专利名称：触控面板及其制造方法
技术领域：
本发明是有关于一种触控面板及其制造方法。
通常，触控面板(Touch Panel)会结合液晶显示器(Liquid CrystalDisplay)或阴极射线管(Cathode Ray Tube)显示器，做为使用者输入界面，意即使用者可藉由触控面板获致移动游标(cursor)、点选图像(icon)等操作。请参照
图1～3，所示为习知四线式类比电阻触控面板(4-wire analog resistive touch panel)，此触控面板10包括一透明基板11和一绝缘片(PolyEster sheet，或简称为PET片)12。此透明基板11可以是由无碱玻璃(non-alkali glass)所构成，绝缘片12可以是由聚酯物(polyester)所构成。
请参照图1，所示为透明基板11的平面图。图示中，氧化铟锡(ITO)层110覆于透明基板11表面，业经光学微影术(photolithography)和蚀刻程序(etching)，定义氧化铟锡层110图案，露出基板周边区111。一对电极112和114形成于氧化铟锡层110上，位于氧化铟锡层110的相对两侧。一对导线116和118形成于基板周边区111内，分别用以电性连接电极112和114，同延伸至透明基板11的一侧。
请参照图2，所示为绝缘片12的平面图。图示中，氧化铟锡层120覆于绝缘片12表面，业经光学微影术和蚀刻程序，定义氧化铟锡层120图案，露出绝缘片周边区121。一对电极122和124形成于氧化铟锡层120上，位于氧化铟锡层120的相对两侧。一对导线126和128形成于绝缘片周边区121内，分别用以电性连接电极112和114，同延伸至绝缘片12的一侧。
请参照图3，所示为透明基板11与绝缘片12接合的剖面图。图示中，透明基板11以氧化铟锡层110相对于绝缘片12上氧化铟锡层120，并设置有若干间隔物(spacer)13介于其间，以确保氧化铟锡层110和120间呈一固定间距D，避免短路现象发生。
然而，根据习知触控面板10制程，定义氧化铟锡层110和120图案时，均以厚膜制程网印绝缘胶或光学微影术结合蚀刻程序为之。由于光学微影术程序通常包含涂布光阻剂、烘烤、显影、定影、冲洗、蚀刻、水洗、去除光阻剂、烘干等步骤，会耗费相当多的处理时间。再者，绝缘片12为一薄片，往往经过光学微影术一连串的处理步骤之后，易于劣化氧化铟锡层120，导致产品良率降低，且制程所用材料有环保污染之虞。
因此，本发明之一目的，在于提供一种触控面板及其制造方法，是利用沟槽将透明导电层区分为触控区和周边区，使触控区和周边区间呈电性绝缘，故可避免光学微影术制程繁复和优良品率低的问题与环保污染的顾虑。
本发明的另一目的，在于提供一种触控面板及其制造方法，是利用激光处理形成沟槽，将透明导电层区分为触控区和周边区，并使触控区和周边区间呈电性绝缘，而以简化的制程改善光学微影术制程繁复、优良品率低、以及环保污染等问题。
为获致上述目的，本发明提供一种触控面板，其特征在于包括一透明基板，该透明基板上形成有一第一透明导电层，该第一透明导电层经由第一沟槽区分为一第一触控区与一第一周边区，使得该第一触控区与该第一周边区互为电性绝缘；第一对电极，分别形成于该第一触控区内相对两侧边处；第一对导线，形成于该第一周边区内，分别与该第一对电极相连；一绝缘片，该绝缘片上形成有一第二透明导电层，该第二透明导电层经由第二沟槽区分为一第二触控区与一第二周边区，使得该第二触控区与该第二周边区互为电性绝缘；
第二对电极，分别形成于该第二触控区内相对两侧边处；第二对导线，形成于该第二周边区内，分别与该第二对电极相连；以及一绝缘间隔物，设置于该绝缘片与该透明基板之间，使该绝缘片与该透明基板结合时该第一透明导电层与该第二透明导电层间呈一固定间距。
所述的触控面板，其特征在于该透明基板是一玻璃基板，该绝缘片是一聚酯片。
所述的触控面板，其特征在于该第一透明导电层和该第二透明导电层是由氧化铟锡所构成。
本发明还提供一种触控面板，其特征在于包括一透明基板，该透明基板上形成有一第一透明导电层；一绝缘片，该绝缘片上形成有一第二透明导电层，该第二透明导电层经由一沟槽区分为一触控区与一周边区，使得该触控区与该周边区互为电性绝缘；以及一绝缘间隔物，设置于该绝缘片与该透明基板之间，使该绝缘片与该透明基板结合时该第一透明导电层与该第二透明导电层间呈一固定间距。
所述的触控面板，其特征在于包括一对电极，分别形成于该触控区内相对两侧边处；一对导线，形成于该周边区内，分别与该对电极相连。
所述的触控面板，其特征在于该透明基板是一玻璃基板，该绝缘片是一聚酯片。
