专利名称：：具有优良耐溶剂性的多层可成像元件的制作方法
技术领域：
：本发明涉及平版印刷。具体地讲，本发明涉及用作平版印刷版前驱体的具有优良耐溶剂性的多层可成像元件，和由其提供平版印刷版的方法。
背景技术：
：在常规或"湿"平版印刷中，在亲水表面上产生吸油墨区域(也称为图像区域)。在表面用水湿润并施加油墨时，亲水区域保留水而排斥油墨，吸油墨区域则接受油墨而排斥水。油墨转印到要在上面复制图像的材料的表面上。一般油墨首先转印到中间橡皮布上，橡皮布再将油墨转印到要在上面复制图像的材料的表面上。可用作平版印刷版前驱体的可成像元件一般包括在基片的亲水表面上施加的可成像层。可成像层包含一种或多种可在适合粘合剂中分散的辐射敏感性组分。或者，辐射敏感性组分也可以为粘合剂物质。成像后，可成像层的曝光区域或非曝光区域由适合的显影剂除去，露出基片的下面亲水表面。如果曝光的区域除去，则前驱体为阳图制版。相反，如果非曝光区域除去，则前驱体为阴图制版。在各情况下，保留的可成像层的区域(即图像区域)为吸墨性，并且由显影方法露出的亲水表面的区域接受水和水溶液(一般为润版液)，并排斥油墨。可成像元件用紫外线和/或可见辐射常规成像通过具有透明和不透明区域的蒙版进行。成像发生在蒙版透明区域下的区域，而不发生在不透明区域下的区域。然而，排除需要通过蒙版成像的直接数字成像在印刷业正变得愈加重要。也已开发利用红外激光的制备平版印刷版用的可成像元件。可热成像的多层元件公开于例如Shimazu的美国专利6,294,311、美国专利6,352,812和美国专利6,593,055、Patel的美国专利6,352,811、Savariar-Hauck的美国专利6,358,669和美国专利6,528,228以及Kitson的美国专利申请公布2004/0067432。在使用时，平版印刷版与润版液接触。另外，印刷版通常经过侵蚀性橡皮布洗涤液，如"UV洗涤液"，以除去可紫外固化的油墨。然而，这些系统很多有有限的对润版液和/或侵蚀性橡皮布洗涤液的耐性。因此，需要用作平版印刷版前驱体的对这些溶剂具有耐性的阳图制版、多层可热成像元件。在热成像后，使经成像的阳图制版可成像元件显影，以除去所有层的曝光区域，从而露出亲水基片。在此步骤期间，由于除去的聚合物粘合剂(特别是来自顶层的聚合物粘合剂)的溶解度不足，可能在显影剂中积累相当的残余物。除了降低显影剂的使用寿命外，淤渣或残余物积累还导致一些维护问题。因此，需要可成像元件能够显影提供平版印刷版，而不由于在不同元件层中(特别在顶层)所用聚合物粘合剂的不溶解性在显影剂中显著积累相当量的残余物或淤渣。发明概述本发明提供一种阳图制版可成像元件，可成像元件包括光热转化物质、基片、在基片上的可由碱性显影剂除去的底层和在底层上的吸油墨顶层，其中在热成像前，顶层可比底层慢得多的溶于碱性显影剂，在热成像以在元件中形成曝光区域和非曝光区域后，曝光区域比非曝光区域可更容易由碱性显影剂除去，并且顶层包含聚合物质，所述聚合物质包含含酐的重复单元，所述聚合物质以基于顶涂层干燥重量至少60%重量的量存在。本发明还提供一种形成平版印刷版的方法，所述方法包括(A)使本发明的阳图制版可成像元件以图像方式曝光，以形成曝光区域和非曝光区域，(B)使成像的可成像元件与碱性显影剂接触，以选择性除去曝光区域。因此，本发明还提供一种由所述方法得到的平版印刷版。可成像元件和由其制备的成像元件对平版印刷版制备和使用中所用的化学品和溶剂显示极佳的耐性。另外，本发明的可成^^元件在外层中包含易溶于处理所用显影剂的聚合物粘合剂。因此，在显影剂中积累最少的残余物或淤渣。通过在可成像元件的顶层中使用包含酐的聚合物粘合剂，可取得这些优点。意外的是，使用这种聚合物粘合剂不仅具有在显影剂中的极佳溶解性，而且提供在元件非曝光区域中的优良吸墨性和显影剂耐性，从而产生优良的图像复制。发明详述除非本文另外指明，在说明书和权利要求书中，术语聚合物质、共聚物、添加的聚合物、取代的苯乙烯、取代的马来酸酐、含羧酸单体、马来酸酐聚合物、光热转化物质、表面活性剂和类似术语也包括此类物质的混合物。因此，除非另外指明，修饰词"一"(a)、"一，，(an)和"所述"(the)不限于单数意义。除非另外指明，所有的百分率均为重量百分率，所有温度均为百分度(摄氏度)。热成像是指利用热体(如热头)或红外辐射成像。可成像元件本发明为一种可成像元件，所述元件包括基片(以下限定)、底层和顶层。元件也包括在不同位置中的光热转化物质，如以下更详细描述。顶层在热成像前，顶层比底层慢得多的溶于碱性显影剂。"慢得多"是指在碱性显影剂中溶解顶层需要的时间为在碱性显影剂中溶解底层所需时间的至少5倍(优选至少IO倍)。在热成像后，元件中的曝光区域(包括顶层)比非曝光区域可更容易由碱性显影剂除去。底层也可由碱性显影剂除去。顶层包含基于全部顶层干燥重量至少60%重量的聚合物质。优选聚合物质以基于全部顶涂层干燥层至少75%重量存在，更优选至少90%重量，最优选至少95%重量。此聚合物质包括含酐的重复单元，如以下更详细描述。优选含酐基的聚合物粘合剂为在顶层中用作粘合剂的聚合物质的唯一类型，但可以此方式使用此类型聚合物质的混合物。顶层也可包含为可成像元件常规成分的其他成分，如光热转化物质、染料或着色剂和表面活性剂。可存在表面活性剂(如氟化的表面活性剂或聚乙氧基化二甲基聚硅氧烷共聚物)或表面活性剂的混合物，以帮助分散涂料溶剂中的其他成分和/或用作涂料助剂。可存在染料或着色剂，以帮助视觉检查成像或显影的元件。在处理期间，印出的染料使曝光区域与非曝光区域区分开。对比染料则使经显影可成像元件(例如得到的平版印刷版)中的非曝光区域与曝光区域区分开。顶层一^L基本由聚合物质和任选的一种或多种光热转化物质、一种或多种染料或着色剂和一种或多种表面活性剂组成。当顶层中不存在光热转化物质时，顶层一般基本由聚合物质和任选的一种或多种染料或着色剂或一种或多种表面活性剂或一种或多种着色剂和一种或多种表面活性剂组成。聚合物质顶层包含聚合物质，这种聚合物质为具有包含酐基的重复基团的聚合物。"酐"指取代的和未取代的酐基。酐基为聚合物的疏水主链的部分。虽然聚合物质可以为均聚物，但一般为由一种或多种含酐单体和一种或多种苯乙烯或苯乙烯衍生物衍生的共聚物。因此，可用这两种类型的单体的混合物制备聚合物质。具有酐基的聚合物一般具有至少1,000的重均分子量，一般约1,500至约8,000。