专利名称：光掩模及视频器件的制造方法
技术领域：
本发明涉及图案转印中所用的光掩模及使用了该光掩模的视频器件的制造方法。
背景技术：
以往，在半导体器件以及摄像器件、显示器件等视频器件(videodevice视频设备)的制造工序中，有利用缩小投影曝光装置等曝光装置经由光掩模(photomask)照射曝光光，在器件基板上的感光性材料上进行图案转印的工序。作为此时所使用的光掩模，一般采用的是在矩形的玻璃等透光性基板上具有遮光性膜图案的构成。作为遮光性膜图案，有以铬为主体的图案、以钼硅化物为主体的图案等。
在上述的曝光装置中，通常是将光掩模的表面(遮光性膜图案面)朝向下进行配置，从光掩模的背面(玻璃面)照射曝光光来进行图案的转印。因此，如果光掩模表面的反射率高，则由于在被转印面和光掩模之间会因多重反射而产生杂散光，进而发生使成像图像质量低下之类的问题，故需要进行控制以使遮光性膜表面为低反射。例如，在采用以铬为主体的光掩模时，由于铬膜的反射率在曝光光(200nm～500nm)附近高达40％～50％左右，故通过在其上形成氧化铬系列的防反射膜，可以使反射率抑制在约15％左右。此外，玻璃面的反射率在8％附近。进而，为了减少光掩模和照明系统之间的多重反射，有时也用在基板侧形成了防反射膜的双面防反射型的光掩模。
此外，光掩模通常具有设置在中央部的、形成了在被转印体上进行转印的图案的转印区域和设置在其周边部的非转印区域。在周边部的非转印区域形成了例如用于通过人眼进行识别的光掩模的产品名、或者例如用于通过日本专利公开特开2000-99619号公报所记载那样的光掩模识别方法来识别光掩模的条形码等表示产品识别信息的遮光膜图案。而且，在使用这样的光掩模来实施转印图案之际，使用不使曝光光照射到非转印区域的遮断曝光光的遮帘(blind)。作为这样的遮帘，有配置在光掩模背面正上方的、在与光掩模图案同一面上结成实像的成像式遮帘。
但是，尽管在曝光装置中设置有遮帘，但由于曝光装置内的杂散光的影响，存在如上述那样的形成在光掩模周边部的非转印区域的表示产品识别信息的遮光膜图案等非器件图案(non-device pattern)，在被转印面上进行析像(解像)之类的问题。
此外，在制造摄像元件或显示装置等视频器件之际，为了转印如像素图案那样的单纯的重复图案，不需要的非器件图案的像将进行析像。其结果是，由于像素图案的图案线宽误差与该非器件图案形状的倾向相一致，而有可能在其映像(视频图像)上发生非器件图案状的光斑，故特别成为问题。
发明内容
本发明就是鉴于上述问题点而完成的，其目的在于提供一种可以防止形成于光掩模的非转印区域的非器件图案在被转印面上进行析像的光掩模。
进而，本发明的目的还在于提供一种可以防止在映像上发生光掩模的非器件图案状的光斑的视频器件的制造方法。
为了达成上述目的，本发明的技术方案具有如下那样的构成。
(构成1)光掩模的特征在于在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模中，上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，至少在与形成上述非器件图案的位置相对向的透光性基板背面，设置了用于减少从该透光性基板背面的周边部入射的曝光光的透过的减少光透过部件。
(构成2)上述构成1所记载的光掩模，其特征在于上述减少光透过部件由具有减少曝光光的透过作用的薄膜或者胶片构成。
(构成3)上述构成1所记载的光掩模，其特征在于上述减少光透过部件是通过基板面粗糙化处理形成的减少光透过部件。
(构成4)光掩模的特征在于在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模中，上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，实施有减少对于从上述透光性基板的背面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部的反射率差的部件，以使得该非器件图案不在被转印面上析像。
(构成5)上述构成4所记载的光掩模，其特征在于为了减少对于从透光性基板背面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差，而调整对于上述曝光光的上述图案部或者非图案部的遮光性膜的反射率。