所述的触控面板，其特征在于该第一透明导电层和该第二透明导电层是由氧化铟锡所构成。
本发明还提供一种触控面板制造方法，其特征在于包括下列步骤(a)提供一透明基板，该透明基板上形成有一第一透明导电层；
(b)处理该第一透明导电层，形成一第一沟槽，经由该第一沟槽将该第一透明导电层区分为互为电性绝缘的一第一触控区与一第一周边区；(c)形成第一对电极于该第一触控区内，分别位于该第一触控区相对两侧边处；(d)形成第一对导线于该第一周边区内，该第一对导线分别与该第一对电极相连；(e)提供一绝缘片，该绝缘片上形成有一第二透明导电层；(f)处理该第二透明导电层，形成一第二沟槽，经由该第二沟槽将该第二透明导电层区分为互为电性绝缘的一第二触控区与一第二周边区；(g)形成第二对电极于该第二触控区内，分别位于该第二触控区相对两侧边处；(h)形成第二对导线于该第二周边区内，该第二对导线分别与该第二对电极相连；以及(i)设置一绝缘间隔物介于该绝缘片与该透明基板之间，使该绝缘片与该透明基板结合时该第一透明导电层与该第二透明导电层间呈一固定间距。
所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(b)是利用激光处理。
所述的触控面板制造方法，其特征在于该激光处理是选自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及准分子激光处理中的一种。
所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(f)是利用激光处理。
所述的触控面板制造方法，其特征在于该激光处理是选自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及准分子激光处理中的一种。
所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(c)和(d)于同一步骤完成。
所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(g)和(h)于同一步骤完成。
所述的触控面板制造方法，其特征在于该第一对电极与该第一对导线的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一种金属。
所述的触控面板制造方法，其特征在于该第二对电极与该第二对导线的材料，是Ag、Cr、Mo、Al中的一种金属。
本发明还提供一种触控面板制造方法，其特征在于包括下列步骤(a)提供一透明基板，该透明基板上形成有一第一透明导电层；(b)提供一绝缘片，该绝缘片上形成有一第二透明导电层；(c)处理该第二透明导电层，形成一沟槽，经由该沟槽将该第二透明导电层区分为互为电性绝缘的一触控区与一周边区；以及(d)设置一绝缘间隔物介于该绝缘片与该透明基板之间，当该绝缘片与该透明基板接合时，绝缘间隔物得以确保该第一透明导电层与该第二透明导电层间呈一固定间距。
所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(c)是利用激光处理。
所述的触控面板制造方法，其特征在于该激光处理是选自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及准分子激光处理中的一种。
所述的触控面板制造方法，其特征在于尚包括形成一对电极于该触控区内，分别位于该触控区相对两侧边处；以及形成一对导线于该周边区内，该对导线分别与该对电极相连；所述的触控面板制造方法，其特征在于该对电极与该对导线于同一步骤完成。
所述的触控面板制造方法，其特征在于该对电极与该对导线的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一种金属。
本发明还提供一种触控面板制造方法，其特征在于包括下列步骤(a)提供一透明基板，该透明基板上形成有一第一透明导电层；(b)对该第一透明导电层施行激光处理，露出基板周边区；(c)形成第一对电极于该第一透明导电层相对两侧边处；(d)形成第一对导线于该基板周边区内，该第一对导线分别与该第一对电极相连；(e)提供一绝缘片，该绝缘片上形成有一第二透明导电层；(f)对该第二透明导电层施行激光处理，露出绝缘片周边区；(g)形成第二对电极于该第二透明导电层相对两侧边处；(h)形成第二对导线于该绝缘片周边区内，该第二对导线分别与该第二对电极相连；以及(i)设置一绝缘间隔物介于该绝缘片与该透明基板之间，当该绝缘片与该透明基板结合时，绝缘间隔物得以确保该第一透明导电层与该第二透明导电层间呈一固定间距。