包含酐基的重复单元一般占聚合物链中全部重复单元的至少15%摩尔，优选约40至约60%摩尔。在苯乙烯或取代的苯乙烯(衍生物)或其混合物也用于制备聚合物时，自苯乙烯或苯乙烯衍生物的重复单元一般占聚合物链中全部重复单元的至少15%摩尔，并且最多85%摩尔。也可存在另外的单体的重复单元，以提供小于20。/。摩尔重复单元，如丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯单体，如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯和曱基丙烯酸丁酯；丙烯腈；甲基丙烯腈；甲基丙烯酰胺，如甲基丙烯酰胺和N,N-二甲基甲基丙烯酰胺；及丙烯酰胺，如丙烯酰胺和N,N-二甲基丙烯酰胺。优选这些另外的重复单元不存在，而共聚物基本由具有肝基的重复单元和衍生自苯乙烯或取代的苯乙烯的重复单元组成。也可用式CHRK:R乂C6H4l^)限定苯乙烯或苯乙烯衍生物，其中R和RM虫立为氢或具有1至6个碳原子的取代或未取代烷基。优选R和R1独立为氢或取代或未取代的甲基(如曱基和氯甲基)。取代基R2可以在单体中乙烯基(CH^CH-)的邻、间或对位。R2可以为氢、卤素、羟基、氰基、氨磺酰、具有1至6个碳原子的取代或未取代烷基、具有1至6个碳原子的取代或未取代烷氡基、具有1至7个碳原子的取代或未取代酰基、具有1至7个碳原子的取代或未取代酰基氧基或具有1至7个碳原子的取代或未取代烷氧羰基(carboalkoxy)。卤素包括氟(F)、氯(Cl)和溴(Br)。氨磺酰基的实例为-S02NH2。1至6个碳原子的烷基包括但不限于甲基、氯曱基、甲氧基甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、异己基、1,1-二甲基-丁基、2,2-二甲基-丁基、环丙基、环丁基、环戊基、曱基环戊基和环己基。l至6个碳原子的烷氧基为-0113基团，其中R为如上所列的1至6个碳原子的取代或未取代烷基。实例包括但不限于曱氧基、乙氡基、正丙氧。1至7个碳原子的酰基为-C(O)R3基团，其中W为如上所列的1至6个碳原子的取代或未取代烷基。实例包括但不限于CH3CO-(乙酰基)、CH3CH2CO-、CH3(CH2)2CO-、CH3(CH2)3CO-、(CH3)3CCO)3CCH2CO-。1至7个碳原子的酰基氧基为-OC(0)R基团，其中W为如上所列的1至6个碳原子的取代或未取代烷基。实例包括但不限于H3CC(0)0-(乙酰氧基)、CH3CH2C(0)0-、CH3(CH2)2C(0)0-、CH3(CH2)3C(0)0-、(CH3)3CC(0)0-和(CH3)3CCH2C(0)0-。1至7个碳原子的烷氧羰基为-(:02113基团，其中W为如上所列的1至6个碳原子的烷基。实例包括但不限于-C02CH3(甲氧羰基)、-(302012013(乙氧羰基)、-C02(CH2)2CH3、-C02(CH2)3CH3、-C02C(CH3)3(叔丁氧羰基)、-C02CH2C(CH3)3、-C02(CH2)4CH3和-C02(CH2)5CH3。优选R2为氢或取代或未取代的甲基。由所提到式表示的最优选的单体为苯乙烯，但在以下实施例中说明其他有用的苯乙烯衍生物，如4-甲基苯乙烯、a-甲基苯乙烯和p-甲基苯乙烯。虽然R2在所提到的式中显示为苯基上的单一取代基，但可设想最多4个相同或不同的W基团结合到单体中的苯基。因此，可存在相同或不同的R"基团的混合物。制备聚合物含酐基的聚合物可通过自由基聚合来制备。在一般制备中使一种或多种单体聚合产生聚合物。自由基聚合为本领域的技术人员所熟悉，并描述于例如Macromolecules(大分子)，第2版，第2巻，第20章和第21章，H.G.Elias,Plenum,NewYork,1984。可用的自由基引发剂为过氧化物，如过氧化苯甲酰；氢过氧化物，如枯基过氧化氢；和偶氮化合物，如2,2'-偶氮双(异丁腈)(AIBN)。可用链转移剂控制化合物的分子量，如十二烷硫醇。自由基聚合所用的适合溶剂包括对反应物为惰性并且不另外不利影响反应的液体，例如水；S旨，如乙酸乙酯和乙酸丁酯；酮，如甲基乙基酮、甲基异丁基酮、曱基丙基酮和丙酮；醇，如甲醇、乙醇、异丙醇、正丙醇、1-曱氧基乙醇(MethylCELLOSOLVE)、正丁醇；醚，如二氧杂环己烷和四氢呋喃；酰胺，如N,N-二曱基甲酰胺和N，N-二曱基乙酰胺及其混合物。添加的聚合物也可在顶层中存在一种或多种其他添加聚合物。存在时，添加的聚合物基于顶层干燥总重量占顶层约0.1%重量至约20%重量，优选约1%重量至约20%重量。添加的聚合物一般为酚醛树脂，如酚醛清漆树脂、可熔可溶酚醛树脂或聚乙烯基苯酚。存在时，优选的添加聚合物为酚醛清漆树脂。酚醛清漆树脂可以购得，并且为本领域的技术人员所熟悉。它们一般通过在酸催化剂存在下酚(如苯酚、间甲酚、邻甲酚、对甲酚等)与醛(如甲醛、低聚曱酪、乙搭等)或酮(如丙酮)的缩合反应制备。重均分子量一般为约1,000至15,000。一般酚醛清漆树脂包括例如苯酚-甲醛树脂、甲酚-甲醛树脂、苯酚-甲酚-甲醛树脂、对叔丁基苯酚-甲醛树脂和连苯三酚-丙酮树脂。可特别使用具有至少IO，OOO重均分子量的溶剂可溶性酚醛清漆树脂、包含至少10%摩尔对曱酚和至少8,000重均分子量的溶剂可溶性间甲酚/对甲酚酚醛清漆树脂及其混合物。底层底层在顶层和基片之间。它处于基片上，一般直接处于基片上。底层包含可由显影剂除去，并且优选可溶于显影剂的聚合物质。另外，聚合物质优选不溶于涂覆顶层使用的溶剂，使得顶层可涂于底层上而不使底层溶解。也可在底层中存在其他成分、另外的聚合物、光热转化物质和表面活性剂。可用的聚合物质包括羧基官能丙烯酸类、乙酸乙烯酯/巴豆酸酯/新癸酸乙烯酯共聚物酚醛树脂、马来酸化木松香及其组合。同时提供对润版液和侵蚀性洗涤液耐性的底层公开于Shimazu的美国专利6,294,311，所述专利通过引用结合到本文中。特别有用的聚合物质为聚乙烯醇缩乙醛和包含N-取代马来酰亚胺(尤其是N-苯基马来酰亚胺)、甲基丙烯酰胺类(尤其是甲基丙烯酰胺)和丙烯酸和/或甲基丙烯酸(尤其是甲基丙烯酸)的共聚物。此类型的优选聚合物质为N-苯基马来酰亚胺、曱基丙烯酰胺和曱基丙烯酸的共聚物，更优选为包含约25至约75%摩尔(优选约35至约60%摩尔)N-苯基马来酰亚胺、约10至约50%摩尔(优选约15至约40%摩尔)曱基丙婦酰胺和约5至约30%摩尔(优选约10至约30%摩尔)甲基丙烯酸的共聚物。