(构成6)光掩模的特征在于在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模中，上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，该非器件图案其图案部以及非图案部，由对于从光掩模表面入射的曝光光图案部和非图案部的反射率不同，但对于从光掩模背面入射的曝光光则不会产生图案部和非图案部的实质性的反射率差、这样的遮光性膜的组合而形成。
(构成7)光掩模的特征在于在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模中，上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，实施有减少对于从上述光掩模表面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差的部件，以使得该非器件图案不在被转印面上进行析像。
(构成8)上述构成7所记载的光掩模，其特征在于为了减少对于从上述光掩模表面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部的反射率差，而调整对于上述曝光光的上述图案部或者非图案部的遮光性膜的反射率。
(构成9)光掩模的特征在于在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模中，上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，在上述非器件图案上或者形成有非器件图案的区域上形成有不在被转印面上实质地进行析像这样的微细图案。
(构成10)视频器件的制造方法，其特征在于具有使用构成1至构成9中任意一项所记载的光掩模来进行图案转印的工序。
这里，在本发明的遮光性膜图案中，可以使用以铬为主体的图案、以钼硅化物为主体的图案等。此外，在光掩模上，可以使用表面具有防反射膜的2层或者多层构造的膜层、或者在背面也形成有防反射膜的双面防反射型的构成。
上述透光性基板可以使用合成石英玻璃等玻璃基板。
另外，在本发明中，所谓非器件图案，包括光掩模的产品名称或产品代码，或者用于产品识别的条形码等产品识别图案以及定位标志等各种对位标志。
图1所示是涉及本发明实施例1的光掩模图，(a)为平面图，(b)为背面图，(c)为截面图；图2所示是涉及本发明实施例1的光掩模制造工序图；图3所示是涉及本发明实施例5的光掩模截面图；图4所示是涉及本发明实施例5的光掩模制造工序图；图5所示是涉及本发明实施例6的光掩模截面图；图6所示是涉及本发明实施例6的光掩模制造工序图；图7所示是涉及本发明实施例7的光掩模图，(a)为平面图，(b)为部分放大图；图8所示是曝光装置的原理构成图。
具体实施例方式
下面将说明本发明的最佳实施形态。
涉及本发明第1实施形态的光掩模的特征在于在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模中，上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，至少在与形成上述非器件图案的位置相对向的透光性基板背面设置了减少从该透光性基板背面的周边部入射的曝光光的透过的减少光透过部件。
根据上述构成，就可以减少从光掩模周边部的背面入射的曝光光。由此，从光掩模周边部的背面入射的曝光光用非器件图案面来进行反射，该反射光成为杂散光，从而就可以防止非器件图案在被转印面上进行析像。
即，例如，在使用了具有成像式遮帘的曝光装置的情况下，如图8所示的那样，由于在光掩模23和遮帘21之间存在有光学系统22，故从光掩模23的背面入射并经过反射的光就成为杂散光，再次到达光掩模。可以认为，如果该杂散光作为倾斜光也到达基板周边部而到达非器件图案，则析像了该非器件图案的光将反复进行反射并到达被转印体27的被转印面，析像在被转印面上。为此，在与光掩模背面、至少在与形成了非器件图案的位置相对的位置上设置减少光透过性部件，以遮断来自光掩模周边部的光。由此，就可以防止光到达非器件图案，故可以防止析像了非器件图案的光成为杂散光。此外，图8所示是曝光装置的原理构成图，图中，24是光掩模中的透明基板，25是光掩模中的遮光性膜图案，25是保护光掩模表面的薄膜(pellicle)。