所述的触控面板制造方法，其特征在于该激光处理是选自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及准分子激光处理中的一种。
所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(c)和(d)于同一步骤完成。
所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(g)和(h)于同一步骤完成。
所述的触控面板制造方法，其特征在于该第一对电极与该第一对导线的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一种金属。
所述的触控面板制造方法，其特征在于该第二对电极与该第二对导线的材料是Ag、Cr、Mo、Al之中的一种金属。
本发明的触控面板及其制造方法的优点是，制造程序简化、优良品率高以及防止出现环保污染的问题。
为让本发明之上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举若干较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下图示的简单说明图1是显示习知触控面板的透明基板的平面图；图2是显示习知触控面板的绝缘片的平面图；图3是显示习知触控面板的剖面图示；图4是显示根据本发明较佳实施例的透明基板的平面图；图5是显示根据本发明较佳实施例的绝缘片的平面图；图6是显示根据本发明较佳实施例的触控面板的剖面图示；以及图7～9所示为本发明的沟槽形状的若干实施例示意图。
为让本发明能更明显易懂，下文特举若干较佳实施例，并配合图4～6作详细说明。其中，图4～6所示标号若与图1～3相同者，表示相同或相对应的元件，于此先行叙明。
本发明的第一实施例，请参照图4～6，本发明的触控面板10包括一透明基板11和一绝缘片12。此透明基板11可以是由无碱玻璃(non-alkali glass)所构成，绝缘片12可以是由聚酯物(polyester)所构成。
请参照图4，所示为透明基板11的平面图。图示中，一透明导电层110覆于透明基板11表面，通常，透明导电层110是由氧化铟锡(ITO)物所构成。然后，对透明导电层110施以激光处理，去除部份透明导电层110，形成沟槽115，意即透明导电层110经区分成触控区110A和110B，藉由沟槽115互为电性绝缘。此激光处理可以是NdYAG激光、Argon激光、CO2激光或准分子激光。一对电极112和114形成于透明导电层110上，位于触控区110A的相对两侧。一对导线116和118形成于透明导电层110上、位于周边区110B内，分别用以电性连接电极112和114，并同延伸至透明基板11的一侧。电极112和114、导线116和118可于单一制程步骤同时形成，此一步骤可是物理气相沉积法(PVD)、化学气相沉积法(CVD)、或印刷法(printing)等。电极112和114、导线116和118的材料，可以是Ag、Cr、Mo、或Al等金属物质。
请参照图5，所示为绝缘片12的平面图。图示中，一透明导电层120覆于绝缘片12表面，通常，透明导电层120是由氧化铟锡(ITO)物所构成。然后，对透明导电层120施以激光处理，去除部份透明导电层120，形成沟槽125，意即透明导电层120经区分成触控区120A和120B，藉由沟槽125互为电性绝缘。此激光处理可以是NdYAG激光、Argon激光、CO2激光或准分子激光。一对电极122和124形成于透明导电层120上，位于触控区120A的相对两侧。一对导线126和128形成于透明导电层120上、位于周边区120B内，分别用以电性连接电极122和124，并同延伸至绝缘片12的一侧。电极122和124、导线126和128可于单一制程步骤同时形成，此一步骤可是物理气相沉积法(PVD)、化学气相沉积法(CVD)、或印刷法(printing)等为之。电极122和124、导线126和128的材料，可以是Ag、Cr、Mo、或Al等金属物质。
如图4、5所示，电极112和114是分别位于触控区110A的右、左两侧，而电极122和124则分别位于触控区120A之上、下两侧。若电极112和114是分别位于触控区110A之上、下两侧，则电极122和124需分别位于触控区120A的右、左两侧。
请参照图6，所示为透明基板11与绝缘片12接合的剖面图。图示中，透明基板11以氧化铟锡层110相对于绝缘片12上氧化铟锡层120，并设置有若干间隔物(spacer)13介于其间，以确保氧化铟锡层110和120间呈一固定间距D，避免短路现象发生。