可用其他亲水单体(如曱基丙烯酸轻乙S旨)代替一些或全部甲基丙烯酰胺。可用其他碱可溶单体(如丙烯酸)代替一些或全部甲基丙烯氧杂环戊烷(15:42.5:42.5%重量)混合物。然而，它们不良溶于诸如丙酮和甲苯的溶剂，此溶剂可作为溶剂涂覆顶层于底层上而不使底层溶解。也可使用美国专利6,893,783(Kitson等人)和7,049,045(Kitson等人)公开的可烘烤底层，所述专利均通过引用结合到本文中。底层也可包含一种或多种其他聚合物质，其条件为加入这些聚合物质不会不利影响底层的化学耐性和溶解性。存在时，优选的其他聚合物质为酚醛清漆树脂，可加入这些聚合物质，以通过显影后烘烤过程改善印刷构件的运转周期(mnlength)。光热转化物质要用红外辐射成像的可成像元件一般包含红外吸收剂，也被称为光热转化物质。光热转化物质吸收辐射，并将辐射转化成热量。光热转化物质可存在于底层和/或顶层和底层之间的单独吸收剂层。虽然光热转化物质不为热体成像所必需，但也可用热体使包含光热转化物质的可成像元件成像，热体如热头或热头列。优选光热转化物质在底层中，更优选只在底层中。光热转化物质可以为任何能够吸收辐射并将辐射转化成热量的物质。适合的物质包括染料和颜料。一般颜料包括例如炭黑、HeliogenGreen、NigrosineBase、氧化铁(III)、氧化锰、普鲁士蓝和巴黎蓝。颜料颗粒的大小应不大于包含颜料的层的厚度。颗粒的大小优选为层厚度的一半或更小。光热转化物质可以为具有适合吸收光谱和溶解度的染料。优选使用染料，尤其是具有700nm至1200nm高消光系数的染料。适合染料的实例包括以下种类的染料次甲基、多次甲基、芳基次甲基、菁、半菁(hemicyanine)、链菁(streptocyanine)、方酸(squarylium)、p比喃锁、氧镨醇、萘醌、蒽醌、卟啉、偶氮、克酮酸(croconium)、三芳基胺、噻唑输、p引味输、嗯唑贫1、吲哚菁、吲哚三碳菁(indotricarbocyanine)、氧杂三碳菁(oxatricarbocyanine)、敗菁、遂斧(thiocyanine)、辟u杂三碳菁(thiatricarbocyanine)、4分菁、隐菁、萘秋菁(naphthalocyanine)、聚苯胺、聚口比咯、聚遙吩、chalcogenopyryloarylidene和bis(chalcogenopyrylo)polymethine、羟口引漆、p比唑啉偶氮和螺"秦类。吸收染料公开于很多公布中，例如Nagasaka的EP0,823,327、DeBoer的美国专利4,973,572、Jandrue的美国专利5,244,771、Patel的美国专利5，208,135和Chapman的美国专利5,401,618中。有用的吸收染料的其他实例包括ADS-830A和ADS-1064(AmericanDyeSource,Montreal,Canada)、EC2117(FEW,Wolfen，Germany),CyasorbIR99和CyasorbIR165(GlendaleProtectiveTechnology)、EpoliteIV-62B和EpoliteIH-178(Epolme)、SpectraIR830A和SpectraIR840A(SpectraColors)及IR染料A、B和C，其结构如下所示<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>IR染料A<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>水溶性光热转化物质包括例如具有一个或多个硫酸根和/或石黄酸根的菁染料。包含二至四个磺酸根的其他红外吸收菁阴离子公开于例如West的美国专利5,107,063、Pearce的美国专利5,972,838、Chapman的美国专利6,187,502、Fabncius的美国专利5,330,884和日本未审查专利公开案63-033477中。制备具有多磺酸根阴离子的菁染料公开于例如美国专利申请公布2005/0113546(Tao等人)，其公开内容通过引用结合到本文中。制备N-烷基硫酸菁化合物公开于例如美国专利7,018,775(Tao)，其公开内容通过引用结合到本文中。元件中存在的光热转化的量一般足以在成像波长提供至少0.05的光密度，优选约0.5到至少约2至3的光密度。本领域的技术人员熟知，在具体波长产生具体光密度所需化合物的量可用比尔定律确定。虽然存在的量取决于所选择的化合物，但当光热转化物质只存在于底层时，一般占底层约0.2%重量至约8%重量，更一般约0.5%重量至约4%重量。其他层光热转化物质可存在于单独的吸收剂层中。当存在吸收剂层时，吸收剂层在顶层和底层之间。吸收剂层优选基本由光热转化物质和任选的表面活性剂组成。如果存在于单独的吸收剂层中，则可使用较少光热转化物质。吸收剂层优选具有足以吸收至少90%(优选至少99%)成像辐射的厚度。一般吸收剂层具有约0.02g/n^至约2g/n^的涂层重量，优选约0.05g/m2至约1.5g/m2。包括吸收剂层的元件公开于Shimazu的美国专利6,593,055，其公开内容通过引用结合到本文中。为了使制造和储存可成像元件期间光热转化物质从底层迁移到顶层最少，元件可在底层和顶层之间包括阻挡层。阻挡层包含可溶于显影剂的聚合物质。如果此聚合物质不同于底层中的聚合物质，则优选可溶于其中底层中聚合物质不溶的至少一种有机溶剂。阻挡层所用的优选聚合物质为聚乙烯醇。当阻挡层中的聚合物质不同于底层中的聚合物质时，则阻挡层应小于底层厚度的约五分之一，优选小于底层厚度的十分之一。包括阻挡层的可成像元件公开于Patel的美国专利6,723,490,其公开内容通过引用结合到本文中。基片基片包括载体，可以为常用于制备用作平版印刷版的可成像元件的任何材料。载体优选强、稳定并且柔韧。它应在使用条件下抵制尺寸变化，以便颜色记录定位于彩色图像中。载体一般可以为任何自支承材料，包括例如聚合物薄膜(如聚对苯二甲酸乙二酯薄膜)、陶瓷、金属或硬纸或任何这些材料的层压材料。金属载体包括铝、锌、钛及其合金。一般聚合物薄膜包含在一个或两个表面上的胶层，以改善对其后层的粘合力。这层或这些层的性质取决于基片和随后层的组成。