这里，所谓减少光透过部件是指对于从通常透光性基板背面(光掩模背面)入射的曝光光，具有减少透过作用的部件，最好是与通常的情况(没有设置减少光透过部件的情况)相比通过8成(80％)以下的光。借助于该减少光透过部件，使曝光光进行吸收、反射或者散射中的某一个，或者它们2种以上的情况，所以从光掩模周边部中的背面入射的曝光光的透过就被减少。
作为上述减少光透过部件，可以列举具有使曝光光的透过减少之作用，即具有吸收、反射以及散射曝光光或者它们2种以上作用的薄膜或者胶片(包括片状材料)，或者通过激光等的照射而改变了性质(例如表面粗糙化)的基板面等。作为上述薄膜，可以列举如涂敷膜、蒸镀膜、溅射膜等，此外，作为材料，只要是具有上述作用的材料即可，例如可列举金属、金属氧化物、氮化物、碳化物、氟化物等金属化合物以及它们的混合物、石墨、有机树脂等。
在上述第1实施形态中，在一个光掩模上形成了上述非器件图案之中多种非器件图案的情况下，可以对于全部或者仅对于所选择的非器件图案设置减少光透过部件。此外，在对于某非器件图案部分地产生问题的情况下，可以对该非器件图案的一部分设置减少光透过部件。
另外，上述的第1实施形态中的产品识别图案等非器件图案当然可以从光掩模表面进行识别。
其次，涉及本发明第2实施形态的光掩模的特征在于在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模中，上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，实施有减少对于从上述光透过性基板的背面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差的部件，以使得该非器件图案不在被转印面上进行析像。
根据上述构成，即使是从光掩模的背面直接入射、或者来自被转印面的反射光从光掩模周边部的背面入射，并反射了该光，也可以减少该反射光在非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差。由此，就可以减少其到达了被转印面时析像非器件图案的可能性。
这里，所谓的上述非器件图案的图案部和非图案部，在通过遮光性膜图案的抽出图案而形成了非器件图案的情况下，将抽出图案部设为图案部，将其周边的基板部设为非图案部。另一方面，在利用遮光性膜图案的剩余图案而形成了非器件图案的情况下，则将剩余图案部设为图案部，将其周边的基板部设为非图案部。
在本第2实施形态中，通过实施减少上述非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差的部件，相对于以往的光掩模就可以减少图案部和非图案部处的反射率差。最好是相对于以往的光掩模反射率差在8成以下。所谓的以往的光掩模，包括在表面具有防反射膜的2层或者多层构造的构成、或者在背面也形成有防反射膜的双面防反射型的构成。因曝光装置的种类以及光掩模的种类不同，其对非器件图案的被转印面的析像问题的程度不同。因而，可以在依照曝光装置和光掩模的种类产生了问题的情况下采用本发明。
此外，在本第2实施形态中，也可以在一个光掩模上形成了上述非器件图案之中多种非器件图案的情况下，对于全部或者仅对于形成了所选择的非器件图案的区域实施减少反射率差的部件。此外，在相对于某非器件图案部分地产生问题的情况下，可以对该非器件图案的一部分区域实施减少反射率差的部件。
作为这样的减少反射率差的手段，作为例子可举出如下面那样的方法。
即，为了减少对于从透光性基板背面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差而调整对于曝光光的上述图案部或者非图案部的遮光性膜的反射率的方法。具体言之就是，通过在厚度方向部分地蚀刻图案部或者非图案部的遮光性膜使之具有透光性，由此设定成非图案部或者图案部的反射率接近透光性基板的反射率这样的膜厚的方法。在上述的情况下，产品识别图案等非器件图案可以从光掩模表面或者背面来进行识别。
其次，涉及本发明第3实施形态的光掩模的特征在于在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模中，上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，该非器件图案其图案部以及非图案部，由对于从光掩模表面入射的曝光光图案部和非图案部的反射率不同，但对于从光掩模背面入射的曝光光则不会产生图案部和非图案部的实质性的反射率差、这样的遮光性膜的组合而形成。
