图案形成方法

专利名称：：图案形成方法
技术领域：
：本发明涉及在包含封装基板的印刷电路板区域中，有效地形成适于干膜光刻胶(DFR)等的高精细的永久图案的图案形成方法。技术背景以往使用在形成布线图案等永久图案之际，通过支承体上涂敷感光性树脂组成物并进行干燥而形成感光层的图案形成材料。作为所述永久图案的制造方法，例如，在形成有所述永久图案的覆铜叠层板等基板上，使所述图案形成材料进行叠层而形成叠层体，对该叠层体中的所述感光材料进行曝光，完成该曝光后，使所述感光层显影而形成图案，之后通过进行蚀刻处理而形成所述永久图案(参照专利文献12)。为了有效地得到高精细的所述永久图案，近几年开发了低能量且可以有效地进行感光的高敏感度的感光层。但是，如果所述感光层具有仅在曝光波长附近的光谱灵敏度特性，则不在曝光光以外进行感光，不过所述感光层的感光特性具有涉及300500nm区域的宽范围的光谱灵敏度特性。具有这样的感光特性，且高敏感度的感光层，通过在工作室等中通常使用的市售的安全灯(黄色荧光灯)进行照射而感光。例如在进行感光层的曝光及显影之前，将图案形成材料放在安全灯下进行照射时不言而喻的产生该感光，不过即使是使用之前进行严密的遮光保存的情况，当在安全灯下进行所述感光层的形成、曝光前的保存等的结果，也因感光层的敏感度变化而光能量过度照射(所谓"感光过度现象")。因而，所形成的抗蚀图案的线宽粗，其结果，恐怕不能形成高精细的永久图案。另外，为避免因安全灯的感光，当进行图案形成材料的保管、曝光等作业时，需要严密的遮光手段，它们的管理或设备并不简单，且作业效率也会下降。因而，现状是，还没有提供在安全灯等光源下也能高精细且有效地形成布线图案等永久图案的图案形成方法而正期待进行进一步改良的开发。专利文献l:国际公开第01/071428号册子专利文献2:特开2004—252421号公报
发明内容本发明的课题在于，解决以往的所述问题，且实现以下的目的。艮P，本发明的目的在于，提供良好地抑制因安全灯等光源的图案形成材料的敏感度变化，保存稳定性优良，能够高精细且有效地形成布线图案等永久图案的图案形成方法。作为用于解决所述课题的方法如下。艮P，<1>一种图案形成方法，其特征在于，使用具有支承体和该支承体上的在350500nm下显示感光特性的感光层且能量敏感度为120mJ/cm2的图案形成材料，在具有380500nm的波长区域且该波长区域中的至少一波长的能量强度在lXl(T^W/Cm2/nm以下的光源下，进行向基材表面的感光层的叠层工序、和该叠层工序和直到曝光前的工序间的至少一工序。在该<1>所记载的图案形成方法中，通过对具有在350500nm下显示感光特性的感光层且能量敏感度为120mJ/cm2的高敏感度的图案形成材料，在具有380500nm的波长区域且该波长区域中的至少一个波长的能量强度在1X10—VW/Cm2/nm以下的光源下，进行向基材表面的感光层的叠层工序、和该叠层工序和直到曝光前的工序间的至少一个工序，曝光前的感光层的敏感度变化(所谓"感光过度现象")得到良好的抑制，永久图案高精细且有效地形成。<2〉根据所述<1>记载的图案形成方法，其中，380500nm的波长区域中的至少一个波长的能量强度在0.5X10—2PW/cm2/nm以下。<3>根据所述<1〉<2〉中任意一项记载的图案形成方法，其中，380500nm的波长区域中的至少一个波长的能量强度在0.25X10—2PW/cm2/nm以下。<4>根据所述<1><3>中任意一项记载的图案形成方法，其中，380500nm的波长区域中的对应每lnm的能量累积量满足下述数式1。<数式1>1ogY^0.0510X—22.0042其中，上述数式1中，Y表示能量累积量(mJ/cm2/nm)，X表示波长(nm)。该<2>所述的图案形成方法中，曝光前光源给予图案形成材料的能量累积量少，因此可以良好地抑制感光层的敏感度变化(所谓"感光过度现象")，从而形成保存稳定性优良且高精细的图案。<5>根据所述<1><4>中任意一项记载的图案形成方法，其中，对叠层在基材表面上的感光层进行曝光、显影。<6>根据所述<1〉<5>中任意一项记载的图案形成方法，其中，图案形成材料的光谱灵敏度至少在360490nm的范围内，通过波长400410nm的照射光进行曝光。<7>根据所述<1><6>中任意一项记载的图案形成方法，其中，对于感光层，根据具有n个接受来自光照射机构的光并射出的描绘部的光调制机构，调制来自所述光照射机构的光之后，经由排列了具有能够补正所述描绘部中的因射出面的变形而产生的像差的非球面的微透镜的微透镜阵列而进行曝光，显影。在该<7>所记载的永久图案形成方法中，所述光照射机构朝所述光调制机构照射光。该光照射机构中的所述n个描绘部，通过接受来自所述光照射机构的光并放射，调制从所述光照射机构接受的光。通过根据所述光调制机构进行调制的光经由所述微透镜阵列中的所述非球面，所述描绘部中的因射出面的变形而产生的像差得以补正，且在所述感光层上形成的像的变形也得到抑制。其结果，能够高精细地进行向所述感光层的曝光。之后，通过使所述感光层显影而形成高精细的永久图案。<8>根据所述<1><6>中任意一项记载的图案形成方法，其中，对感光层，通过具有n个接受来自光照射机构的光并射出的描绘部的光调制机构，调制来自所述光照射机构的光后，用经由排列了具有不会使来自所述描绘部的周边部的光进行入射的透镜开口形状的微透镜的微透镜阵列的光进行曝光，显影。在该<8>所记载的永久图案形成方法中，所述光照射机构朝所述光调制机构进行光照射。该光照射机构中的所述n个描绘部，通过接受来自所述光照射机构的光并放射，调制从所述光照射机构接受的光。通过根据所述光调制机构进行调制的光经由具有不会使来自所述描绘部的周边部的光进行入射的透镜开口形状的微透镜，在变形较大的描绘部的周边部，特别是在四角部上反射的光不能集中，且在所述感光层上形成的像的变形也得到抑制。其结果，能够高精细地进行向所述感光层的曝光。之后，一旦使所述感光层显影就能形成高精细的永久图案。<9>根据所述<8〉记载的图案形成方法，其中，微透镜具有可以补正描绘部中的因射出面的变形而产生的像差的非球面。在该<8>所记载的图案形成方法中，通过根据所述光调制机构进行调制的光经由所述微透镜阵列中的所述非球面，所述描绘部中的因射出面的变形而产生的像差得以补正，且在所述图案形成材料上形成的像的变形也得到抑制。其结果，能够高精细地进行向所述图案形成材料的曝光。例如，之后通过使所述感光层显影而形成高精细的图案。<10>根据所述<7><9>中任意一项记载的图案形成方法，其中，非球面为复曲面。在该<10〉所记载的图案形成方法中，根据所述非球面为复曲面，所述描绘部中的因放射面的变形而产生的像差得到有效的补正，在图案形成材料上形成的像的变形也得到有效的抑制。其结果，能够高精细地进行向所述图案形成材料的曝光。例如，之后通过使所述感光层显影而形成高精细的图案。