胶层物质的实例为粘合促进物质，如烷氧基硅烷、氨基丙基三乙氧基硅烷、缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷和环氧官能聚合物以及在照相软片中聚酯基底上使用的普通胶层物质。在基片包括铝或铝合金片时，基片应为足够厚度，以承受印刷磨损，也应薄得足以缠绕在印刷机中滚筒的周围，一般约10(Him至约600pm。基片一般通过本领域已知的多种方法清洗、粗糙化和阳极化。一般最初用表面活性剂、有机溶剂或碱性水溶液进行脱脂处理，以从片的表面除去油脂。然后，可通过熟知的技术使表面粗糙化，如机械粗糙化(例如球磨、刷磨、砂磨(blastpolishing)和皮磨(buffpolishing))、化学粗糙化(其中表面通过选择性溶解粗糙化)或电化学粗糙化或此类化学、机械和/或电化学处理(多重磨版)的组合。腐蚀基片用热酸性(如硫酸或磷酸)溶液或碱性溶液(如氬氧化钠或与氢氧化钠混合的磷酸三钠)进行。可进行阳极氧化，以形成表面的氧化铝亲水层，一般氧化铝层重量为至少0.3g/n^。通过在电解质溶液中用载体作为阳极使电流通过，可进行阳极氧化，电解质溶液包含电解质，例如硫酸、磷酸、铬酸、硼酸、柠檬酸、草酸或其混合物。阳极氧化公开于例如Fromson的美国专利3,280,734和Chu的美国专利5,152,158。然后，经清洗、粗糙化和阳极化的载体可用碱金属硅酸盐亲水化，如含水硅酸钾、硅酸锂，或一般为硅酸钠。亲水化描述于例如Jewett的美国专利2,714,066和Fromson的美国专利3,181,461。将载体浸入石成金属硅酸盐的水溶液，或在》成金属硅酸盐的水溶液中电解。一般基片在铝载体和覆盖层之间包括中间层。通过用例如硅酸盐、糊精、六氟硅酸、磷酸盐/氟化物、聚乙烯基膦酸(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物或水溶性重氮树脂处理铝载体，可形成中间层。包含(l)膦酸基和/或磷酸基和(2)酸基和/或包含亚烷基二醇或聚亚烷基二醇侧链的基团的用作中间层物质的共聚物也公开于美国专利申请公布2006/00040l(Hayashi等人)，其公开内容通过引用结合到本文中。包含(l)酸基和/或膦酸基和(2)用三个烷氧基和/或苯氧基取代的曱硅烷基的用作中间层物质的共聚物公开于美国专利7,049，048(Hunter等人)，其公开内容通过引用结合到本文中。载体的背侧(即与顶层和底层相对的一侧)可用抗静电剂和/或滑层或糙面层涂覆，以改善可成像元件的处理和"手感"。制备可成像元件术语"溶剂"和"涂料溶剂"包括溶剂的混合物。虽然一些或所有物质可能悬浮于或分散于溶剂而不是在溶液中，但仍使用这些术语。涂料溶剂的选择取决于不同层中存在的组分的性质。通过用普通技术依次在基片的亲水表面上施加底层，在底层上施加吸收剂层或阻挡层(如果存在)，然后施加顶层，可制备可成像元件。底层可通过任何常规方法施加，如涂覆或层压。一般成分分散或溶于适合的涂料溶剂中，并且所得混合物通过常规方法涂覆，如旋涂、棒涂、凹版涂覆、模涂或辊涂。底层可例如由甲基乙基酮、1-甲氧基丙-2-醇、y-丁内酯和水的混合物、二乙基酮、水、乳酸甲酯和，丁内酯的混合物以及二乙基酮、水和乳酸甲酯的混合物施加。包括阻挡层的可成像元件的制备公开于Patel的美国专利6,723,490，其公开内容通过引用结合到本文中。包括吸收剂层的可成像元件的制备公开于Shimazu的美国专利6,593,055，其公开内容通过引用结合到本文中。当阻挡层或吸收剂层均不存在时，顶层涂于底层上。为了防止底层溶解并与顶层混合，顶层应由其中底层基本不溶的溶剂涂覆。因此，顶层所用涂料溶剂应为其中顶层的组分充分溶解以便能够形成顶层并且其中任何底层基本不溶的溶剂。一般涂覆底层所用溶剂比涂覆顶层所用溶剂更为极性。顶层可例如由二乙基酮和/或甲基异丁基酮、或二乙基酮和/或甲基异丁基酮与乙酸l-甲氧基-2-丙酯的混合物施加。也可用中间干燥步骤防止层的混合，即，在其上面涂覆顶层之前将底层干燥，以除去涂料溶剂。或者，通过常规挤出涂覆方法，由层组分的熔体混合物施加底层、顶层或这两层。一般此熔体混合物不含挥发性有机溶剂。成像和处理可成像元件可利用在可成像元件吸收的波长区域发射调制近红外或红外辐射的激光或激光列热成像。成像一般使用红外辐射，尤其是约700nm至约1200nrn范围的红外辐射。成像很方便用在约830nm、约1056nm或约1064nm发射的激光进行。适合的市售成像装置包括图文^己录才几,^t口CREOTrendsetter(EastmanKodakCompany，Burnaby，BritishColumbia,Canada)、ScreenPlateRite4300型、8600型和8800型(Screen,RollingMeadows,Chicago,Illinois,USA)禾口GerberCrescent42T(GerberSystems,SouthWindsor,CT，USA)。或者，可用热体使可热成像元件热成像，如包含热印刷头的常用装置。适合的装置包括至少一个热头，但通常包括热头列，如在热敏传真机和升华印刷机，GS618-400热绘图机(OyoInstruments,Houston,TX,USA)或VP-3500型热敏印刷机(SeikoshaAmerica,Mahwah，NJ，USA)中使用的TDKModelNo.LV5416。成像产生成像的元件，成像的元件包括成像(曝光)区域和互补非成像(非曝光)区域的潜像。通过除去成像区域并露出下面基片的亲水表面，成像的元件显影形成印刷版或印版使潜像转化成图像。显影剂可以为任何能够穿透并除去顶层的曝光区域、下面的吸收剂层或阻挡层(如果存在)区域和下面的底层区域而不实质影响互补非曝光区域的任何液体或溶液。显影进行足够长时间，以除去显影剂中顶层的曝光区域、下面的吸收剂层或阻挡层(如果存在)区域和下面的底层区域，但不能长得除去顶层的非曝光区域。因此，将曝光区域描述为在显影剂中"可溶"或"可除去"，因为它们在显影剂中比非曝光区域更快除去、溶解和/或分散。一般底层溶于显影剂，吸收剂层溶于或分散于显影剂，而顶层分散于显影剂。可用的显影剂为pH约7或更高的水溶液。显影剂的一般组分为表面活性剂、螯合剂(如乙二胺四乙酸的盐)、有机溶剂(如节醇和苯氧基乙醇)和碱性组分(如无机硅酸盐、有机硅酸盐、氬氧化物或碳酸氬盐)。