根据上述构成，即使是从光掩模的背面入射的曝光光在非器件图案面反射，由于其反射光不会产生非器件图案的图案部和非图案部的实质性的反射率差，故在到达了被转印面时没有析像非器件图案的可能性。此外，相对于从光掩模表面入射的曝光光，非器件图案的图案部和非图案部的反射率不同。但是，在光掩模的通常使用方法中，由于从光掩模背面入射的光是压倒性的，故在本实施形态中，非器件图案难以在被转印面进行析像。而相对于从光掩模表面入射的曝光光，非器件图案的图案部和非图案部的反射率差，优选的是能够从光掩模表面通过目视来识别产品识别图案等非器件图案的程度。
具体言之，本实施形态的光掩模就是在厚度方向部分地进行形成非器件图案之际的遮光膜的蚀刻。由此，与在背面如抽出图案那样曝光基板的情况相比，实质上没有图案部和非图案部的反射率差而不能作为图案识别出来，在表面则以能够通过目视来识别非器件图案的程度产生反射率差。在上述情况下，就可以从光掩模表面来识别出产品识别图案等非器件图案。
另外，涉及本发明第4实施形态的光掩模的特征在于在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模中，上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，实施有减少对于从上述光掩模表面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差的部件，以使得该非器件图案不在被转印面上进行析像。
根据上述构成，由于非器件图案的图案部和非图案部的反射率差被减少，故即使来自被转印面的反射光照射到光掩模表面的周边部并反射了该光，也可以减少该反射光到达了被转印面时析像非器件图案的可能性。
这里，与上述的第2、第3实施形态同样，所谓非器件图案的图案部和非图案部，在利用遮光性膜图案的抽出图案形成了非器件图案的情况下，以抽出图案部作为图案部，以其周边的基板部作为非图案部，在利用遮光性膜图案的剩余图案形成了非器件图案的情况下，则以剩余图案部作为图案部，以其周边的基板部作为非图案部。
在本第4实施形态中，实施减少对于从光掩模表面入射的曝光光非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差的部件。由此，较之以往的光掩模非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差就被减少。最好是相对于以往的光掩模，反射率差在8成以下。所谓的以往的光掩模，与上述实施形态的情况同样，包括表面具有防反射膜的2层或者多层构造的构成、或者在背面也形成有防反射膜的双面防反射型的构成。由于因曝光装置的种类以及光掩模的种类不同，其对非器件图案的被转印面的析像问题的程度不同。因而，可以在依照曝光装置和光掩模的种类产生了问题的情况下采用本发明。
此外，在本第4实施形态中，也可以在一个光掩模上形成了上述非器件图案之中多种非器件图案的情况下，对于全部或者仅对于形成了所选择的非器件图案的区域实施减少反射率差的部件。此外，在相对于某非器件图案部分地产生了问题时，可以对该非器件图案的一部分区域实施减少反射率差的部件。
作为本实施形态中的减少反射率差的手段，作为例子可举出如下面这样的方法。
即，为了减少对于从光掩模表面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差而调整对于曝光光的上述图案部或者非图案部的遮光性膜的反射率的方法。具体言之，就是与上述第2实施形态的情况同样，通过在厚度方向部分地蚀刻图案部或者非图案部的遮光性膜使之具有透光性，由此设定成非图案部或者图案部的反射率接近透光性基板的反射率这样的膜厚的方法。在上述的情况下，可以从光掩模表面或者背面来识别产品识别图案等非器件图案。
进而，涉及本发明第5实施形态的光掩模的特征在于在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模中，上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，在上述非器件图案上或者形成了非器件图案的区域上形成不在被转印面上实质地进行析像这样的微细图案。