虽然，图4、5所示的沟槽115和125是为字型，却非用以限定本发明，其它诸如图7所示H型、图8所示π型、图9所示双十字型等等，亦可适用。
根据本发明，透明导电层110和120无须经过光学微影术及蚀刻处理，而是以激光处理透明导电层110成沟槽115，令触控区110A与周边区110B间呈电性绝缘，或者，以激光处理透明导电层120成沟槽125，令触控区120A与周边区120B间呈电性绝缘。因此，根据本发明的触控面板及其制造方法，可以避免光学微影术制程繁复和优良品率低的问题。
本发明的另一实施例的方法，是以激光处理定义图1所示的透明导电层110图案，露出基板周边区111；抑或以激光处理定义图2所示的透明导电层120图案，露出绝缘片周边区121。由于透明导电层110和120无须经过光学微影术及蚀刻处理，而是以激光处理代之，故可避免光学微影术制程繁复和优良品率低的问题。
权利要求
1.一种触控面板，其特征在于包括一透明基板，该透明基板上形成有一第一透明导电层，该第一透明导电层经由第一沟槽区分为一第一触控区与一第一周边区，使得该第一触控区与该第一周边区互为电性绝缘；第一对电极，分别形成于该第一触控区内相对两侧边处；第一对导线，形成于该第一周边区内，分别与该第一对电极相连；一绝缘片，该绝缘片上形成有一第二透明导电层，该第二透明导电层经由第二沟槽区分为一第二触控区与一第二周边区，使得该第二触控区与该第二周边区互为电性绝缘；第二对电极，分别形成于该第二触控区内相对两侧边处；第二对导线，形成于该第二周边区内，分别与该第二对电极相连；以及一绝缘间隔物，设置于该绝缘片与该透明基板之间，使该绝缘片与该透明基板结合时该第一透明导电层与该第二透明导电层间呈一固定间距。
2.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于该透明基板是一玻璃基板，该绝缘片是一聚酯片。
3.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于该第一透明导电层和该第二透明导电层是由氧化铟锡所构成。
4.一种触控面板，其特征在于包括一透明基板，该透明基板上形成有一第一透明导电层；一绝缘片，该绝缘片上形成有一第二透明导电层，该第二透明导电层经由一沟槽区分为一触控区与一周边区，使得该触控区与该周边区互为电性绝缘；以及一绝缘间隔物，设置于该绝缘片与该透明基板之间，使该绝缘片与该透明基板结合时该第一透明导电层与该第二透明导电层间呈一固定间距。
5.如权利要求4所述的触控面板，其特征在于包括一对电极，分别形成于该触控区内相对两侧边处；一对导线，形成于该周边区内，分别与该对电极相连。
6.如权利要求4所述的触控面板，其特征在于该透明基板是一玻璃基板，该绝缘片是一聚酯片。
7.如权利要求4所述的触控面板，其特征在于该第一透明导电层和该第二透明导电层是由氧化铟锡所构成。
8.一种触控面板制造方法，其特征在于包括下列步骤(a)提供一透明基板，该透明基板上形成有一第一透明导电层；(b)处理该第一透明导电层，形成一第一沟槽，经由该第一沟槽将该第一透明导电层区分为互为电性绝缘的一第一触控区与一第一周边区；(c)形成第一对电极于该第一触控区内，分别位于该第一触控区相对两侧边处；(d)形成第一对导线于该第一周边区内，该第一对导线分别与该第一对电极相连；(e)提供一绝缘片，该绝缘片上形成有一第二透明导电层；(f)处理该第二透明导电层，形成一第二沟槽，经由该第二沟槽将该第二透明导电层区分为互为电性绝缘的一第二触控区与一第二周边区；(g)形成第二对电极于该第二触控区内，分别位于该第二触控区相对两侧边处；(h)形成第二对导线于该第二周边区内，该第二对导线分别与该第二对电极相连；以及(i)设置一绝缘间隔物介于该绝缘片与该透明基板之间，使该绝缘片与该透明基板结合时该第一透明导电层与该第二透明导电层间呈一固定间距。
9.如权利要求8所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(b)是利用激光处理。
10.如权利要求9所述的触控面板制造方法，其特征在于该激光处理是选自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及准分子激光处理中的一种。
11.如权利要求8所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(f)是利用激光处理。
12.如权利要求11所述的触控面板制造方法，其特征在于该激光处理是选自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及准分子激光处理中的一种。
