陶瓷制品上花纸图案呈现三维变化的生产工艺的制作方法

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陶瓷制品上花纸图案呈现三维变化的生产工艺的制作方法与工艺

本发明涉及一种陶瓷制品花纸生产工艺,特别是一种陶瓷制品上花纸图案呈现三维变化的生产工艺。



背景技术:

现有的陶瓷制品上花纸图案能够呈现三维变化的生产工艺,目前存在的缺陷是:底图中的金水材料容易断裂,隐藏图案容易脱落,隐藏图案不会有反光度或反光度的效果差等等。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种附着力强的陶瓷制品上花纸图案呈现三维变化的生产工艺。

本发明采用如下技术方案:

一种陶瓷制品上花纸图案呈现三维变化的生产工艺,按如下步骤进行:

、对底图和隐藏图案进行设计,隐藏图案是由底图变化而来,应当韵律一致,但图形不同;

、先印刷隐藏图案,印刷时温度控制在20~25摄氏度,湿度控制在60~70%,

、隐藏图案印刷完后,晾干12小时后,再印刷底图;底图印刷时温度控制在20~25摄氏度,湿度控制在60~70%,底图要完全与隐藏图案重合印刷,印刷后晾干12小时以上;

、将前述印刷好的图案放置于瓷器上进行烤制,烤制到隐藏图案浮雕部分能够发光,烤制温度在780摄氏度至800摄氏度之间,烤制时间在120分钟至150分钟之间。

采用上述技术方案的本发明与现有技术相比,具有附着力强、隐藏图案的亮度与底图的亮度接近一致的特点。

本发明采用如下优选方案:

隐藏图案的印刷材料采用一次性浮雕粉和二次性浮雕粉按7:3的体积比混合后,再用一次浮雕油调配,浮雕混合粉和一次性浮雕油调配比例按100:62的质量比混合,调配好后,用研磨机研磨至三遍以上。

隐藏图案高度在0.2~0.4mm之间。

印刷底图采用一次性浮雕金膏,印刷温度20摄氏度。

底图案中含有金水材料。

韵律一致是指图形方向、起浮和偏移变化是一致的。

底图是一种回纹,根据这个图案的规律,分析适合出现何种图形作为隐藏图型,如:方形和菱形交替的隐藏图形,通过设计筛减,在底图的基础上留出通过一定距离才能呈现的隐藏图案。

附图说明

图1是本发明实施例中近观的示意照片(彩色照片)。

图2是本发明实施例中远观的示意照片(彩色照片)。

图3是图1的灰度照片。

图4是图1的灰度照片。

具体实施方式

下面结合及实施例详述本发明:

第一步:先进行图案设计

图案设计要先设计第一种特殊图案“底图”,也就是近距离的实际容易看到的图案,这种图案的前提是要变化细腻,富有规律。然后再设计第二种图案“隐藏图案”,也就是需要距离才能出现的图案。这种图案要附和在第一种图案之中,节奏要一样(隐藏图案是由底图变化而来,应当韵律一致,但图形不能一样),不能影响到第一种图案的清晰纹路,也不能近距离能看到隐藏图案。

韵律一致是指图形方向、起浮和偏移变化等是一致的。

以图1和图2照片效果为例:

底图是一种回纹,根据这个图案的规律,分析适合出现哪种图形作为隐藏图型,比如想要一种方形和菱形交替的隐藏图形,通过设计筛减,在底图的基础上留出通过一定距离才能呈现的隐藏图案,如图1所示。

蓝色部分是底图,黄色是隐藏图案,但这时候看不出最终效果,因为隐藏图案是浮雕,印刷完成后会有反光呈现,离开一定距离就会视觉混合形成方形和菱形交替的图案,如图2所示。

第二步:花纸印刷

印刷时要先印隐藏图案,印刷时温度控制在20~25摄氏度,湿度控制在60~70%。这种隐藏图案的印刷材料要用一次性浮雕粉(日本浪速株式会社产,材料编号x-651-1)和两次性浮雕粉(德国贺利氏产,材料编号60904)按7:3混合均匀,再用一次性浮雕油(日本浪速株式会社产,材料编号y-607)调配,浮雕混合粉和一次性浮雕油调配比例以100:62的比率混合,调配好后要用三辊研磨机研磨三遍,方可使用。用这种材料主要是保证隐藏图案必须是突起的,而且高度不易过高,0.2毫米到0.4毫米之间最佳,浮雕太高影响底图效果,印刷完隐藏图案后,晾干12小时,再印刷底图也就是近距离易见图案,这种图案要用一次性浮雕金膏印刷(金膏为德国贺利氏产,材料编号100215),印刷时温度控制在20-25摄氏度,湿度控制在60-70%,要完全盖住隐藏图案。印刷完成后晾干12小时。

第三步:烤制

贴到瓷器上后要进行烤制,隐藏图案的烧制温度关键,必须要烤制到隐藏图案的浮雕部分亮度能反光为佳,烤制温度要控制在780度至800度之间,烤制时间必须在120分钟至150分钟之间,温度和时间的控制主要是让底图材料和隐藏图案浮雕材料与瓷器之间附着力增强,让隐藏图案的浮雕材料融解的更好,保证隐藏图案的亮度和底图的亮度接近一致。否则温度过低或时间过短隐藏图案容易脱落且不会有反光度,温度过高或时间过长,底图金水材料将出现断裂。至此,一种带有三维视觉效果的平面陶瓷花纸图案才得以完美呈现。

本发明不限于以上实施例所列举,可以根据实际需要制作设计其他图案,只要符合以上步骤,均视为本发明的保护范围之内。

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