根据上述构成，借助于形成在上述非器件图案上或者形成了非器件图案的区域的、不在被转印面上实质地进行析像这样的(例如，利用曝光光的析像界限以下的)微细图案，与没有形成该微细图案的以往的光掩模相比，就可以减少非器件图案的透过率或者反射率。进而，即使在非器件图案的部分所发生的反射光到达了被转印面，由于上述微细图案不在被转印面上实质地进行析像，故可以防止重叠了微细图案的非器件图案析像在被转印面上。
具体言之，在上述非器件图案的图案部是遮光性膜的抽出图案的情况下，在非器件图案、或者非器件图案及其周边部形成微细图案。此外，在上述非器件图案的图案部是遮光性膜的剩余图案的情况下，则考虑将该剩余图案蚀刻成微细图案状。
微细图案的形状可以适当地选择条带状、网格状等，其尺寸可以依照所要求的透过特性或者反射特性，在不在被转印面上实质地进行析像这样的尺寸范围内适当地进行确定。
本发明的光掩模可以优选适用于具有使用光掩模进行图案转印工序的视频器件的制造中。作为视频器件，可以具体地列举出如CCD、CMOS、VMIS等固体摄像装置等的摄像器件，或者液晶显示装置、等离子显示装置、EL显示装置、LED显示装置、DMD显示装置等的显示器件。
下面，利用实施例对本发明进一步详细地进行说明。
(实施例1)图1所示是涉及实施例1的光掩模。图1(a)是水平地朝向本实施例的光掩模时的平面图，图1(b)是从光掩模背面观看实施例1的图，图1(c)是图1(a)以及图1(b)的虚线A-A’部分的截面图。
如图1所示那样，本实施例的光掩模1具有转印区域2和其周边部的非转印区域3。在光掩模表面4中，在由合成石英玻璃等构成的透明基板6的表面的转印区域2上形成由遮光性膜图案组成的器件图案7，在透明基板6的表面的非转印区域3上具有在遮光性膜上以抽出图案形成的作为非器件图案的产品识别图案8。此外，在对应上述非转印区域3的光掩模背面5上，使用例如由MEK(甲基乙基甲酮)和微粒子的氧化锌(ZnO)组成的防反射涂料，通过喷墨印刷而形成有作为减少光透过部件的减少光透过薄膜9。
下面，一边参照图2的制造工序图一边说明本实施例的光掩模1的制造方法。
在透明基板6上形成顺次形成了铬膜、氧化铬膜的遮光性膜10，并准备在其上涂布了抗蚀剂膜11的、带抗蚀剂膜光掩模空白12(参照图2(1))。
然后，在抗蚀剂膜11上，描绘转印区域内的器件图案以及在非转印区域上描绘产品识别图案，进行显像后形成抗蚀剂图案11’，并沿该抗蚀剂图案11’蚀刻遮光性膜10(参照图2(2))。
其次，进行抗蚀剂图案的剥离、清洗，获得在透明基板6表面形成了器件图案7以及产品识别图案8的、减少光透过部件形成前的光掩模13(参照图2(3))。
接着，使用可非接触地进行印刷的喷墨打印机在光掩模背面，对应于非转印区域3的部分涂布上述防反射涂料并使之干燥(参照图2(4))。
这样形成的减少光透过薄膜9对于曝光光(波长230～370nm)的透过率小于等于5％。
通过使用本实施例的光掩模1在被转印面进行图案转印，就可以防止从光掩模背面照射的曝光光到达形成于光掩模周边部的非转印区域的非器件图案。
(实施例2)实施例2是在对应于光掩模的非转印区域的透明基板的背面，通过粘合剂粘贴形成由诸如聚酯组成的防反射薄膜作为光遮断膜。
下面说明本实施例的光掩模制造方法。
首先，与实施例1同样地获得在透明基板表面形成了器件图案以及产品识别图案的、光遮断膜形成前的光掩模。
其次，在该光掩模的背面利用粘合剂粘贴预先切除了对应于转印区域的部分的上述防反射薄膜(厚度50μm)，在透明基板背面的非转印区域上形成光遮断膜。
这样形成的光遮断膜对于曝光光(波长230～370nm)的透过率小于等于2％。
通过使用本实施例的光掩模来进行图案转印，就可以防止从光掩模背面照射的曝光光到达形成于光掩模周边部非转印区域的非器件图案。
(实施例3)实施例3是在对应于光掩模的非转印区域的透明基板的背面，通过蒸镀形成由诸如氧化铬构成的低反射膜作为光遮断膜。
下面说明本实施例的光掩模的制造方法。
首先，与实施例1同样地获得在透明基板表面形成了器件图案以及产品识别图案的、光遮断膜形成前的光掩模。
其次，在该光掩模的背面全体蒸镀氧化铬，并在其上涂布抗蚀剂膜。接着，在抗蚀剂膜上描画对应于转印区域的全区域，进行显像并形成抗蚀剂图案，沿该抗蚀剂图案蚀刻转印区域的氧化铬膜。接着，进行抗蚀剂图案的剥离、清洗，在透明基板背面的非转印区域形成光透过膜。
