实用新型的结构示意图，本实用新型的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃包括:玻璃基板I和镀膜层2，镀膜层2设置于玻璃基片I的表面，且镀膜层2从底层向上依次包括:氮化硅膜层21、镍铬膜层22、银膜层23、镍铬膜层24、氧化锡膜层25、氮化硅膜层26，从而构成六层膜结构的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃。
[0019]本实用新型是在高真空环境下，用磁控溅射镀膜机在浮法玻璃表面上镀制六层纳米材料膜的方法，生产一种具有低辐射率、高透光性、包含有一个银层的硅基低辐射镀膜玻
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[0020]本实用新型的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃是在工厂镀膜机上按如下方法完成:首先镀膜室抽真空至本底真空度5 X KT4Pa以下，充入工艺气体(氩气、氮气、氧气)，使镀膜室内工艺气体压力稳定在2.5X10 _ 1Pa左右，接通溅射电源，靶材开始溅射，玻璃经清洗机清洗合格后进入真空室，经过靶材时，靶材原子或其化合物就会沉积到玻璃基片I的表面。第一个祀祀材为娃，工艺气体为氮气，将氮化娃膜层21沉积到玻璃基片I的表面成为第一层膜，厚度20至40纳米；第二个靶靶材为镍铬合金，工艺气体为氩气，将镍铬膜层22沉积到氮化硅膜层21表面成为第二层膜，厚度3至6纳米；第三个靶靶材为金属银，工艺气体为氩气，将银膜层23沉积到镍铬膜层22的表面成为第三层膜，厚度8至12纳米；第四个靶靶材为镍铬合金，工艺气体为氩气，将镍铬膜层24沉积到银膜层23表面成为第四层膜，厚度3至6纳米；第五个靶靶材为金属锡，工艺气体为氩气，将氧化锡膜层25沉积到镍铬膜层24表面成为第五层膜，厚度20至40纳米；第六个靶靶材为氮化硅，工艺气体为氩气，将氮化硅膜层26沉积到氧化锡膜层25的表面成为第六层膜，厚度20至40纳米。
[0021]第一层氮化硅膜层21会增加膜与玻璃基片I的结合力，起到减反射、调节玻璃面反射色的作用，第三层银膜层23主要起降低玻璃辐射率的作用，第二层镍铬膜层22和第四层镍铬膜层24起到钢化过程中保护银膜层23的作用，第五层氧化锡膜层25和第六层氮化硅膜层26起到保护银膜层23不被大气氧化的作用。
[0022]以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
【权利要求】
1.一种硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片(I)和镀膜层(2)，镀膜层(2)设置于玻璃基片(I)的表面，且镀膜层(2)从底层向上依次包括:氮化硅膜层(21)、镍铬膜层(22)、银膜层(23)、镍铬膜层(24)、氧化锡膜层(25)、氮化硅膜层(26)。
2.根据权利要求1所述的硅基单银可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的氮化硅膜层(21)的厚度为20?40纳米；所述的镍铬膜层(22)的厚度为3?6纳米；所述的银膜层(23)的厚度为8?12纳米；所述的镍铬膜层(24)的厚度为3?6纳米；所述的氧化锡膜层(25)的厚度为20?40纳米；所述的氮化硅膜层(26)的厚度为20?40纳米。
【文档编号】B32B17/06GK204109466SQ201420537530
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2014年9月18日 优先权日:2014年9月18日
【发明者】孟怡敏, 白留森, 耿学文, 谢培才 申请人:洛阳新晶润工程玻璃有限公司