一般含水碱性显影剂为pH约8至约13.5的那些显影剂，一般至少约11，优选至少约12。显影剂可包含表面活性剂或表面活性剂的混合物。优选的表面活性剂包括烷基萘磺酸的碱金属盐、一般具有6至9个碳原子的脂族醇的硫酸单酯的碱金属盐和一般具有6至9个碳原子的碱金属磺酸盐。优选的碱金属为钠。表面活性剂或表面活性剂的混合物一般占显影剂重量约0.5%重量至约15%重量，优选约3%重量至约8%重量。本领域的技术人员熟知，很多表面活性剂作为表面活性剂水溶液提供。这些百分率基于显影剂中表面活性剂的量(即，表面活性剂溶液中排除水和其他惰性物质的活性成分的量)。显影剂可包含緩沖系统，以保持pH相对恒定，一般约5.0至约12.0,优选约6.0至约11.0，更优选约8.0至约10.0。很多緩冲系统为本领域的技术人员所熟悉。一般緩冲系统包括例如水溶性胺(如单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺或三异丙基胺)与磺酸(如笨璜酸或4-甲^酸)的组合；乙二胺四乙酸(EDTA)的四钠盐和EDTA的混合物；磷酸盐的混合物，如磷酸单碱金属盐与磷酸三碱金属盐的混合物；及硼酸碱金属盐和硼酸的混合物。水一般为显影剂的其余部分。一些显影剂包含一种或多种有机溶剂。此类显影剂包含有机溶剂或有机溶剂的混合物。显影剂为单一相。因此，有机溶剂必须与水溶混，或至少在其加入显影剂的程度可溶于显影剂，以免发生相分离。显影剂适合使用以下溶剂或这些溶剂的混合物苯酚与氧化乙烯和氧化丙烯的反应产物，如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇)；千醇；乙二醇与具有6个或更少碳原子的酸的酯和丙二醇与具有6个或更少碳原子的酸的酯；和乙二醇与具有6个或更少碳原子的烷基的醚、二乙二醇与具有6个或更少碳原子的烷基的醚和丙二醇与具有6个或更少碳原子的烷基的醚，如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。可使用单一有机溶剂或有机溶剂的混合物。有机溶剂一般以显影剂重量约0.5%重量至约15%重量浓度存在于显影剂中，优选约3。/。重量至约5%重量。此类含有机溶剂的显影剂一般具有约6.5至约11的pH,优选约6.5至约8.5。有用的市售溶剂基显影剂包括ND-1显影剂、956显影剂和955显影剂(EastmanKodakCompany)。也可使用由1份ND-1显影剂和3-5份水组成的显影剂。另一种有用的溶剂基显影剂以下标识为显影剂A，为726.39份水、6.64份单乙醇胺、34.44份二乙醇胺、177.17份PELEXB-L(烷基萘磺酸钠阴离子表面活性剂，KaoCorp.,Chuo-ku，Tokyo,Japan)和55.36份千醇的混合物。其他有用的显影剂为含水碱性显影剂，如3000显影剂和9000显影剂(EastmanKodakCompany)。一般通过用足够力对元件喷雾将显影剂施加到前驱体上，以除去曝光的区域。或者，可在装配有浸没型显影浴、用水清洗的部分、涂胶部分、干燥部分和电导率测量装置的处理器中进行显影，或者可用显影剂涂刷成像的前驱体。在各情况下产生印刷版。显影可方便地在市售喷涂处理器(如85NS(KodakPolychromeGraphics))或市售浸没型处理器(如PK910MarkII处理器(KodakPolychromeGraphics))中进行。显影后，印刷版用水清洗并干燥。可很方便地用红外辐射器或用热空气进行干燥。干燥后，用涂胶液处理印刷版。涂胶液包含一种或多种水溶性聚合物，例如纤维素、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸、聚甲基丙烯酰胺、聚乙烯基甲基醚、聚甲基丙烯酸羟乙酯、明胶和多糖如葡聚糖、普鲁兰、阿拉伯树胶和藻酸。优选的物质为阿拉伯树胶。也可烘烤经过显影和涂胶的版，以增加版的运转周期。可例如在约220。C至约24(TC烘烤约7分钟至10分钟，或者在120。C温度烘烤30分钟。工业应用本发明的可成像元件对印刷中遇到的印刷车间化学品和溶剂具有优良的耐性。可使它们热成像并显影，以形成平版印刷版。一旦可成像元件经成像并显影形成平版印刷版，就可随后通过将润版液和平印油墨施加到其表面上的图像来进行印刷。可由成像和显影过程露出的亲水基片的表面接纳润版液，而未由显影过程除去的层的区域接纳油墨。然后使油墨直接或用胶版印刷橡皮布间接转印到适合的接收材料上(如布、纸、金属、玻璃或塑料)，以在其上提供所需的图像印刷。可参考以下实施例观察本发明的有利特性，这些实施例说明但不限制本发明。实施例语汇解释<table>tableseeoriginaldocumentpage20</column></row><table>显影剂A2包含6重量份水和1重量份以下组分:<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>合成聚合物H:聚合物H为如下制备的N-苯基马来酰亚胺/甲基丙烯酰胺/甲基丙烯酸共聚物将55.37gN-苯基马来酰亚胺、24.35g甲基丙烯酰胺、20.28g甲基丙烯酸、132g1，3-二氧杂环戊烷和100g乙醇加到装配有温度计、冷凝器、搅拌器和氮气入口管的四颈反应器。在氮气气氛下将反应混合物加热到约60°C，并搅拌1小时。加入O.lgAIBN,并使聚合进行20小时。在用5滴盐酸酸化的2升水中沉淀聚合物，然后过滤。然后在1000ml乙醇/水(80/20)中洗涤聚合物，并在放入烘箱并于5(TC千燥至恒重之前再次过滤。合成聚合物5:用加热套、搅拌器、温度计、冷凝器和氮气气氛装配500ml反应容器。将马来酸酐(15.07g)、4-乙酰氧基苯乙烯(24.93g)和％g无水二氧杂环戊烷的混合物加入到容器中，并在氮气气氛下加热到60°C。使氮气打泡通过混合物1小时。然后从混合物移去氮气入口管，并加入l.OlgAIBN。将反应混合物在60。C氮气下加热8小时。使反应混合物冷却到室温，并通过将反应混合物倒入2升乙醚/己烷(50/50体积)分离所得共聚物。将共聚物滤出，用乙醚/己烷洗涤数次，并在50。C干燥48小时。产量37g聚合物5。合成聚合物6:如下合成由50%摩尔苯乙烯和50%摩尔2,3-二甲基马来酸酐衍生的聚合物6(1.72g，4%收率)。1.