<11>根据所述<8><10>中任意一项记载的图案形成方法，其中，微透镜具有圆形的透镜开口形状。<12〉根据所述<8><11>中任意一项记载的图案形成方法，其中，透镜开口形状根据在其透镜面上设置遮光部而被规定。<13>根据所述<7><12>中任意一项记载的图案形成方法，其中，光调制机构可以根据图案信息控制从n个的描绘部的中心连续进行配置的任意的低于n个的所述描绘部。在该<7〉所记载的图案形成方法中，通过根据图案信息控制所述光调制机构中的从n个描绘部的中心连续进行配置的任意的低于n个的描绘部，可以高速调制来自所述光照射机构的光。<14>根据所述<7><13>中任意一项记载的图案形成方法，其中，光调制机构是空间光调制元件。<15>根据所述<14>记载的图案形成方法，其中，空间光调制机构是数字微反射镜器件(DMD)。<16>根据所述<1〉<15>中任意一项记载的图案形成方法，其中，曝光经由孔阵列进行。在该<16〉所记载的图案形成方法中，通过曝光经由孔阵列进行，消光比得以提高。其结果，能够极其高精细地进行曝光。例如，之后通过使所述感光层显影而形成极其高精细的图案。<17>根据所述<1><16>中任意一项记载的图案形成方法，其中，使曝光光和感光层进行相对的移动的同时进行曝光。在该<11>所记载的图案形成材料中，通过使已进行所述调制的光和所述感光层进行相对的移动的同时进行曝光，曝光得以高速进行。<18>根据所述<1><17>中任意一项记载的图案形成方法，其中，进行显影后，进行永久图案的形成。<19〉根据所述<18〉记载的图案形成方法，其中，永久图案是布线图案，该永久图案的形成通过蚀刻处理及镀处理的至少一种而进行。在该<19>所记载的图案形成方法中，通过所述永久图案是所述布线图案，且该永久图案的形成以蚀刻处理及镀处理的至少一种进行，从而可以形成高精细的布线图案。<20>根据所述<1><19>中任意一项记载的图案形成方法，其中，光照射机构可以合成2种以上的光而进行照射。在该<20>所记载的图案形成材料中，通过所述光照射机构合成2种以上的光而进行照射，从而可以用焦点深度深的曝光光进行曝光。其结果，能够极其高精细地进行向所述图案形成材料的曝光。例如，之后通过使所述感光层显影而形成极其高精细的图案。<21>根据所述<1〉<20>中任意一项记载的图案形成方法，其中，光照射机构具有多个激光器、多模式光学纤维、和集合分别从该多个激光器照射的激光束而将其与所述多模式光学纤维进行结合的集合光学系。在该<15〉所记载的图案形成方法中，通过根据所述光照射机构，分别从所述多个激光器照射的激光束通过所述集合光学系进行集光，并可以与所述多模式光学纤维进行结合，从而，可以用焦点深度深的曝光光进行曝光。其结果，能够极其高精细地进行向所述图案形成材料的曝光。例如，之后通过使所述感光层显影而形成极其高精细的图案。<22〉根据所述<1><23>中任意一项记载的图案形成方法，其中，感光层包含粘合剂、聚合性化合物、和光聚合引发剂。<23>根据所述<22〉记载的图案形成方法，其中，粘合剂具有酸性基团。<24>根据所述<22><23>中任意一项记载的图案形成方法，其中，粘合剂是乙烯基共聚物。<25>根据所述<22><24〉中任意一项记载的图案形成方法，其中，粘合剂的酸值为70250(mgKOH/g)。<26>根据所述<22><25>中任意一项记载的图案形成方法，其中，聚合性化合物包含具有尿烷基及芳基的至少一种单体。<27>根据所述<22><26>中任意一项记载的图案形成方法，其中，光聚合引发剂是从卤代烃衍生物、六芳基联二咪唑、肟衍生物、有机过氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族错盐及芳环烯金属衍生物类中选择的至少一种。<28>根据所述<1><27>中任意一项记载的图案形成方法，其中，感光层含有3090质量％粘合剂、含有560质量％聚合性化合物、含有0.130质量％光聚合引发剂。<29>根据所述<1><28>中任意一项记载的图案形成方法，其中，感光层的厚度为1100Pm。<30>根据所述<1><29>中任意一项记载的图案形成方法，其中，支承体包含合成树脂且透明。<31>根据所述<1><30>中任意一项记载的图案形成方法，其中，支承体为长尺状。<32>根据所述<1〉<30>中任意一项记载的图案形成方法，其中，图案形成材料为长尺状，并巻曲为辊筒状。<33>根据所述<1><32>中任意一项记载的图案形成方法，其中，在图案形成材料的感光层上形成薄膜。根据本发明，可以解决以往的问题，并且可以提供良好地抑制因安全灯等光源的图案形成材料的敏感度变化，保存稳定性优良，能够高精细且有效地形成布线图案等永久图案的图案形成方法。图1A是表示DMD的使用区域例的图的一例。图IB是表示DMD的使用区域例的图的一例。图2A是表示结合光学系不同的其他曝光头部的构成的沿光轴的剖面图的一例。图2B是表示在未使用微透镜阵列等的情况下投影于被曝光面的光像的平面图的一例。图2C是表示在使用微透镜阵列等的情况下投影于被曝光面的光像的平面图的一例。图3是用等高线表示构成DMD的微反射镜的反射面的变形的图的一例。图4A是在该反射镜的2个对角线方向上表示所述微反射镜的反射面的变形的图表的一列。图4B是在该反射镜的2个对角线方向上表示与图4A相同的所述微反射镜的反射面的变形的图表的一列。图5A是用于图案形成装置中的微透镜阵列的主视图的一例。图5B是用于图案形成装置中的微透镜阵列的侧视图的一例。图6A是构成微透镜阵列的微透镜的主视图的一例。图6B是构成微透镜阵列的微透镜的侧视图的一例。图7A是在1个剖面内表示根据微透镜的集光状态的示意图的一例。图7B是在1个剖面内表示根据微透镜的集光状态的示意图的一例。图8A是表示仿真本发明的微透镜的集光位置附近的束径的结果的图的一例。图8B是在不同位置表示与图8A相同的仿真结果的图的一例。图8C是在不同位置表示与图8A相同的仿真结果的图的一例。图8D是在不同位置表示与图8A相同的仿真结果的图的一例。图9A是在以往的图案形成方法中，表示仿真微透镜的集光位置附近的束径的结果的图的一例。图9B是在不同位置表示与图9A相同的仿真结果的图的一例。10图9C是在不同位置表示与图9A相同的仿真结果的图的一例。图9D是在不同位置表示与图9A相同的仿真结果的图的一例。图10A的(A)是表示纤维阵列光源的构成的立体图。(B)是(A)的部分放大图的一例，(C)及(D)是表示激光器射出部中的发光点的排列的平面图的一例。图IOB是表示纤维阵列光源的激光器射出部中的发光点的排列的主视图的一例。图11是表示多模式光学纤维的构成的图的一例。图12是表示合波激光器光源的构成的平面图的一例。图13是表示激光器组件的构成的平面图的一例。图14是表示图13所示的激光器组件的构成的侧视图的一例。图15是表示图13所示的激光器组件的构成的部分侧视图。