13.如权利要求8所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(c)和(d)于同一步骤完成。
14.如权利要求8所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(g)和(h)于同一步骤完成。
15.如权利要求8所述的触控面板制造方法，其特征在于该第一对电极与该第一对导线的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一种金属。
16.如权利要求8所述的触控面板制造方法，其特征在于该第二对电极与该第二对导线的材料，是Ag、Cr、Mo、Al中的一种金属。
17.一种触控面板制造方法，其特征在于包括下列步骤(a)提供一透明基板，该透明基板上形成有一第一透明导电层；(b)提供一绝缘片，该绝缘片上形成有一第二透明导电层；(c)处理该第二透明导电层，形成一沟槽，经由该沟槽将该第二透明导电层区分为互为电性绝缘的一触控区与一周边区；以及(d)设置一绝缘间隔物介于该绝缘片与该透明基板之间，当该绝缘片与该透明基板接合时，绝缘间隔物得以确保该第一透明导电层与该第二透明导电层间呈一固定间距。
18.如权利要求17所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(c)是利用激光处理。
19.如权利要求18所述的触控面板制造方法，其特征在于该激光处理是选自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及准分子激光处理中的一种。
20.如权利要求17所述的触控面板制造方法，其特征在于尚包括形成一对电极于该触控区内，分别位于该触控区相对两侧边处；以及形成一对导线于该周边区内，该对导线分别与该对电极相连；
21.如权利要求20所述的触控面板制造方法，其特征在于该对电极与该对导线于同一步骤完成。
22.如权利要求21所述的触控面板制造方法，其特征在于该对电极与该对导线的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一种金属。
23.一种触控面板制造方法，其特征在于包括下列步骤(a)提供一透明基板，该透明基板上形成有一第一透明导电层；(b)对该第一透明导电层施行激光处理，露出基板周边区；(c)形成第一对电极于该第一透明导电层相对两侧边处；(d)形成第一对导线于该基板周边区内，该第一对导线分别与该第一对电极相连；(e)提供一绝缘片，该绝缘片上形成有一第二透明导电层；(f)对该第二透明导电层施行激光处理，露出绝缘片周边区；(g)形成第二对电极于该第二透明导电层相对两侧边处；(h)形成第二对导线于该绝缘片周边区内，该第二对导线分别与该第二对电极相连；以及(i)设置一绝缘间隔物介于该绝缘片与该透明基板之间，当该绝缘片与该透明基板结合时，绝缘间隔物得以确保该第一透明导电层与该第二透明导电层间呈一固定间距。
24.如权利要求23所述的触控面板制造方法，其特征在于该激光处理是选自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及准分子激光处理中的一种。
25.如权利要求23所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(c)和(d)于同一步骤完成。
26.如权利要求23所述的触控面板制造方法，其特征在于步骤(g)和(h)于同一步骤完成。
27.如权利要求23所述的触控面板制造方法，其特征在于该第一对电极与该第一对导线的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一种金属。
28.如权利要求23所述的触控面板制造方法，其特征在于该第二对电极与该第二对导线的材料是Ag、Cr、Mo、Al之中的一种金属。
全文摘要
一种触控面板及其制造方法,该触控面板包括:一透明基板,其上形成第一透明导电层,该第一透明导电层经由第一沟槽区分为一第一触控区与一第一周边区,于该第一触控区内相对两侧边设有第一对电极;一绝缘片上形成第二透明导电层,该第二透明导电层经由第二沟槽区分为第二触控区与第二周边区,于该第二触控区内相对两侧边设有第二对电极,一绝缘间隔物设置于该绝缘片与该透明基板之间。本发明的优点是制造程序简化、优良品率高。
文档编号G09G5/12GK1336630SQ001211
公开日2002年2月20日 申请日期2000年7月27日 优先权日2000年7月27日
发明者曾国浩 申请人:曾国浩