用冷凝器、氮源、温度计、搅拌器和加热套装配四颈圆底烧瓶(1000ml)。2.将所有反应物放入反应容器2,3-二甲基马来酸酐(21.91g)、1,3-二氧杂环戊烷(452.09g)。3.制备苯乙烯混合物溶液用41.91g1,3-二氧杂环戊烷稀释18.09g苯乙烯。在时间0将3克此溶液加入到反应容器。4.通过将氮气打泡器连接到入口将氮源提供到反应溶液。将氮气出口(冷凝器顶部)连接到Drechel瓶，并保持正氮压。使温度升高到60-65。C。5.将1.70克1%AIBN(在二氧杂环戊烷中)溶液加入到反应混合物。每小时重复此步骤一次。6.将1.5克从步骤#3制备的苯乙烯混合物溶液加入到反应混合物。每半小时(onehalfhour)重复此步骤一次，直到反应完成。7.在氮气下将反应混合物搅拌20小时，同时保持恒定60-65。C。8.通过蒸馏从聚合物溶液脱去过量溶剂(约300g)。9.通过沉淀分离聚合物。在搅拌下将聚合物溶液緩慢加入到甲醇，以生成沉淀，将沉淀过滤，用甲醇洗涤，并再次过滤。10.在40。C干燥两天。合成聚合物7:如下合成由50%摩尔苯乙烯和50。/。摩尔柠康酸酐衍生的聚合物7(7.97g，20%收率)。1.用冷凝器、氮源、温度计、搅拌器和加热套装配四颈圓底烧瓶(1000ml)。2.将所有反应物放入反应容器柠康酸酐(20.73g)、1,3-二氧杂环戊烷(453.27g)。3.制备苯乙烯混合物溶液用40.73g1,3-二氧杂环戊烷稀释19.27g苯乙烯。在时间0将3克此溶液加入反应容器。4.通过将氮气打泡器连接到入口将氮源提供到反应溶液。将氮气出口(冷凝器顶部)连接到Drechel瓶，并保持正氮压。使温度升高到60-65°C。5.将1.70克1%AIBN(在二氧杂环戊烷中)溶液加入到反应混合物。每小时重复此步骤一次。6.将1.5克从步骤#3制备的苯乙烯混合物溶液加入到反应混合物。每半小时(onehalfhour)重复此步骤一次，直至完成。7.在氮气下将反应混合物搅拌20小时，同时保持恒定60-65。C。8.通过蒸馏从聚合物溶液脱去过量溶剂(约300g)。9.通过沉淀分离聚合物。在搅拌下将聚合物溶液緩慢加入到曱醇，以生成沉淀，将沉淀过滤，用甲醇洗涤，并再次过滤。10.在4(TC干燥两天。合成聚合物8:如下合成由45%摩尔苯乙烯、5%摩尔4-甲基苯乙烯和50%摩尔马来酸酐衍生的聚合物8(34.68g，87%收率)。1.用冷凝器、氮源、温度计、搅拌器和加热套装配四颈圓底烧瓶(簡0ml)。2.将所有反应物放入反应容器马来酸酐(19.26g)和1,3-二氧杂环戊烷(454.6g)。3.制备苯乙烯混合物溶液用39.40g1,3-二氧杂环戊烷稀释18.41g苯乙烯和2.32g4-甲基苯乙烯。在时间0将3克此溶液加入反应容器。4.通过将氮气打泡器连接到入口将氮源提供到反应溶液。将氮气出口(冷凝器顶部)连接到Drechel瓶，并保持正氮压。使温度升高到60-65。C。5.将1.70克1%AIBN(在二氧杂环戊烷中)溶液加入到反应混合物。每小时重复此步骤一次。6.将1.5克从步骤#3制备的苯乙烯混合物溶液加入到反应混合物。每半小时(onehalfhour)重复此步骤一次，直至完成。7.在氮气下将反应混合物搅拌20小时，同时保持恒定60-65。C。8.通过蒸馏从聚合物溶液脱去过量溶剂(约300g)。9.通过沉淀分离聚合物。在搅拌下将聚合物溶液緩慢加入到乙醚，以生成沉淀，将沉淀过滤，用乙醚洗涤，并再次过滤。10.在40。C干燥两天。合成聚合物9:如下合成由45%摩尔苯乙烯、5%摩尔a-甲基苯乙烯和50%摩尔马来酸酐衍生的聚合物9(38.47g，96%收率)。1.用冷凝器、氮源、温度计、搅拌器和加热套装配四颈圓底烧瓶(1000ml)。2.将所有反应物放入反应容器马来酸酐(19.26g)和1,3-二氧杂环戊烷(454.6g)。3.制备苯乙烯混合物溶液用39.40g1,3-二氧杂环戊烷稀释18.41g苯乙烯和2.32ga-甲基苯乙烯。在时间0将3克此溶液加入反应容器。4.通过将氮气打泡器连接到入口将氮源提供到反应溶液。将氮气出口(冷凝器顶部)连接到Drechel瓶，并保持正氮压。使温度升高到60-65。C。5.将1.70克1%AIBN(在二氧杂环戊烷中)溶液加入到反应混合物。每小时重复此步骤一次。6.将1.5克从步骤#3制备的苯乙烯混合物溶液加入到反应混合物。每半小时(onehalfhour)重复此步骤一次，直至完成。7.在氮气下将反应混合物搅拌20小时，同时保持恒定60-65。C。248.通过蒸馏从聚合物溶液脱去过量溶剂(约300g)。9.通过沉淀分离聚合物。在搅拌下将聚合物溶液緩慢加入到乙醚，以生成沉淀，将沉淀过滤，用乙醚洗涤，并再次过滤。10.在40。C干燥两天。合成聚合物10:如下合成由45%摩尔苯乙烯、5%摩尔P-甲基苯乙烯和50%摩尔马来酸酐衍生的聚合物10(31.43g，79%收率)。1.用冷凝器、氮源、温度计、搅拌器和加热套装配四颈圆底烧瓶(1000ml)。2.将所有反应物放入反应容器马来酸酐(19.26g)和1，3-二氧杂环戊烷(454.6g)。3.制备苯乙烯混合物溶液用39.40g1,3-二氧杂环戊烷稀释18.41g苯乙烯和2.32gP-甲基苯乙烯。在时间0将3克此溶液加入反应容器。4.通过将氮气打泡器连接到入口将氮源提供到反应溶液。将氮气出口(冷凝器顶部)连接到Drechel瓶，并保持正氮压。使温度升高到60-65。C。5.将1.70克1%AIBN(在二氧杂环戊烷中)溶液加入到反应混合物。每小时重复此步骤一次。6.将1.5克从步骤弁3制备的苯乙烯混合物溶液加入到反应混合物。每半小时(onehalfhour)重复此步骤一次，直至完成。7.在氮气下将反应混合物搅拌20小时，同时保持恒定60-65°C。8.通过蒸馏从聚合物溶液脱去过量溶剂(约300g)。9.通过沉淀分离聚合物。在搅拌下将聚合物溶液緩慢加入到乙醚，以生成沉淀，将沉淀过滤，用乙醚洗涤，并再次过滤。10.在40。C干燥两天。合成聚合物11:如下合成由40%摩尔苯乙烯、10%摩尔a-甲基苯乙烯和50%摩尔马来酸酐衍生的聚合物11(38.47g，96%收率)。1.用冷凝器、氮源、温度计、搅拌器和加热套装配四颈圆底烧瓶(1000ml)。2.将所有反应物放入反应容器马来酸酐(19.13g)和1,3-二氧杂环戊烷(454.6g)。3.