具体实施方式(图案形成方法)本发明的图案形成方法，至少包含感光层叠层工序和曝光工序，优选包含显影工序，进一步根据需要包含适宜选择的其他工序。所述各工序，使用具有对350500nm显示感光特性的感光层且能量敏感度为120mJ/cn^的图案形成材料，在380500nm的波长区域中的至少一波长的能量强度在1X10—VW/cm2/nm以下，优选在0.5X10—2MW/cm2/nm以下，更优选在0.25X10—VW/cm2/nm以下的安全灯等光源下，进行向基材表面的感光层的叠层工序、和该感光层的保存等曝光工序前的工序中的至少一工序。之后，进行向感光层的曝光工序、显影工序。由此，以低能量且高敏感度进行感光的图案形成材料在曝光前不会通过曝光光以外的光源进行感光而产生大的敏感度变化，即过度的感光等，另外，不需要用于严密的遮光的设施或时间，可以高精细且有效地形成布线图案等永久图案。当所述光源的波长区域不包含380500nm的发光光谱时，可以抑制感光层的敏感度变化(所谓"感光过度显影")，不过由于通常使用的光源包含所述380500nm的发光光谱，因此在这种情况下，如果所述的至少一波长的能量强度超过1X10—VW/cm2/nm，则产生图案形成材料的敏感度变化，且因过度的感光导致固化，从而有不能形成高精细的图案的情况。还有，即使在所述条件下，如果在形成感光层后，在长时间未使用的情况或曝光后没有立即进行显影的情况下，感光层受到的能量累积量增多，则也有该感光层增感而对图案精度产生影响的可能。因此，从向所述基材表面的感光层的叠层到曝光之前，380500nm的波长区域中的每lnm的能量累积量更优选满足下述数学式1。<数学式1>1ogYS0.0510X—22据2其中，上述数学式l中，Y表示能量累积量(mJ/cm2/nm)，X表示波长(nm)。在满足所述数学式1的能量累积量的范围内，通过使用图案形成材料而进行向基材表面的感光层的叠层工序、和从该叠层工序到曝光前的工序中的至少一工序，从而感光层的敏感度变化得到良好的抑制，保存稳定性优良，可以形成更高精细的图案。[曝光工序]只要所述曝光工序在具有380500nm的波长区域且该波长区域中的至少一波长的能量强度在lX10_Vw/cm2/nm以下的光源下进行，就没有特别的限定，可以根据需要做适宜的选择。所述曝光工序对感光层而言，优选通过具有n个接受来自所述光照射机构的光并射出的描绘部的光调制机构，调制来自所述光照射机构的光之后，以通过排列了具有可对所述描绘部中的射出面的变形导致的像差进行修正的非球面的微透镜的微透镜阵列的光，或者通过排列了具有不使来自所述描绘部的周边部的光入射的透镜开口形状的微透镜的微透镜阵列的光进行曝光。一光调制机构一作为所述光调制机构，只要具有n个描绘部就没有特别的限定，可以基于目的进行适宜的选择，优选举出，例如，空间光调制元件等。作为所述空间光调制元件，可以举出，例如，数字微反射镜设备(DMD)、MEMS(微电子机械系统MicroElectroMechanicalSystems)型的空间光调制元件(SLM;SpecialLightModulator)、根据电光学效果而调制透过光的光学元件(PLZT元件)、液晶光快门(FLC)等，其中优选举出DMD。就所述光调制机构及包含所述光调制机构的图案形成装置的例子而言，可以举出特开2005—258431号公报的段落号所记载的例子。一微透镜阵列一作为所述微透镜阵列，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，不过优选举出，例如，具有可以补正所述描绘部中的因射出面的变形而产生的像差的非球面的微透镜阵列、具有不会使来自所述描绘部的周边部的光进行入射的透镜开口形状的微透镜阵列。作为所述非球面，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，不过优选，例如复曲面。以下，就使用所述微透镜阵列、所述孔阵列及所述成像光学系等的例子而言，可以举出特开2005—258431号公报的段落号所记载的例子等。一其他光学系一就本发明的永久图案形成方法而言，还可以并用从众所周知的光学系中适宜选择的其他光学系，可以举出，例如，包括l对组合透镜的光量分布补正光学系等。所述光量分布补正光学系使各射出位置上的光束宽度发生变化，以使射出侧的周边部的光束宽度相对于邻近光轴的中心部的光束宽度的比小于入射一侧，从而当向DMD照射来自光照射机构的平行光束时，在被照射面上的光量分布修正为大致均匀。以下，就所述光量分布补正光学系的具体情况而言，可以举出，例如，特开2005—258431号公报的段落号中所记载的内容等。—光照射机构一作为所述光照射机构，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，可以举出，例如，(超)高压水银灯、氙灯、碳极电弧灯、卤素灯、复印机用等荧光管、LED、半导体激光器等众所周知的光源或能够合成2种以上的光而进行照射的机构，其中优选能够合成2种以上的光而进行照射的机构。作为从所述光照射机构照射的光，例如，在经由支承体进行光照射时，可举出透过该支承体并将使用的光聚合引发剂或增感剂活性化的电磁波、紫外的可见光线、电子射线、X射线、激光等，其中优选激光，更优选合成2种以上的光的激光(以下成为"合波激光")。另外，即使剥离支承体后进行光照射的情况下，也可以使用同样的光。作为来自所述紫外的可见光线的波长，例如，优选3001500nm，更优选320800nm，特别优选330650nm。作为所述激光的波长，例如，优选2001500nm，更优选300800nm，迸一步优选330500nm，特别优选395415nm。作为能够照射所述合波激光的机构，优选例如具有多个激光器、多模式光学纤维、和对来自该多个激光器分别照射的激光进行集光并与所述多模式光学纤维结合的集合光学系的机构。以下，就能够照射所述合波激光的机构(纤维阵列光源)而言，可以举出特开2005—316431号公报的段落号中所记载的例子等。[叠层体]作为所述曝光的对像，只要是具有至少对350500nm显示感光特性的感光层且能量敏感度为120mJ/cn^的图案形成材料即可，没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，不过，例如优选对在基材表面上利用感光性组成物形成感光层而构成的叠层体进行曝光。<基材>作为所述基材，并没有特别的限定，可以在众所周知的材料中的从表面平滑性高的材料到具有凹凸表面的材料中做适宜的选择，不过优选板状的基材(基板)，具体可以举出，众所周知的印刷电路板形成用基板(例如，覆铜叠层板)、玻璃板(例如，钠玻璃板等)、合成树脂性的薄膜、纸、金属板等，不过其中优选印刷电路板形成用基板，从可向多层布线基板或组合布线基板等进行半导体等高密度安装化的观点来看，特别优选该印刷电路板形成用基板已形成布线。