这样形成的光遮断膜对于曝光光(波长230～370nm)的透过率小于等于12％。
通过使用本实施例的光掩模来进行图案转印，就可以防止从光掩模背面照射的曝光光到达形成于光掩模周边部非转印区域的非器件图案。
(实施例4)实施例4是在对应于光掩模的非转印区域的透明基板的背面，作为减少光透过部件通过照射激光光来实施用于获得使光散射的作用的加工来进行形成，下面说明本实施例的光掩模制造方法。
首先，与实施例1同样地获得在透明基板表面形成了器件图案以及产品识别图案的光掩模。
其次，使用二氧化碳激光器粗糙化玻璃面，对该光掩模背面的非转印区域实施使曝光光散射的加工。
在如此形成的非转印区域的加工面，对于曝光光(波长230～370nm)的透过率小于等于30％。
通过使用本实施例的光掩模来进行图案转印，就可以防止从光掩模背面照射的曝光光到达形成于光掩模周边部非转印区域的非器件图案。
(实施例5)图3所示是涉及实施例5的光掩模的截面图。本实施例的光掩模14是通过在厚度方向部分地蚀刻光掩模周边部的非转印区域3的遮光性膜全面使之具有透过性，而设定成与基板的反射率实质上相同这样的膜厚的光掩模。
使用图4的制造工序图来说明本实施例的光掩模制造方法。
首先，获得与实施例1的减少光透过部件形成前的光掩模同样的光掩模13’(参照图4(1))。
其次，在上述光掩模13’的表面涂布抗蚀剂膜15(参照图4(2))，实施曝光以形成只覆盖转印区域2的抗蚀剂图案，进行显像并形成抗蚀剂图案15’(参照图4(3))。
接着，在使用蚀刻液在厚度方向部分地对露出的非转印区域3的遮光性膜实施了蚀刻后(参照图4(4))，进行抗蚀剂图案的剥离、清洗，获得本实施例的光掩模14。
对于从这样形成的非转印区域3的遮光性膜的背面入射的曝光光的反射率是15％，为接近于基板的8％附近的值。
此外，在本实施例中，对于从非转印区域3的遮光性膜的表面照射的曝光光的反射率也同样地是15％。
通过使用本实施例的光掩模来进行图案转印，即使从光掩模背面以及表面照射的曝光光在非器件图案上进行了反射，由于非器件图案的图案部和非图案部的反射率差被减少，所以也可以不使非器件图案在被转印面上进行析像。
(实施例6)图5所示是涉及实施例6的光掩模的截面图。本实施例的光掩模16在形成产品识别图案8之际，在厚度方向部分地蚀刻产品识别图案8的图案部。由此，与在背面如抽出图案那样曝光基板的情况相比，实质地就没有图案部和非图案部的反射率差而不能作为图案识别出来，在表面以可以通过目视来识别非器件图案的程度产生反射率差。
使用图6的制造工序图来说明本实施例的光掩模16的制造方法。
在透明基板6上形成顺次形成了铬膜、氧化铬膜的遮光性膜10，并准备在其上涂布了抗蚀剂膜17的、带抗蚀剂膜光掩模空白12(参照图6(1))。
其次，在抗蚀剂膜17上，描绘转印区域内的器件图案7，进行显像并形成抗蚀剂图案17’，沿该抗蚀剂图案17’蚀刻遮光性膜10(参照图6(2))。
接着，进行抗蚀剂图案的剥离、清洗，获得形成了器件图案7的产品识别图形成前的光掩模18(参照图6(3))。
接着，在上述光掩模18的表面涂布抗蚀剂膜19(参照图6(4))，实施曝光以形成只产品识别图案的图案部进行曝光的抗蚀剂图案，进行显像并形成抗蚀剂图案19’(参照图6(5))。
接着，使用蚀刻液在厚度方向部分地对露出的非转印区域3的上述图案部的遮光性膜实施蚀刻(例如，沿抗蚀剂图案在厚度方向部分地蚀刻膜厚1000的遮光性膜)(参照图6(5))。
最后，进行抗蚀剂图案的剥离、清洗，获得本实施例的光掩模16。
这样形成的产品识别图案8不能从光掩模的背面作为图案进行识别。
从而，通过使用本实施例的光掩模16来进行图案转印，即使从光掩模背面照射的曝光光在产品识别图案8上进行了反射也不存在被作为图案进行析像的可能性。
(实施例7)图7(a)所示是涉及实施例7的光掩模的平面图，图7(b)为被图7(a)所示的虚线B包围的区域的部分放大图。
本实施例的光掩模18是在光掩模的周边部非转印区域3的产品识别图案8上形成了利用曝光光的析像界限以下的微细图案19的光掩模。
本实施例的光掩模18通过在产品识别图案描绘之际也实施利用曝光光的析像界限以下的微细图案的描绘，由此就可以形成形成了微细图案的产品识别图案。
这样重叠微细图案地形成的产品识别图案即使是对从表面或者背面的任一面所照射的曝光光，也难以被作为图案进行析像。