制备苯乙烯混合物溶液用39.40g1,3-二氧杂环戊烷稀释16.26g苯乙烯和4.61ga-甲基苯乙烯。在时间0将3克此溶液加入反应容器。4.通过将氮气打泡器连接到入口将氮源提供到反应溶液。将氮气出口(冷凝器顶部)连接到Drechel瓶，并保持正氮压。使温度升高到60-65°C。5.将1.70克1%AIBN(在二氧杂环戊烷中)溶液加入到反应混合物。每小时重复此步骤一次。6.将1.5克从步骤#3制备的苯乙烯混合物溶液加入到反应混合物。每半小时(onehalfhour)重复此步骤一次，直至完成。7.在氮气下将反应混合物搅拌20小时，同时保持恒定60-65。C。8.通过蒸馏从聚合物溶液脱去过量溶剂(约300g)。9.通过沉淀分离聚合物。在搅拌下将聚合物溶液緩慢加入到乙醚，以生成沉淀，将沉淀过滤，用乙醚洗涤，并再次过滤。10.在40。C千燥两天。合成聚合物12:如下合成由66.67。/。摩尔苯乙烯和33.33。/。摩尔马来酸酐衍生的聚合物12(29.86g，75%收率)。1.用冷凝器、氮源、温度计、搅拌器和加热套装配四颈圓底烧瓶(1000ml)。262.将所有反应物放入反应容器苯乙烯(5.15g)、马来酸酐(12.80g)和1,3-二氧杂环戊烷(456.05g)。3.制备苯乙烯混合物溶液用37.95g1,3-二氧杂环戊烷稀释22.05g苯乙烯。在时间0将3克此溶液加入反应容器。4.通过将氮气打泡器连接到入口将氮源提供到反应溶液。将氮气出口(冷凝器顶部)连接到Drechel瓶，并保持正氮压。使温度升高到60-65。C。5.将3.4g1%AIBN(在二氧杂环戊烷中)溶液加入到反应混合物。每小时重复此步骤一次。6.将1.5克从步骤#3制备的苯乙烯混合物溶液加入到反应混合物。每半小时(onehalfhour)重复此步骤一次，直至完成。7.在氮气下将反应混合物搅拌20小时，同时保持恒定60-65。C。8.通过蒸馏从聚合物溶液脱去过量溶剂(约300g)。9.通过沉淀分离聚合物。在搅拌下将聚合物溶液緩慢加入到乙醚，以生成沉淀，将沉淀过滤，用乙醚洗涤，并再次过滤。10.在40。C千燥两天。一般步骤制备可成像元件可成像元件由以下步骤制备。底层使用0.03英寸线绕棒，将在2-丁酮/l-甲氧基-2-丙醇/y-丁内酯/水(65:15:10:10重量比)的混合物中包含6.5%重量的84.5%重量聚合物A、15%重量IR染料A和0.5%重量Byk307的混合物的涂料溶液涂在基片A上，所得元件在135。C干燥35秒。底层的涂层重量为1.5g/m2。顶层使用0.006英寸线绕棒，将在二乙基酮/l-甲絲-2-丙醇乙酸酯(92:8,体积:体积)中包含7.1%重量的99.1%重量共聚物、0.4%重量乙基紫和0.5。/。重量Byk②307的混合物的涂料溶液涂在底层上，所得可成像元件在135匸干燥35秒。顶层的涂层重量为0.7g/m2。评价方法显影剂滴试验在22。C以30秒间隔使一大滴显影剂Al置于顶层的表面上，长达5分钟。记录显影剂侵蚀的第一可见迹象的时间和完全除去顶层的时间。耐溶剂性试验在22。C以2分钟间隔使一大滴BC(2-丁^乙醇，80%体积，在水中)或DAA(双丙酮醇，80%体积，在水中)置于顶层的表面上，最长16分钟。观察发生顶层损伤所处的时间。评价除去顶层的量(1=未除去；10=完全除去)。成像和处理试验使用绘点(plot)O和绘点12内部试验;漢型，在CREOTrendsetter3244上以8瓦使可成像元件热成像。成像能量为136、115、100、88和79mJ/cm2。使用显影剂A和12秒浸入时间，使所得成像的可成像元件在30°CPK910II处理器(EastmanKodakCompany)中显影。评价得到的平版印刷版的清除能力(成像区域被显影剂完全除去的最低成像能量)和最佳分辨率(印刷版工作最佳的成像能量)。烘烤试验将2xlO英寸可成像元件片放在230。CMathisLabdryer烘箱中8分钟，风扇速度为1000rpm。将正像清除器PE3S(KodakPolychromeGraphics,JapanLtd)以30秒间隔施加到可成像元件，最长5分钟。立即清洗可成像元件，并记录图像清除器除去层的时间。实施例1-4和比较实施例1制备包含苯乙烯/马来酸酐共聚物的可成像元件，并如上所述评价。比较实施例l(Cl)为SWORDExcd，热敏阳图制版多层印刷版前驱体。结果显示于表1和表2中。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table>实施例5将自实施例2的可成像元件在40°〇和80%相对湿度的湿度箱放置1、3、7和10天。如上所述评价老化的可成像元件和未老化的可成像元件，不同之处在于在成像和处理试验中使用126、119、112、105、100、95、90、86、82和79mJ/cm2的成像能量。结果在表4中给出。<table>tableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table>实施例6和7如一般步骤所述评价在顶层中使用苯乙烯/马来酸酐聚合物2和聚合物5制备的可成像元件，不同之处在于在显影剂滴试验中使用956显影剂。结果在表5中给出。为了完全处理成像的可成像元件，实施例7需要更强机械搅拌。这通过在处理器中增加绒辊压力来完成。表5<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>包含聚合物5的顶层能够抵抗清除多达3分钟。这表明在涂层发生某种程度交联。交联的涂层提供在印刷机上较佳的运转周期。实施例8通过在基片A上涂覆两个有机层制备可成像元件。第一涂层(底层)用0.012英寸线绕棒施加到基片A上。涂料作为甲基乙基酮/l-甲氧基-2-丙醇/丁内酯/水(50:30:10:10重量比)混合物的7.0%溶液施加，以产生1.5g/n^干燥涂层重量。将其在125。C温度干燥35秒。第一涂层具有以下配方<table>tableseeoriginaldocumentpage31</column></row><table>第二有机涂层(顶层)用0.006英寸线绕棒施加到底层的顶部上。涂料作为二乙基酮/1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯(92:8重量/重量)混合物的6.0%溶液施加，以产生0.6g/n^干燥涂层重量。