<图案形成材料>作为所述图案形成材料，只要是具有支承体和该支承体上的在350500nm下显示感光特性(光谱灵敏度)的感光层且能量敏感度为l20mJ/cn^的图案形成材料，就没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择。另外，所述图案形成材料的光谱灵敏度至少在360490nm的范围内，通过使用由波长400410nm的照射光进行曝光的材料，可以更小地抑制在安全光等光源下的敏感度变化(所谓"感光过度显影")。作为所述感光层，并没有特别的限定，可以从众所周知的图案形成材料中做适宜的选择，例如优选包含粘合剂、聚合性化合物、和光聚合引发剂，并包含适宜选择的其他成分。另外，作为感光层的叠层数，并没有的特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，例如，可以是1层，也可以是2层以上。粘合剂》作为所述粘合剂，例如，优选对于碱性水溶液具有膨润性，更优选对于碱性水溶液具有可溶性。作为对于碱性水溶液显示膨润性或溶解性的粘合剂，优选举出，例如具有酸性基团的物质。作为所述酸性基团，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，可以举出，例如，羧基、磺酸基、磷酸基等，其中优选羧基。作为具有羧基的粘合剂，可以举出，例如，具有羧基的乙烯基共聚物、聚氨酯树脂、聚酰胺酸树脂、改性环氧树脂等，其中须丛向涂敷溶剂的溶解性、向碱显影液的溶解性、合成适性、膜物性的调整的难易等角度出发，优选具有羧基的乙烯基共聚物。所述具有羧基的乙烯基共聚物，至少可以通过(1)具有羧基的乙烯基单体及(2)可以和它们进行共聚合的单体的共聚合而得到，例如，可以举出特开2005—258431号公报的段落号所记载的化合物等。<聚合性化合物〉作为所述聚合性化合物，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，优选举出，例如，具有尿烷基及芳基的至少一种的单体或低聚物。另外，优选这些具有2种以上的聚合型基团。作为所述聚合型基团，可以举出，例如，乙烯型不饱和键(例如，(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯基、乙烯酯或乙烯醚等乙烯基、烯丙基醚或烯丙基酯等烯丙基等)、可进行聚合的环状醚基(例如，环氧基、氧杂环丁烷基等)等，其中优选乙烯型不饱和键，例如，可以举出特开2005—258431号公报的段落号所记载的化合物等。<光聚合引发剂>作为所述光聚合引发剂，只要是具有引发所述光聚合性化合物的聚合的能力就没有特别的限定，可以从众所周知的光聚合引发剂中做适宜的选择，例如，优选对来自紫外线区域的可见光线具有感光性的光聚合引发剂，还可以是与被光激发的增感剂产生某些作用，且产生活性自由基的活性剂，也可以是根据单体的种类引发阳离子聚合等的引发剂。另外，所述光聚合引发剂优选至少包含1种在约300800nm(更优选330500nm)的范围内至少具有约50的分子吸光系数的成分。作为所述光聚合引发剂，可以举出，例如，卤代烃衍生物(例如，具有三嗪骨架的物质、具有嚼二唑骨架的物质等)、六芳基联二咪唑、肟衍生物、有机过氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族镥盐及芳环烯金属衍生物类等。其中，从感光层的敏感度、保存性、及感光层和印刷电路板形成用基板间的粘附性等观点出发，优选具有三嗪骨架的卤代烃、肟衍生物、酮化合物、六芳基联二咪唑系化合物，例如，可以举出特开2005—258431号公报的段落号中所记载的化合物等。<其他成分>作为所述其他成分，可以举出，例如，增感剂、热聚合抑制剂、增塑剂、发色剂、着色剂等，也可进一步向基体表面并用粘附促进剂及其他的助剂类(例如，颜料、导电性粒子、填充剂、消泡剂、阻燃剂、流平剂、剥离促进剂、抗氧剂、香料、热交联剂、表面张力调整剂、链转移剂等)。另外，例如可以使用特开2005—258431号公报的段落号中举出的化合物等，通过适宜含有这些成分，可以调整作为目的的图案形成材料的稳定性、摄影性、印像性、膜物性等性质。作为所述感光层的厚度，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，例如，优选l10(mm，更优选250tai，特别优选430Mm。〔图案形成材料的制造〕所述图案形成材料，例如可以如下制造。首先，将上述的各种材料溶于水或溶剂，并使其乳化或分散而调制感光性树脂组成物溶液。作为所述感光性树脂组成物溶液的溶剂，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，可以举出，例如，甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、正己醇等醇类；丙酮、丁酮、甲基异丁基甲酮、环己酮、二异丁基甲酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸正戊酯、硫酸甲酯、丙酸乙酯、酞酸二甲酯、苯甲酸乙酯、及乙酸甲氧基丙酯等酯类，甲苯、二甲苯、苯、乙苯等芳香族烃类；四氯化碳、三氯乙烯、氯仿、1，1，1_三氯乙烷、二氯甲垸、氯苯等卤代烃类；四氢呋喃、二乙醚、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、l一甲氧基一2—丙醇等醚类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基硫代氧化物、二甲亚砜、环丁砜等。这些既可以单独使用一种，也可以2种以上并用。另外，也可以添加众所周知的表面活性剂。接下来，通过在支承体上涂敷所述感光性树脂组成物溶液，使其干燥而形成感光层，并可以制造图案形成材料。作为所述感光性树脂组成物溶液的涂敷方法，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，可以举出，例如，喷涂法、辊涂敷法、旋转涂敷法、缝隙涂敷法、挤压涂敷法、帘式涂敷法、过渡涂层法、凹版印刷涂敷法印刷法、条锭涂敷法、刮涂法等各种涂敷方法。作为所述干燥条件，根据各成分、溶剂的种类、使用比例等而不同，不过通常在60110°C的温度下为30秒钟15分钟左右。<<支承体及保护薄膜>〉作为所述支承体，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，不过，优选可以进行所述感光层的剥离，且光的透过性良好的支承体，更优选表面的平滑性良好。例如，可以使用特开2005—258431号公报的段落号中举出的材料等。