从而，通过使用该本实施例的光掩模来进行图案转印，即使从光掩模背面以及表面照射的曝光光在产品识别图案上进行了反射，也能够使其不在被转印面上作为产品识别图案得以析像。
产业上的可利用性由于本发明可以防止形成于光掩模周边部的非转印区域的产品识别图案等非器件图案在被转印体上进行析像，故可以适用于能够实现高精度的图案转印的光掩模。
此外，由于本发明可以防止在视频器件的制造中所使用的形成于光掩模周边部的非转印区域的产品识别图案等非器件图案在被转印体上进行析像，其结果，就可以适用于能够防止在映像上发生非器件图案状的光斑的视频器件的制造方法。
权利要求
1.一种在透光性基板表面上形成了遮光性膜图案的光掩模，其特征在于上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，至少在与形成有上述非器件图案的位置相对向的透光性基板背面，设置了减少从该透光性基板背面的周边部入射的曝光光的透过的减少光透过部件。
2.根据权利要求1所记载的光掩模，其特征在于上述减少光透过部件由具有减少曝光光的透过作用的薄膜或者胶片构成。
3.根据权利要求1所记载的光掩模，其特征在于上述减少光透过部件是通过基板面的粗糙化处理而形成的。
4.一种在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模，其特征在于上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，实施有减少对于从上述透光性基板的背面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差的部件，以使得该非器件图案不在被转印面上进行析像。
5.根据权利要求4所记载的光掩模，其特征在于为了减少对于从上述透光性基板背面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差，而调整对于上述曝光光的上述图案部或者非图案部的遮光性膜的反射率。
6.一种在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模，其特征在于上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，该非器件图案其图案部以及非图案部，由对于从光掩模表面入射的曝光光图案部和非图案部的反射率不同，但对于从光掩模背面入射的曝光光则不会产生图案部和非图案部的实质性的反射率差、这样的遮光性膜的组合而形成。
7.一种在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模，其特征在于上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，实施有减少对于从上述光掩模表面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差的部件，以使得该非器件图案不在被转印面上进行析像。
8.根据权利要求7所记载的光掩模，其特征在于为了减少对于从上述光掩模表面入射的曝光光的、上述非器件图案的图案部和非图案部处的反射率差，而调整对于上述曝光光的上述图案部或者非图案部的遮光性膜的反射率。
9.一种在透光性基板表面形成了遮光性膜图案的光掩模，其特征在于上述光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的非器件图案，在上述非器件图案上或者形成有非器件图案的区域上形成有不在被转印面上实质地进行析像这样的微细图案。
10.一种视频器件的制造方法，其特征在于具有使用权利要求1至9中任意一项所记载的光掩模来进行图案转印的工序。
全文摘要
一种在透光性基板表面的转印区域上形成了由遮光性膜图案构成的器件图案的光掩模，该光掩模在周边部的非转印区域上具有由遮光性膜图案构成的产品识别图案等非器件图案，至少在与形成了该非器件图案的位置相对的透光性基板背面，作为减少从该透光性基板背面的周边部入射的曝光光的透过的光透射减少部件设置有减少光透射薄膜。
文档编号G03F1/38GK1802605SQ200480015759
公开日2006年7月12日 申请日期2004年10月25日 优先权日2003年10月30日
发明者岩永义德 申请人:Hoya株式会社