将其在125。C温度干燥35秒。第二涂层包含100重量份RX-04。试验使可成像元件经过以下试验。i)显影剂滴试验，只有底层的样品将"显影剂A2"的滴置于在上面只涂覆底层的样品上。以2秒间隔施加滴，最长20秒，然后立即用水清洗。记录显影剂完全除去底层所需的时间。ii)显影剂滴试验，涂有顶层的样品将"显影剂A2"的滴置于可成像元件的样品上。以20秒间隔施加滴，最长120秒，然后立即用水清洗。记录显影剂开始侵蚀涂层所需的时间。iii)成像和处理试验利用830nm辐射，在Creo3244Trendsetter上使可成像元件以图像方式曝光。利用162、144、129、117、108、99、92、86、81和78mJ/cm2曝光能量，以8瓦应用"绘点0"内部试验模型。使用显影剂A2,在KodakPolychromeGraphicsPK910II处理器中在3(TC使成像的元件显影，浸入时间为12秒。评价得到的印刷版的清除能力(曝光区域被显影剂完全除去的最低能量)和最佳分辨率(印刷版工作最佳的成像能量)。iv)利用包含印刷试验所用适合图像的文件，在144mJ/cmM吏成像元件样品成像。将样品如上处理，并固定在KomoriSprintII28英寸平版印刷机上。印刷1200个印张。从这四个试验观察到以下结果i)显影剂需要10秒溶于底层。ii)在顶层未看到来自显影剂的侵蚀，甚至在2分钟后。iii)成像元件在PK910II处理器中处理快速并且容易。清除能量为92mJ/cm2，最佳分辨率在144mJ/cm2曝光产生，在此能量曝光产生高分辨率的极佳图像。iv)成像元件具有极佳的印刷适性。它印刷出高分辨率的图像，并且在小于5张中滚压达到全墨密度。实施例9-1132对于这些实施例的每个实施例，将底层制剂用0.012英寸线绕棒施加到基片A上，以产生约1.5g/n^干燥薄膜重量。制剂作为曱基乙基酮/l-甲tt-2-丙醇/丁内酯/水(50:30:10:10重量比)混合物的7.0%溶液施加，并在约135。C干燥35秒。制剂包含以下组分<table>tableseeoriginaldocumentpage33</column></row><table>通过将组分(重量份)溶于二乙基酮/l-甲氧基-2-丙醇乙酸酯(92:8重量/重量)的混合物，制备以下顶层制剂，并以6.0。/ow/w浓度使用。<table>tableseeoriginaldocumentpage33</column></row><table>将顶层制剂用0.006英寸线绕棒施加到经千燥的底层上，并在约135"干燥35秒。干燥涂层重量为约0.6g/m2。用以下试验评价所得可成像元件[比较实施例2(C2)和实施例9-11]。i).显影剂滴试验在22。C以20秒间隔使一大滴显影剂A2置于各可成像元件上，最长5分钟。记录显影剂侵蚀的第一可见迹象和完全除去顶层所需的时间。ii).成像和处理试验利用808nm辐射，在ScreenPTR4300印版记录机上使可成像元件曝光。用比较实施例2内部试验模型以1000rpm滚筒速度绘出能量系列。利用5%增量，以50%至90%能量曝光总共9个绘点模型。然后使用显影剂A2,在KodakPolychromeGraphicsPK910II处理器中在3(TC使曝光的元件显影，浸入时间为12秒。评价得到的印刷版的清除能力(曝光区域被显影剂完全除去的最低能量)和最佳分辨率(印刷版工作最佳的成像能量)。所有可成像元件产生快速且容易通过PK910II处理器显影的高分辨率图像。<table>tableseeoriginaldocumentpage34</column></row><table>虽然已具体关于某些优选的实施方案详细描述了本发明，但应了解，可在本发明的精神和范围内进行变化和修改。权利要求1.一种阳图制版可成像元件，所述可成像元件包括光热转化物质、基片、在基片上的可由碱性显影剂除去的底层和在底层上的吸油墨顶层，其中在热成像前，顶层可比底层慢得多的溶于碱性显影剂，在热成像以在元件中形成曝光区域和非曝光区域后，曝光区域比非曝光区域可更容易由碱性显影剂除去，并且顶层包含聚合物质，所述聚合物质包含含酐的重复单元，所述聚合物质以基于顶涂层干燥重量至少60％重量的量存在。2.权利要求1的元件，其中所述顶层聚合物质以基于顶层干燥重量至少75%重量的量存在。3.权利要求1或2的元件，其中所迷顶层聚合物质以基于顶层干燥重量至少90。/。重量的量存在，并且作为唯一的聚合物粘合剂存在于顶层中。4.权利要求1至3中任一项的元件，其中所述顶层聚合物质包含由马来酸酐或取代的马来酸酐和苯乙烯或苯乙烯衍生物衍生的重复单元。5.权利要求1至4中任一项的元件，其中所述顶层聚合物质为马来酸酐或取代的马来酸酐与一种或多种式CHR-CR乂C6H4R"的单体的共聚物或其混合物，其中R和Ri独立为氢或具有1至6个碳原子的烷基，W为氢、卤素、羟基、氰基、氨磺酰、l至6个碳原子的烷基、1至6个碳原子的烷氧基、1至7个碳原子的酰基、1至7个碳原子的酰基氧基、1至7个碳原子的烷氧羰基。6.权利要求1至5中任一项的元件，其中所迷顶层聚合物质包含基于全部重复单元约40至约60%摩尔衍生自马来酸酐的重复单元，其余重复单元衍生自苯乙烯或甲基苯乙烯，并且所述顶层聚合物质以基于顶层千燥重量至少95%重量的量存在。7.权利要求1至6中任一项的元件，其中所述底层包含光热转化物质，并且顶层基本不含光热转化物质。8.—种形成平版印刷版的方法，所述方法包括(A)使权利要求1至7中任一项的阳图制版可成像元件以图像方式曝光，以形成曝光区域和非曝光区域，(B)使成像的可成像元件与碱性显影剂接触，以选择性除去曝光区域。9.权利要求8的方法，其中所述显影剂为pH小于11的包含节醇、2-苯氧基乙醇或其组合的含有机溶剂的显影剂。10.—种平版印刷版，所述平版印刷版通过权利要求8或9的方法获得。全文摘要本发明公开用作平版印刷版前驱体的多层可热成像元件。可成像元件包括基片、在基片上的底层和在底层上的顶层。顶层包含含酐基的聚合物。此聚合物以基于层的干燥重量至少60％的量存在于顶层中。可成像元件具有优良的抗印刷车间化学品性。文档编号B41M5/36GK101547791SQ200680056504公开日2009年9月30日申请日期2006年11月28日优先权日2006年11月28日发明者A·P·基特森,J·黄,K·B·雷申请人:伊斯曼柯达公司