所述图案形成材料可作为印刷电路板、滤色片、柱材、肋材、隔板、隔壁等显示器用构件；全息照相、微机械、校样等图案形成用而广泛使用，特别适合用于本发明的图案形成方法。[感光层叠层工序]所述感光层叠层工序是在所述曝光工序之前，以在所述基材上重叠所述图案形成材料中的感光层的方式叠层而形成叠层体的工序。所述叠层体的形成，优选进行加热及加压的至少一种的同时，进行叠层。利用所述的曝光工序，通过对所述叠层体中的图案形成材料的所述感光层进行曝光，使曝光的区域固化，再通过后述的显影工序形成图案。作为所述加热温度，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，例如，优选1518(TC，更优选60140'C。作为所述施加的压力，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，例如，优选0.11.0MPa，更优选0.20.8MPa。作为进行所述加热及加压的至少一种的装置，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，例如，优选举出叠层装置(例如，大成叠层装置公司制，VP—II)、真空叠层装置等。[显影工序]所述显影工序是通过所述曝光工序曝光所述图案形成材料中的感光层，使该感光层的已曝光的区域进行固化后，通过除去未固化的区域而进行显影，并形成图案的工序。作为所述未固化区域的除去方法，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，例如，可以举出使用显影液去除的方法等。作为所述显影液，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，可以举出，例如，碱性水溶液、水性显影液、有机溶剂等，其中优选弱碱性的水溶液。作为该弱碱性水溶液的碱成分，可以举出，例如，氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢锂、碳酸氢钠、碳酸氢钾、磷酸钠、磷酸钾、焦磷酸钠、焦磷酸钾、硼砂等。作为所述弱碱性的水溶液的pH，例如，优选约812，更优选约911。作为所述弱碱性的水溶液，可以举出，例如，0.15质量％的碳酸钠水溶液或碳酸钾水溶液等。作为所述显影液的温度，配合所述感光层的显影性而做适宜的选择，18例如优选约25。C40。C。所述显影液也可以并用表面活性剂、消泡剂、有机碱(例如，乙二胺、乙醇胺、氢氧化四甲铵、二亚乙基三胺、三亚乙基戊胺、吗啉、三乙醇胺等)、或为促进显影而并用有机溶剂(例如，醇类、酮类、酯类、醚类、酰胺类、内酯类等)等。另外，所述显影液，既可以是混合了水或碱性水溶液和有机溶剂的水系显影液，也可以是单独的有机溶剂。[其他工序]作为所述其他的工序，并没有特别的限定，可以举出从众所周知的图案形成的工序中做适宜选择的工序，例如，可以举出蚀刻工序、镀敷工序等。这些既可以单独使用l种，也可以2种以上并用。作为所述蚀刻工序，可以用从众所周知的蚀刻处理方法中适宜选择的方法进行。作为用于所述蚀刻处理的蚀刻液，并没有特别的限定，可以基于目的而做适宜的选择，例如，在用铜形成所述金属层的情况下，可以举出氯化铜溶液、氯化铁溶液、碱性蚀刻溶液、过氧化氢系蚀刻液等，其中，从蚀刻因子的角度出发，优选氯化铁。通过所述蚀刻工序进行蚀刻处理后，除去所述图案，由此，可以在所述基体的表面形成永久图案。作为所述永久图案，并没有特别的限定，可以基于目的而做适宜的选择，例如，优选举出布线图案等。作为所述镀敷工序，可以用从众所周知的镀敷处理方法中适宜选择的方法进行。作为镀敷处理，例如，硫酸铜镀敷、焦磷酸铜镀敷等铜镀敷、高流动性钎焊镀敷等钎焊镀敷、瓦特浴(硫酸镍一氯化镍)镀敷、氨基磺酸镍等镍镀敷、硬金镀敷、软金镀敷等金镀敷等处理。通过所述镀敷工序进行镀敷处理后，除去所述图案，另外按照需要通过进一步用蚀刻处理等除去不需要部分，可以在所述基体的表面形成永久图案。就本发明的图案形成方法而言，由于通过在具有380500nm的波长区域且该波长区域中的至少一波长的能量强度在1X10—VW/cm2/nm以下的安全灯等光源下进行，在至少具有在350500nrn下显示感光特性的感光层且能量敏感度为120mJ/cn^的高敏感度图案形成材料中，良好的抑制由所述光源导致的敏感度变化，保存稳定性良好，可以高效率且有效地形成永久图案，因而可适用于需要高精细的曝光的各种图案的形成等，特别是适用于高精细的布线图案的形成。(印刷电路板的制造方法)本发明的图案形成方法，可适用于印刷电路板的制造、特别是具有通孔或导通孔等孔部的印刷电路板的制造。以下，就利用了本发明的图案形成方法的印刷电路板的制造方法进行说明。特别是作为具有通孔或导通孔等孔部的印刷电路板的制造方法，(1)在作为所述基体的具有孔部的印刷电路板形成用基板上，将所述图案形成材料以其感光层位于所述基体侧的位置关系叠层而形成叠层体，(2)从与所述叠层体的所述基板相反的一侧，向布线图案形成区域及孔部形成区域进行光照射而使感光层固化，(3)从所述叠层体除去所述图案形成材料中的支承体，(4)可以通过使所述叠层体中的感光层显影，并除去该叠层体中的未固化部分而形成图案。还有，所述(3)中的所述支承体的除去可以不在所述(2)和所述(4)间进行而在所述(1)和所述(2)间进行。之后，为得到印刷电路板，可以使用所述形成的图案而通过蚀刻处理或镀敷处理的方法(例如，众所周知的金属面腐蚀法或添加法(例如，半添加法、全添加法))处理所述印刷电路板形成用基板。其中，以工业上有利的掩蔽法形成印刷电路板时优选所述半添加法。进行所述处理后使残存于印刷电路基板形成用基板上的固化树脂进行剥离，另外，就所述半添加法的情况而言，通过进行剥离后进一步蚀刻铜薄膜，可以制造希望的印刷电路板。另外，多层印刷电路板也可以与所述印刷电路板的制造法相同地进行制造。接下来，进一步说明使用了所述图案形成材料的具有通孔的印刷电路板的制造方法。首先，使用具有通孔且表面被金属镀层包覆的印刷电路板形成用基板。作为所述印刷电路板形成用基板，可以使用，例如，覆铜叠层基板及在玻璃一环氧等绝缘基材上形成了铜镀层的基板、或在这些基板上叠层层间绝缘层并形成铜镀层的基板(叠层基板)。接下来，在所述图案形成材料上具备保护膜的情况下，剥离该保护薄膜，用加压辊进行压接(叠层工序)使所述图案形成材料中的感光层与所述印刷电路板形成用基板的表面接触。由此，可以得到依次具有所述印刷电路板形成用基板和所述叠层体的叠层体。作为所述图案形成材料的叠层温度，并没有特别的限定，例如可以举出在室温(1530°C)或加热下(30180°C)，其中优选在加温下(60140°C)。作为所述压接辊的辊压，并没有特别的限定，例如优选0.1lMPa。作为所述压接的速度，并没有特别的限定，优选l3m/分。另外，既可以预先加热好所述印刷电路板形成用基板，另外，也可以在减压下叠层。就所述叠层体的形成而言，既可以在所述印刷电路板形成用基板上叠层所述图案形成材料，另外，也可以通过将所述图案形成材料制造用的感光性树脂组成物溶液直接涂敷在所述印刷电路板形成用基板的表面，并进行干燥，从而在所述印刷电路板形成用基板上叠层感光层。接下来，从与所述叠层体的基体相反一侧的面，照射光而使感光层固化。还有，这时也可以根据需要(例如，支承体的光透性不充分的情况等)剥离支承体后进行曝光。此刻，未剥离所述支承体的情况下，从所述叠层体剥离该支承体(支承体剥离工序)。接下来，用适当的显影液溶解除去所述印刷电路板形成用基板上的感光层的未固化区域而形成布线图案形成用的固化层和通孔的金属层保护用固化层的图案，从而使金属层露出在所述印刷电路板形成用基板的表面(显影工序)。另外，显影后，也可根据需要通过后加热处理或后曝光处理，进行进一步促进固化部的固化反应的处理。显影既可以是如上面所述的湿式显影法，也可以是干式显影法。接下来，用蚀刻液溶解除去露出在所述印刷电路板形成用基板的表面上的金属层(蚀刻工序)。由于通孔的开口部被固化树脂组成物(掩蔽膜)包覆，因此蚀刻液不会进入通孔内而腐蚀通孔内的金属镀敷，通孔的金属镀敷也将以规定的形状残留下来。由此，在所述印刷电路板形成用基板上形成布线图案。作为所述显影液，并没有特别的限定，可以基于目的做适宜的选择，例如，当以铜形成所述金属层的情况下，可以举出氯化铜、氯化铁、碱性蚀刻溶液、过氧化氢系蚀刻液等，其中，从蚀刻因子的角度出发，优选氯化铁。接下来，用强碱水溶液等，将所述固化层作为剥离片而从所述印刷电路板形成用基板除去(固化物除去工序)。作为所述强碱水溶液中的碱成分，并没有特别的限定，可以举出，例如氢氧化钠、氢氧化钾等。作为所述强碱水溶液的pH，例如，优选约1214，更优选约1314。作为所述强碱水溶液，并没有特别的限定，可以举出，例如110质量％的氢氧化钠水溶液或氢氧化钾水溶液等。另外，印刷电路板也可以是多层结构的印刷电路板。还有，所述图案形成材料不仅可以用于蚀刻工序，还可以用于镀敷工序。作为所述镀敷法，例如，硫酸铜镀敷、焦磷酸铜镀敷等铜镀敷、高流动性钎焊镀敷等钎焊镀敷、瓦特浴(硫酸镍一氯化镍)镀敷、氨基磺酸镍等镍镀敷、硬金镀敷、软金镀敷等金镀敷等。实施例以下，说明本发明的实施例，本发明并不限定于下述实施例。(实施例1)一图案形成材料的制造一在作为所述支承体的20Pm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜上，涂敷由下述的组成构成的感光性树脂组成物熔冶并使其干燥而形成15pm厚的感光层，从而制造了所述图案形成材料。[感光性树脂组成物溶液的组成]*甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸一2—乙基己酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸加物-共聚物(共聚物组成(质量比)50/20〃/23，质量平均分子量90000，酸值150)…15质量份*下述结构式(73)所表示的聚合型单体…7质量份六亚甲基二异氰酸酯和四氧化乙烯单甲基丙烯酸酯的1/2摩尔比附7质量份N—甲基吖啶酮…0.11质量份2，2—双(o—氯苯基)一4，4，，5，5，一四苯基联二咪唑…2.17份2—巯基苯并咪唑…0.23质量份，孔雀绿草酸盐…0.02质量份，无色结晶紫…0.26质量份丁酮…40质量份1—甲氧基一2—丙醇…20质量份[化l]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage23</formula>结构式(73)其中，结构式(73)中，m+n表示10。还有，结构式(73)是所述结构式(38)所表示的化合物的一例。在所述图案形成材料的感光层上叠层了作为所述保护薄膜的20Pm厚的聚乙烯薄膜。一图案形成一[感光层叠层工序]在作为所述基材的已将表面研磨、水洗、干燥的覆铜叠层板(无通孔，铜的厚度12toi)的表面上，一边剥离所述图案形成材料的保护薄膜，一边用叠层装置(MODEL8B—720—PH,大成叠层装置(株)制)压接使该图案形成材料的感光层与所述覆铜叠层板接触，从而制作依次叠层所述覆铜叠层板、所述感光层、和所述聚对苯二甲酸乙二醇酯(支承体)的叠层体，制作2块在基材表面叠层有感光层的叠层体。压接条件设为压接辊温度105'C、压接辊压力0.3MPa、叠层速度lm/分。[安全灯照射]上述中获得的2块叠层体中，一块叠层体直接保管在遮光箱中，另一块叠层体则在下述条件下用安全灯进行照射。在株式会社东芝制的安全灯FIR40S—Y/M—P—NU下进行向所述另一块叠层体的安全灯照射。所述安全灯的在380500nm波长区域的最大能量强度是0.2X10—VW/cm2/nm。另外，选择了380500nm波长区域中的2个能量大的波长点，用下述方法求得了各波长的每lnm的能量累积量。结果用表3表示。<计算能量>使用大塚电子株式会社制的瞬间多测光系统、MCPD—300，测定使用的安全灯的发光光谱，并求得了每个波长的发光能量(PW/Cm2/nm)，并且选择了2个能量大的波长点。在与所述发光光谱的测定位置相同的位置上，用柯尼卡美能达(KONICAMINOLTA〕-力$/少夕示一少fV乂夕、、7)株式会社制的数字照度计测定照度，通过该照度和上述选择的2个点的光能的比例计算，算出了换算为5001ux下的发光能量的值。[曝光工序及显影工序]进行所述安全灯照射后，通过使用了下述的图案形成装置的方法，同时曝光安全灯照射的叠层体的感光层、和保管在所述遮光箱中的叠层体的感光层，且显影而得到了固化树脂图案。在其曝光及显影过程中，对于所述2块叠层体而言，如下述求得了敏感度及析像度。将结果表示在表4。<敏感度及析像度>(1)最短显影时间的测定方法从所述叠层体剥去聚对苯二甲酸乙二醇酯(支承体)，以0.15MPa的压力向覆铜叠层板上的所述感光层的整面喷射3(TC的1质量％碳酸钠水溶液，对从开始喷射碳酸钠水溶液到覆铜叠层板上的感光层被溶解除去所需的时间进行测定，并将其作为最短显影时间。其结果，所述最短显影时间是10秒。(2)敏感度的测定对于所述调制的叠层体中的图案形成材料的感光层，用下面所说明的图案形成装置，从聚对苯二甲酸乙二醇酯(支承体)一侧，照射从O.lmJ/cm2以21/2倍间隔至100mJ/cr^为止的光能量不同的光而进行曝光，从而使所述感光层的一部分区域固化。在室温下静置10分钟后，从所述叠层体剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(支承体)，以0.15MPa的喷射压力，向覆铜叠层板上的所述感光层的整面喷射由所述(1)中求得的最短显影时间的2倍时间的3(TC的1质量％碳酸钠水溶液，溶解除去未固化的区域，测定残留的固化区域的厚度。接下来，绘制光的照射量和固化层的厚度间的关系而得到敏感度曲线。从由这样得到的敏感度曲线将固化区域的厚度变成过曝光下的完全固化膜的厚度(15Pm的情况是15Pm)时的最小光能量作为使感光层固化所需的光能量。其结果，使所述感光层固化所需的光能量是3mJ/cm2。<<图案形成装置>>使用具有图1015所示的合波激光器光源作为所述光照射机构；在图1所示的主扫描方向上排列有1024个微反射镜的微反射镜列在副扫描方向上排列有768组，仅对其中的1024个X256列进行驱动控制的DMD50,作为所述光调制机构；将图2所示的将一面为复曲面的微透镜474以阵列状排列的微透镜阵列472及将通过该微透镜阵列的光在所述图案形成材料上成像的光学系480、482。另外，所述微透镜中的复曲面使用了下面所说明的复曲面。首先，为了修正作为DMD50的所述描绘部的微透镜474的射出面中的变形，测定了该射出面的变形。将结果表示在图3。图3中，将反射面的同样高度位置用等高线连结表示，等高线的间隔是5nm。还有，相同图所示的x方向及y方向是微反射镜62的2个对角线方向，微反射镜62以沿y方向延伸的旋转轴为中心进行旋转。另外，图4A及图4B分别表示沿上述x方向、y方向的微反射镜62的反射面的高度位置变位。如图3、图4A及图4B所示，微反射镜62的反射面存在变形，因而，如果特别是观察反射镜中央部，则可以判断出一对角线方向(y方向)的变形比另一对角线方向(x方向)的变形大。因而，判断出这种状态下，用微透镜阵列55的微透镜55a集光的激光B的在集光位置上的形状变形。图5A及图5B分别详细的表示微透镜阵列55整体的正面形状及侧面形状。这些图中，还有微透镜阵列55的各部分的尺寸，它们的单位是mm。如之前参照图3所进行的说明，DMD50的1024个X256列的微反射镜62被驱动，与此相对应，微透镜阵列55由横向排列有1024个微透镜55a的列，在纵向上并排有256列地构成。还有，在图5A中，将微透镜阵列55的排序在横向上用j，纵向上用k表示。另外，图6A及图6B分别表示微透镜阵列55中的1个微透镜55a的正面形状及侧面形状。还有，在所述图6A中配合微透镜55a的等高线进行表示。各微透镜55a的光射出侧的端面设为对由微反射镜62的反射面的变形而导致的像差进行修正的非球面形状。更具体是，微透镜55a成为复曲面透镜，与所述x方向光学对应的方向的曲率半径Rx-—0.125mm，与所述y方向对应的方向的曲率半径Ry^—O.lmm。因而，在与所述x方向及y方向平行的剖面内的激光B的集光状态分别如图7A及图7B所示。换言之，如果比较与x方向平行的剖面内和与y方向平行的剖面内，则可以判断出在后者的剖面内，微透镜55a的曲率半径更小，焦点距离更短。还有，将微透镜55a形成所述形状的情况下的、该微透镜55a的集光位置(焦点位置)附近的束径利用计算机进行仿真的结果表示在图8A图8D。另夕卜，为了做比较，对于微透镜55a为曲率半径Rx二Ry二一O.lmm的球面形状的情况而言，将进行同样的仿真的结果表示在图9A图9D中。还有，各图中的z值以与微透镜55a的光束射出面的距离表示微透镜55a的焦点方向的评价位置。另外，用于所述仿真的微透镜55a的面形状，以下述式进行计算。[数5〗<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>其中，在所述计算式中，Cx表示x方向的曲率(=1/Rx)，Cy表示y方向的曲率(1/Ry)，X表示关于x方向的距透镜光轴O的距离，Y表示关于y方向的距透镜光轴O的距离。比较图8A图8D和图9A图9D可知，通过将微透镜55a作为与y方向平行的剖面内的焦点距离小于与x方向平行的剖面内的焦点距离的复曲面透镜，其集光位置附近的束状的变形得到抑制。其结果，可在图案形成材料150上曝光无变形且更高精细的图案。另外可判断出，图8A图8D所示的本实施方式中，束径小的区域更宽，即焦点深度更大。另外，配置在微透镜阵列55的集光位置附近的孔阵列59如下配置，即经过各个微透镜55a的光仅向其各个对应的孔59a入射。即，通过设置该孔阵列59，可以防止向各个孔59a入射与其不相对应的邻接的微透镜55a的光，从而可以提高消光比。(3)析像度的测定在与所述(1)的最短显影时间的评价方法相同的方法及条件下制作所述叠层体，并在室温下(23°C、55%RH)静置10分钟。用所述图案形成装置，在所得到的叠层体的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(支承体)上，以线宽/间距(L/S)=1/1，直到线宽10Pm50toi，以5Pm刻纹进行各线宽的曝光。这时的曝光量是为固化所述(2)中所测定的所述图案形成材料的感光层而所需的光能量。在室温下静置10分钟后，从所述叠层体剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯(支承体)。向覆铜叠层板上的感光层的全面以0.15MPa的喷射压、所述(1)中求得的最短显影时间的2倍的时间喷射3(TC的1质量％碳酸钠水溶液，溶解除去未固化的区域。用光学显微镜观察这样得到的带有固化树脂图案的覆铜叠层板的表面，观察并用肉眼判定固化树脂图案的线路上没有堵塞、残滴等异常的最小的线宽及最小的间宽，将其作为析像度。该析像度的数值是越小越好。在实施例1中，最小线宽是20Mm，最小列宽是20Mm。<^线宽的评价>如上面所述制作2块叠层体，在该2块叠层体中，一块叠层体直接保管在遮光箱中，另一块则用所述安全灯在表3的条件下进行照射。进行所述条件下的照射后，对于用安全灯进行照射的叠层体的感光层、和遮光箱的叠层体的感光层，进行与所述相同的曝光、显影而得到了固化树脂图案。用激光显微镜VK—9500测定了所得到的各图案的共同的最小线宽。因而，用下述计算式2算出了用安全灯照射后的线宽的变化量A线宽。<计算式2>A线宽(toi)二用安全灯照射的叠层体的最小线宽(toi)—未用安全灯照射的叠层体的最小线宽(Pm)将所得到的A线宽，根据评价基准进行了评价。在实施例1中，A线宽为0.3Hm,敏感度变化非常小，线宽再现性非常优良。(评价基准)〇A线宽小于ltoi,敏感度变化非常小，线宽再现性非常优良。△:A线宽大于等于ltoi小于1.5Pm，敏感度变化小，线宽再现性优良。X:A线宽大于1.5tal，敏感度变化大，线宽再现性差。(实施例26及比较例14)一图案形成材料的制造一实施例2实施例6及比较例14中，除了将图案形成材料作为下述的物质之外，用与实施例1相同的方法制造了图案形成材料。[实施例2]除了实施例1中，向感光性树脂组成物溶液中添加作为聚合抑制剂的吩噻嗪1000ppm(对固体成分)，将感光层的厚度作为30tai以外，通过与实施例1相同的方法制造了图案形成材料。[实施例3、6及比较例2]除了实施例1中，向感光性树脂组成物溶液中添加作为聚合抑制剂的吩噻嗪100ppm(对固体成分)以外，通过与实施例1相同的方法制造了图案形成材料。[实施例4、5及比较例3]除了实施例1中，向感光性树脂组成物溶液中添加作为聚合抑制剂的吩噻嗪500ppm(对固体成分)以外，通过与实施例1相同的方法制造了图案形成材料。[比较例1]除了实施例1中，向感光性树脂组成物溶液中添加作为聚合抑制剂的吩噻嗪1000ppm(对固体成分)，将N—甲基吖啶酮作为0.4重量份以外，通过与实施例1相同的方法制造了图案形成材料。[比较例4]除了实施例1中，向感光性树脂组成物溶液中添加作为聚合抑制剂的吩噻嗪500ppm(对固体成分)，将N—甲基吖啶酮作为0.8重量份以外，通过与实施例1相同的方法制造了图案形成材料。一图案形成一对于所述中得到的实施例26及比较例14的图案形成材料，除了实施例1中，将安全灯变更为表3所示的安全灯，最大能量强度、最大能量波长及能量累积量作为表3所示的量以外，通过与实施例l相同的方法进行图案形成，并且进行了敏感度、析像度及A线宽的评价。将结果表示在表4。[表3]<table>tableseeoriginaldocumentpage30</column></row><table>(注1):在各实施例及比较例中所使用的安全灯如下。A:东芝制FLR40S—Y/M—P—NUB:三菱制FLR40S—Y/MC:日立制FLR40S—W/M—B(富士胶片制带UV防护装置)D:日立制FLR40S—Y/M—B(注2):最大能量波长选择了2个380500nm波长下的能量最大的波长点。(注3):通过调整安全灯照射时间，调整了能量累积量。[表4]_感光层的敏感度(mJ/cm2)析像度(toi)L/S敏感度变化A线宽(Mm)判定实施例1320/200.3〇实施例21820/200〇实施例3520/200.2O实施例41020/200.4〇实施例51020/200.8O实施例6520/201.2△比较例16020/200.4O比较例2535/354.3X比较例31020/202.5X比较例43020/203.1X根据表3及表4的结果，确认了对于具有在350500nrn下显示感光特性的感光层且能量敏感度为l20mJ/cr^的图案形成材料，在具有380500nm的波长区域且该波长区域中的至少一波长的能量强度在1X10一Vw/cm2/nm以下的光源下，进行了曝光、显影的实施例16的图案与比较例14的图案相比较，高精细。尤其，380500nm的波长区域中的至少一波长的能量强度在0.25Xl(TVW/cmVnm以下，且最大能量波长(X)中的对应每lnm的能量累积量(Y)满足1ogY^0.0510X—22.0042的实施例15中，确认了即使长时间照射安全灯，敏感度变化也只有一点点，且可以形成高精细的图案。工业上的可利用性本发明的图案形成方法，良好地抑制因安全灯等光源的图案形成材料的敏感度变化，保存稳定性优良，可以高精细且有效地形成布线图案等永久图案，因此可适用于需要高精细的曝光的各种图案的形成等，尤其可适用于高精细的图案的形成。3权利要求1.一种图案形成方法，其特征在于，使用具有支承体和在该支承体上的至少在350～500nm下显示感光特性的感光层，且能量敏感度为1～20mJ/cm2的图案形成材料，在具有380～500nm的波长区域且该波长区域内的至少一个波长的能量强度在1×10-2μW/cm2/nm以下的光源下，进行向基材表面叠层感光层的叠层工序、和该叠层工序至曝光前的工序中的至少一工序。2.根据权利要求l所述的图案形成方法，其中，380500nm的波长区域中的每lnm的能量累积量满足下述数学式1，<数学式1>logYS0.0510X_22.0042其中，上述数学式l中，Y表示能量累积量(mJ/cmVnm)，X表示波长(nm)。3.根据权利要求12中任意一项所述的图案形成方法，其中，对叠层在基材表面上的感光层进行曝光并显影。4.根据权利要求13中任意一项所述的图案形成方法，其中，利用具有n个接受并射出来自光照射机构的光的描绘部的光调制机构，使来自所述光照射机构的光调制后，使所述光通过排列有具有可对由所述描绘部中的射出面的变形而导致的像差进行修正的非球面的微透镜的微透镜阵列，对感光层进行曝光并显影。5.根据权利要求13中任意一项所述的图案形成方法，其中，利用具有n个接受并射出来自光照射机构的光的描绘部的光调制机构，使来自所述光照射机构的光调制后，使所述光通过排列有具有不使来自所述描绘部的周边部的光入射的透镜开口形状的微透镜的微透镜阵列，对感光层进行曝光并显影。6.根据权利要求5所述的图案形成方法，其中，微透镜阵列具有可对由描绘部中的射出面的变形而导致的像差进行修正的非球面。7.根据权利要求46中任意一项所述的图案形成方法，其中，非球面为复曲面。8.根据权利要求47中任意一项所述的图案形成方法，其中，光调制机构可根据图案信息对n个描绘部中的连续配置的任意的少于n个的所述描绘部进行控制。9.根据权利要求48中任意一项所述的图案形成方法，其中，光调制机构是空间光调制元件。10.根据权利要求9所述的图案形成方法，其中，空间光调制元件是数字微反射镜设备(DMD)。11.根据权利要求110中任意一项所述的图案形成方法，其中，曝光通过孔阵列进行。12.根据权利要求111中任意一项所述的图案形成方法，其中，使曝光光与感光层进行相对地移动的同时进行曝光。13.根据权利要求112中任意一项所述的图案形成方法，其中，进行显影后，进行永久图案的形成。14.根据权利要求13所述的图案形成方法，其中，永久图案是布线图案，该永久图案的形成通过蚀刻处理及镀敷处理的至少任意一种进行。15.根据权利要求114中任意一项所述的图案形成方法，其中，光照射机构可以合成2种以上的光进行照射。16.根据权利要求115中任意一项所述的图案形成方法，其中，光照射机构具有多个激光器、多模式光学纤维、和对从该多个激光器分别照射的激光进行集光并与所述多模式光学纤维结合的集合光学系。17.根据权利要求116中任意一项所述的图案形成方法，其中，感光层包含粘合剂、聚合性化合物、和光聚合引发剂。全文摘要本发明提供良好地抑制因安全灯等光源的图案形成材料的敏感度变化，保存稳定性优良，可以高精细且有效地形成布线图案等永久图案的图案形成方法。由此提供一种图案形成方法，其使用具有支承体和该支承体上的至少在350～500nm下显示感光特性的感光层，且能量敏感度为1～20mJ/cm²的图案形成材料，在具有380～500nm的波长区域，且该波长区域中的至少一个波长的能量强度在1×10^-2μW/cm²/nm以下的光源下，进行向基材表面的感光层的叠层工序、和该叠层工序和直到曝光前的工序中的至少一个工序。文档编号G03F7/38GK101167021SQ20068001452公开日2008年4月23日申请日期2006年4月12日优先权日2005年4月28日发明者佐藤守正,芹泽慎一郎申请人:富士胶片株式会社